一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示面板技术

技术编号:8270825 阅读:164 留言:0更新日期:2013-01-31 02:49
本发明专利技术实施例提供了一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示面板,涉及液晶显示领域,能够改善液晶显示中的残像等不良现象。所述彩膜基板包括基板、设置在所述基板一表面上的偏振片及设置在所述基板另一表面上的彩膜层,在所述彩膜层上还设置有:光防护层,所述光防护层减少经由所述光防护层射入所述彩膜基板的光线的被所述彩膜基板反射回的光线。本发明专利技术可用于液晶显示。

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶显示领域,尤其涉及一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示面板
技术介绍
液晶显示面板由阵列基板、液晶及彩膜基板对盒形成。位于阵列基板侧的背光源为液晶显示面板提供光线,该光线通过液晶显示面板中的液晶偏转后射出,以显示图像。然而,背光源提供的光线并不是全部透射出液晶显示面板的,在光线进入液晶显示面板后,部分光线会被彩膜基板中的彩膜层、ITO (Indium Tin Oxides,氧化铟锡)金属层和偏振片等结构反射回来,并射回到阵列基板上。此时,反射光中的紫外线会照射阵列基板上的薄膜晶体管,导致薄膜晶体管中产生光电流,影响液晶显示面板的显示功能。尤其在液晶显示面板处于关断状态时,这种影响更为明显,会使液晶显示面板出现残像。
技术实现思路
本专利技术的实施例的主要目的在于,提供一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示面 板,能够改善液晶显示中的残像等不良现象。为达到上述目的,本专利技术的实施例采用如下技术方案一种彩膜基板,包括基板、设置在所述基板一表面上的偏振片及设置在所述基板另一表面上的彩膜层,在所述彩膜层上还设置有光防护层,所述光防护层减少经由所述光防护层射入所述彩膜基板的光线的被所述彩膜基板反射回的光线。—种液晶显示面板,所述液晶显示面板包括本专利技术实施例提供的所述彩膜基板;与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板;和设置在所述彩膜基板和所述阵列基板中间的液晶。一种本专利技术实施例提供的所述彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括提供基板;在所述基板的一表面上形成彩膜层;在所述彩膜层上形成光防护层;在所述基板的另一表面上贴覆偏振片。本专利技术实施例提供的彩膜基板及其制备方法、液晶显示面板,在所述彩膜基板的彩膜层上还设置有光防护层,该光防护层能够减少经由所述光防护层射入所述彩膜基板的光线的被所述彩膜基板反射回的光线,从而能够保护与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板上的薄膜晶体管免受紫外光和蓝光的照射,进而避免薄膜晶体管因紫外光和蓝光的照射而产生光电流,改善液晶显示面板的残像等不良现象。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图I为本专利技术一个实施例提供的液晶显示面板的结构示意图;图2为现有技术中液晶显不面板的结构不意图;图3为本专利技术另一实施例提供的液晶显示面板的结构示意图;图4为本专利技术另一实施例提供的液晶显示面板的结构示意图;图5为本专利技术另一实施例提供的液晶显示面板的结构示意图; 图6为本专利技术一个实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图;图7为本专利技术另一实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图。具体实施例方式下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。下面结合附图对本专利技术实施例提供的彩膜基板及液晶显示面板进行详细描述。本专利技术实施例提供了一种液晶显示面板,如图I所示,该液晶显示面板包括彩膜基板10、与所述彩膜基板10对盒设置的阵列基板20和设置在所述彩膜基板10和所述阵列基板20中间的液晶30。其中,所述彩膜基板10包括基板101、设置在所述基板101 —表面上的偏振片102及设置在所述基板101另一表面上的彩膜层103。所述彩膜层103包括红、绿、蓝子像素(图中依次显示为1031、1032、1033),还可设置有黑矩阵1034,也可以根据本领域公知常识或常用技术手段将黑矩阵1034设置在彩膜基板10的其他层上。所述阵列基板20上设置有薄膜晶体管201。黑矩阵1034设置在与薄膜晶体管201相对的位置。如图I所示,在所述彩膜层103上还设置有光防护层104。所述光防护层104为一种光学元件,能够减少经由所述光防护层104射入彩膜基板10的光线的被彩膜基板10反射回的光线,所述光线主要为紫外光和蓝光。其中,在液晶显示面板的工作状态下,背光源发出光线1,依次射入阵列基板20、液晶30和彩膜基板10。背光源发出的光线I经由所述光防护层104射入彩膜基板10中,光线在入射的同时,会在彩膜基板10中的偏振片102、彩膜层103等元件处发生反射,反射光线3会朝向阵列基板20射回。光防护层104能够减少被彩膜基板10反射回的光线3。该减少的光线主要是使薄膜晶体管201产生光电流的紫外光和蓝光等。由于黑矩阵1034与薄膜晶体管201在位置上相对设置,因此光防护层104尤其能够减少黑矩阵1034朝向薄膜晶体管201反射的紫外光或蓝光。与图2示出的现有技术中的液晶显示面板的结构相比,本专利技术实施例中的光防护层104可以减少大部分从彩膜基板10反射回阵列基板20的光线3,尤其是紫外光和蓝光。此外,可以理解的是,除基板101、偏振片102、彩膜层103、光防护层104之外,彩膜基板10还可包括的其他功能元件或层等,本专利技术实施例对此不作限定。例如对于FFS(Fringe Field Swithing,边缘场转换)模式的液晶显示面板而言,可在彩膜基板10中设置有公共电极ITO。本专利技术实施例提供的液晶显示面板,在彩膜层103上设置有光防护层104,能够减少经由所述光防护层104射入彩膜基板10的光线的被彩膜基板10反射回的紫外光和蓝光3等,使得与彩膜基板10对盒设置的阵列基板20上的薄膜晶体管201免受紫外光和蓝光的干扰,防止薄膜晶体管201上产生光电流,进而避免液晶显示面板的残像等显示问题。在液晶显示面板关断状态时,光防护层104的作用更加明显。进一步的,在本专利技术提供的一个实施中,如图3所示,光防护层104包括抗反射层1041,所述抗反射层1041减少所述彩膜层103反射出的紫外光和蓝光。需要说明的是,所述抗反射层1041主要增加入射光线中的紫外光或蓝光在彩膜 层103上的入射光2强度,减少入射光线中的紫外光或蓝光在彩膜层103上的反射光3强 度。本专利技术实施例提供的液晶显示面板,所述光防护层104进一步包括抗反射层1041,所述抗反射层1041能够减少紫外光或蓝光在彩膜层103处的反射光3强,进而保护与彩膜基板10对盒设置的阵列基板20上的薄膜晶体管201免受紫外光和蓝光的干扰,防止薄膜晶体管201上产生光电流,进而避免液晶显示面板的残像等显示问题。由于黑矩阵1034与薄膜晶体管201在位置上相对设置,因此抗反射层1041尤其能够减少黑矩阵1034朝向薄膜晶体管201反射的紫外光或蓝光3。在液晶显示面板关断状态时,光防护层104的作用更加明显。具体的,在本专利技术提供的一个实施例中,所述抗反射层1041的光学厚度为紫外光或蓝光波长的四分之一,以针对入射光线中紫外光或蓝光,实现其在彩膜层103上的入射强度的增加及反射强度的减少。具体的,在本专利技术提供的一个实施例中,所述抗反射层1041为单层结构,所述单层结构包括A1203、SiOx, MgF2和AlF2中的任一种。具体的,在本专利技术提供的另一个实施例中,所述抗发射层1041为折射率连续变化的多层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板,包括基板、设置在所述基板一表面上的偏振片及设置在所述基板另一表面上的彩膜层,其特征在于,在所述彩膜层上还设置有:光防护层,所述光防护层减少经由所述光防护层射入所述彩膜基板的光线的被所述彩膜基板反射回的光线。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板,包括基板、设置在所述基板一表面上的偏振片及设置在所述基板另一表面上的彩膜层,其特征在于,在所述彩膜层上还设置有 光防护层,所述光防护层减少经由所述光防护层射入所述彩膜基板的光线的被所述彩膜基板反射回的光线。2.根据权利要求I所述的彩膜基板,其特征在于,所述光防护层包括 抗反射层,所述抗反射层减少所述彩膜层反射出的紫外光或蓝光。3.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述抗反射层的光学厚度为紫外光或蓝光波长的四分之一。4.根据权利要求I所述的彩膜基板,其特征在于,所述抗反射层为单层结构,所述单层结构包括A1203、SiOx, MgF2和AlF2中的任一种。5.根据权利要求I所述的彩膜基板,其特征在于,所述抗反射层为折射率连续变化的多层结构。6.根据权利要求1-5任一项所述的彩膜基板,其特征在于,所述光防护层包括 防紫外线层,所述防紫外线层阻挡被所述偏振片反射的紫外光。7.根据权利要求6所述的彩膜基板,其特征在于,所述光防护层包括抗反射层和防紫外线层; 所述防紫外线层设置在所述彩膜层上; 所述抗反射层设置在所述防紫外线层上。8.根据权利要求7所述的彩膜基板,其特征在于, 所述彩膜基板还包括氧化铟锡层; 所述氧化铟锡层设置在所述彩膜层和所述防紫外线层之间。9.根据权利要求7所述的彩膜基板,其特征在于, 所述彩膜基板还包括保护层; 所...

【专利技术属性】
技术研发人员:马新利王强涛
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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