【技术实现步骤摘要】
本技术涉及应用于光刻工艺中的光刻胶涂敷装置，特别涉及一种胶泵。
技术介绍
目前，半导体制造在光刻工艺中使用胶泵将光刻胶均匀涂敷于晶圆上完成光刻工艺的重要一环，还在许多其它工艺中广 泛使用胶泵来完成诸多其它药液的涂布，如显影液分配、旋涂玻璃、扩散源涂布、聚酰亚胺涂布等等，每种工艺都要求胶泵在药液分配的精确计量、过程精确控制、重复精度、易操作和易维护等方面有极好的性能与表现。现有的胶泵体积较大。卡箍设于过滤单元的下部。更换滤芯时，先要拧开用螺丝固定的卡箍，然后将过滤单元倒过来，利用工具拔出滤芯，更换滤芯很不方便。
技术实现思路
根据本技术的一个方面，提供了胶泵。其包括支架、泵体和过滤单元。所述泵体和过滤单元装设于支架上。所述过滤单元包括外壳和滤芯。还包括连接件。所述过滤单元的外壳为上下两部分，即第一部分和第二部分。所述连接件卡设于第一部分和第二部分的连接处。在一些实施方式中，所述外壳上下两部分连接处设于滤芯的上方。方便将第二部分取下，更换滤芯。在一些实施方式中，所述连接件采用U型螺栓卡箍。只需将螺栓拧开就能打开卡箍，简单便捷。在一些实施方式中，还包括微处理器控制单元，所述微...
【技术保护点】
胶泵，包括支架、泵体和过滤单元，所述泵体和过滤单元装设于支架上，所述过滤单元包括外壳和滤芯，其特征在于，还包括连接件，所述过滤单元的外壳为上下两部分，即第一部分和第二部分，所述连接件卡设于第一部分和第二部分的连接处。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：沈培宏，
申请(专利权)人：无锡宏源芯盛半导体科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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