一种太阳能电池硅片清洗液及其使用方法技术

本发明专利技术属于半导体制造工艺中的硅片清洗技术领域，具体提供了一种太阳能电池硅片清洗液及使用方法。该太阳能电池硅片清洗液由硝酸、氢氟酸及去离子水混合配置而成；使得清洗液中硝酸的质量百分浓度为40%～60%，氢氟酸的质量百分浓度为0.025%～0.08%，余量为去离子水。该硅片清洗液的使用方法是：先用去离子水浸泡清洗硅片，再用该清洗液浸泡清洗。本发明专利技术不仅可以有效的去除硅片表面的有机、无机污染，而且可以去除附着在硅片表面的金属、非金属颗粒，从而提高了太阳能电池片的优质率与效率。本发明专利技术的清洗液配方简单，清洗效果好，且清洗方法简单，清洗时间短，清洗需要的温度不高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种半导体制造工艺中的硅片清洗
，尤其是涉及此种硅片清洗液的配制以及使用该清洗液清洗硅片的方法。
技术介绍
随着常规能源的日益枯竭，清洁方便的太阳能越来越受到人们的关注。在太阳能电池制造工艺中，硅片作为太阳能电池的核心部件，其各项性能参数直接影响太阳能电池的发电效率。太阳能电池的制备过程一般为前道化学预处理、扩散制备PN结、去边结处理、去磷硅玻璃、镀氮化硅薄膜、丝网印刷与烧结处理，其中前道化学预处理工艺包括硅片清洗工艺和制绒工艺。硅片清洗的好坏对后期制绒影响极大。好的绒面能提高太阳能电池 对入射光的吸收效率，提高太阳能电池的发电效率，反之亦然。因此，硅片清洗的好坏对太阳能电池性能有着极大的影响。一般来说，用于制备太阳能电池的硅片是由硅棒切割而成。目前工业中通常使用线切割技术，高速运动的金属切割线在辅助液、粘合剂的辅助下将硅棒切割成厚度为200微米左右的硅片。通常情况下，硅片表面会存在各种污染物，这些污染物一般来源于切割线与硅片磨损产生的金属颗粒、硅颗粒，切割过程中使用的辅助剂、粘合剂残留，以及搬运过程中的各种污染物沉淀等。在硅片储存、运输的过程中，由于污染物残留本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种太阳能电池硅片清洗液，其特征在于，由硝酸、氢氟酸、去离子水混合配制而成，使得清洗液中硝酸的质量百分浓度为40%~60%，氢氟酸的质量百分浓度为0.025%~0.08%，余量为去离子水。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周子游，刘贤金，
申请(专利权)人：湖南红太阳光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：