用于电子材料的清洁液组合物制造技术

本发明专利技术公开一种清洁液组合物，基于组合物的总重量，包含：0.05～20wt％碱性化合物、0.1～40wt％水溶性极性有机溶剂、0.01～10wt％有机磷酸化合物、0.01～10wt％聚羧酸类共聚物、0.001～10wt％烷醇胺盐、0.001～10wt％唑类化合物，及其余为水。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于平板显示器(FPD)的基板的清洁液组合物，该平板显示器包括液晶显示器、等离子体显示器、柔性显示器等。本申请要求2010年5月19日递交的韩国专利申请第10-2010-0046886号的权益， 在此其全部内容通过引用并入本申请中。
技术介绍
如同半导体装置一样，通常由液晶显示器代表的FPD通过膜形成、曝光、线路蚀刻等制造。在这些步骤中，诸如各种有机或无机材料等尺寸不大于I U m的颗粒，本身可能附着在基板表面上，造成基板污染。如果基板以其上附着有这种污染物的状态进行后续步骤，可能存在膜的针孔或坑、以及线路的切断或桥接，大大地降低产品的生产率。因此在各个步骤之间进行用于除去污染物的清洁步骤，为此引入各种清洁液。韩国专利申请第10-2008-7003568号公开一种用于半导体装置的清除剂组合物，该组合物包含有机胺、有机膦酸、线形糖醇，及其余为水。然而，所述清除剂有限地用于半导体装置，因此难以应用于各种领域。此外，所述清除剂不能防止由铜(Cu)和Cu合金制成的线路被腐蚀，因此难以应用于包括由Cu或Cu合金制成的线路的FPD装置。韩国专利第10-0503231号公开一种本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.05.19 KR 10-2010-00468861.一种清洁液组合物，基于组合物的总重量，包含0. 05 20被％碱性化合物、O. I 40Wt%水溶性极性有机溶剤、O. 01 IOwt^有机磷酸化合物、O. 01 IOwt^聚羧酸类共聚物、O. 001 10wt%烷醇胺盐、O. 001 10 丨％唑类化合物和其余的水。2.根据权利要求I所述的清洁液组合物，其中所述碱性化合物为选自由四甲基氢氧化铵(TMAH)、四こ基氢氧化铵(TEAH)、四丙基氢氧化铵(TPAH)、四丁基氢氧化铵(TBAH)、甲胺、こ胺、单异丙胺、ニこ胺、ニ异丙胺、ニ丁胺、三甲胺、三こ胺、三异丙胺、三丁胺、胆碱、单こ醇胺、ニこ醇胺、2-氨基こ醇、2-(こ氨基)こ醇、2-(甲氨基)こ醇、N-甲基ニこ醇胺、ニ甲氨基こ醇、ニこ氨基こ醇、次氨基三こ醇、2- (2-氨基こ氧基)こ醇、I-氨基-2-丙醇、三こ醇胺、单丙醇胺和ニ丁醇胺组成的组中的ー种或多种。3.根据权利要求I所述的清洁液组合物，其中所述水溶性极性有机溶剂为选自由N-甲基吡咯烷酮(NMP)、1，3_ ニ甲基-2-咪唑啉酮(DMI)、ニ甲基亚砜(DMSO)、ニ甲基こ酰胺(DMAc)、ニ甲基甲酰胺(DMF)、四氢糠醇、异佛尔酮、己ニ酸ニこ酷、戊ニ酸ニ甲酷、环丁砜和Y-丁内酯(GBL)组成的组中的ー种或多种。4.根据权利要求I所述的清洁液组合物，其中所述有机磷酸化合物为选自由氨基三(亚甲基膦酸)、こ叉ニ膦酸、I-羟基こ叉-I，I-ニ膦酸、I-羟基丙叉-I，I-ニ膦酸、I-羟基丁叉-1，I-ニ膦酸、こ氨基ニ(亚甲基膦酸)、1，2_丙ニ胺四(亚甲基膦酸)、十二烷氨基ニ(亚甲基膦酸)、硝基三(亚甲基膦酸)、こニ胺ニ(...

【专利技术属性】
技术研发人员：房淳洪，尹嚆重，洪宪杓，金炳默，
申请(专利权)人：东友FINECHEM股份有限公司，
类型：
国别省市：