导光板及其制造方法技术

本发明专利技术公开一种导光板及其制造方法，导光板包含具有入光侧的主体，设置于入光侧的多个主微结构，以及分布于该些主微结构表面的多个次微结构。该些次微结构的最大尺寸小于100nm且大于0nm。利用次微结构有效降低光的全反射现象，避免光入射至导光板时的漏失，并且，增大光入射至导光板的发散角度，减缓因光束集中于光源前端造成导光板的出光面出现亮暗带的现象。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
现有的背光模块中，可举例以发光二极管作为点状光源的侧射入光式光源结构。如此的光源结构中，因多个发光二极管距离预定间隔排列设置，各发光二极管发出的光是于发光二极管正前方形成光束，相形之下，相邻的发光二极管之间的亮度较暗。如此的光进入导光板时，会于导光板的出光面造成亮暗带的现象。 对此，现有技术中，于导光板的入光侧设置凹沟以使入光侧形成棱镜结构或透镜结构等的主微结构，藉此，使光入射至导光板的发散角度增加，减缓上述亮暗带的现象。然而，如此的结构仅能增加光入射至导光板的发散角度，并无法消除光的全反射现象。即光源所发出的光中，其一部分是因全反射现象而漏失而未入射至导光板。
技术实现思路
对此，本专利技术的目的在于提供一种，利用纳米级的次微结构，有效降低光的全反射现象，避免光入射至导光板时的漏失，并且，增大光入射至导光板的发散角度，减缓因光束集中于光源前端造成导光板的出光面出现亮暗带的现象。为了达到上述目的，本专利技术提供一种导光板，其包含具有入光侧的主体，设置于入光侧的多个主微结构，以及分布于该些主微结构表面的多个次微结构。该些次微结构的最大尺寸小于IOOnm且大于Onm。上述导光板中，该些主微结构可为棱镜结构。此时，棱镜结构的尖端的角度以介于10度至50度之间为佳。上述导光板中，该些次微结构的最大尺寸以介于20nm至IOOnm之间为佳。而多个次微结构的分布可呈矩阵分布或蜂巢状分布。另外，本专利技术还提供一种导光板的制造方法，其包含提供具有入光侧的主体，形成具有第一表面以及与该第一表面相对之第二表面的微结构基材，以及将微结构基材以第二表面固定于入光侧之步骤。微结构基材于第一表面形成包含多个次微结构的多个主微结构，该些次微结构最大尺寸小于IOOnm且大于Onm,分布于主微结构上。上述制造方法中，形成微结构基材的步骤包含形成第一模具，以及形成第二模具的步骤。其中第一模具用以形成主微结构，第二模具形成于第一模具上，用以形成次微结构。此时，于形成第二模具之后，还化学抛光处理第二模具为佳。上述制造方法中，形成微结构基材的步骤可选自涂布UV胶、射出、热压塑胶成形技术。另外，可形成连续延伸的微结构基材之后，再裁切微结构基材。以下结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述，但不作为对本专利技术的限定。附图说明以下各图中绘示的各元件的尺寸(长、宽、厚度等)仅为示意表示，只要在下述权利要求范围中所界定的数值范围内，各元件的实际尺寸可对应需要，适当地决定。图I为本专利技术的导光板一实施例的示意图；图2为图I的导光板的立体分解图；图3为次微结构的一例的放大图；图4为次微结构的另一例的放大图；图5为形成微结构基材的示意图；图6为裁切微结构基材的示意图。 其中，附图标记10 :导光板100 :主体101 :入光侧200 :微结构基材300 :片状基材201 :第一表面202 :第二表面 203 :尖端210 :主微结构 220 :次微结构700 :基板710 :第一模具720 :第二模具 721 :化学抛光处理P :最大尺寸具体实施例方式下面结合附图对本专利技术的结构原理和工作原理作具体的描述图I为本专利技术的导光板一实施例的不意图。如图I所不，导光板10包含具有入光侧的主体100，设置于入光侧的多个主微结构210，以及分布于该些主微结构210表面的多个次微结构220 (参阅图3、图4)。图2为图I的导光板的立体分解图。如图2所示，导光板10包含主体100以及微结构基材200。主体100是具有接受光进入的入光侧101。主体100可利用预定的制造法，利用预定的材料，依预定的长、宽、厚度规格制作。微结构基材200是对应于主体100的尺寸，利用预定的材料而制作，以与主体100入光侧101的厚度、宽度略同为较佳，并具有第一表面201，以及与第一表面201相对的第二表面202。第一表面201是接受光源照射的一面,第二表面202是用以固定于入光侧101。微结构基材200包含设置于第一表面201的多个主微结构210。该些主微结构210之间形成V字形、U字形或圆弧形的凹沟，藉此，该些主微结构210成为各图所示的棱镜结构，或者其他各种例的透镜结构。此时，该些主微结构210的尖端203的角度以介于10度至50度之间为佳。微结构基材200还包含多个次微结构220,分布于该些主微结构210表面(参阅图3、图4)。该些次微结构220是利用与主微结构210相同的材料，于形成主微结构210的同时形成于主微结构210的表面。图3、图4是图I、图2的虚线圈所标示位置中的次微结构的不同实施例的放大图。图3所示的多个次微结构220是呈蜂巢状分布而形成，图4所示的多个次微结构220是呈方眼矩阵状分布而形成。各次微结构220可为纳米级的凸起或凹陷。图3、图4中是以圆形表示各次微结构220，但不限于此，只要各次微结构220的中最宽处的距离(以下简称为最大尺寸)P小于IOOnm且大于Onm，则不限制次微结构220的形状，另外，各次微结构220的最大尺寸P以介于20nm至IOOnm之间为佳。如图所示，该些次微结构220的分布可呈矩阵分布、蜂巢状分布，但不限于此而也可为其他例的分布。不论分布例为何，该些次微结构220以均匀分布于该些主微结构210较佳，以使光能均匀分布。以下，说明本专利技术的导光板的制造方法。制作本专利技术的导光板10时，首先，提供具有入光侧101的主体100。如上所述，主体100可利用预定的制造法，利用预定的材料，依预定的长、宽、厚度等规格制作。接着，形成微结构基材200。微结构基材200具有第一表面201,以及与第一表面201相对的第二表面202。于第一表面201形成多个主微结构210。该些主微结构210可形 成各种棱镜结构，或者各种例的透镜结构。于形成主微结构210的同时,也于主微结构210的表面形成多个次微结构220。该些次微结构220是最大尺寸P小于IOOnm且大于Onm，分布于该些主微结构210上。之后，将微结构基材200以第二表面202固定于导光板主体100的入光侧101,完成本专利技术的导光板10。图5是形成微结构基材的示意图，详细地，形成微结构基材200时还包含如图5所示的各步骤。首先，于步骤SlO中提供一基板700。基板700可为招材等的金属基板。接着，于步骤S20中形成第一模具710。此第一模具710是用以形成该些主微结构210。此步骤S20中，可利用超精密加工法，制作形成主微结构210的各种棱镜、透镜结构的模具作为第一模具710。步骤S30中，还于第一模具710上形成第二模具720。此第二模具720是用以形成该些次微结构220。此步骤S30中，可对于第一模具710进行阳极处理，生成纳米级的凸起或凹陷氧化膜(图5中仅表示凹陷氧化膜)。该些凸起或凹陷氧化膜的最大尺寸是小于IOOnm且大于Onm,而以介于20nm至IOOnm之间为较佳。此时,可使该些凸起或凹陷氧化膜依矩阵分布、蜂巢状分布或者其他例的分布，均匀地分布排列。步骤S40中，还对于第一模具710及第二模具720进行化学抛光处理721，使模具表面精致。步骤S50中，利用涂布UV胶、射出、热压塑胶成形等的现有方法，于化学抛光面721上填入形成微结构基材200的材料。此时，利用第一模具710形成主微结构本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种导光板，其特征在于，包含：一主体，具有一入光侧；多个主微结构，设置于该入光侧；以及多个次微结构，分布于该些主微结构表面，该些次微结构的最大尺寸小于100nm且大于0nm。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：潘昆志，胡清渊，张忠兴，
申请(专利权)人：景智电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：