金属遮罩制造技术

本发明专利技术提供一种金属遮罩，包含遮罩区段及端部区段。遮罩区段具有遮罩本体以及外框部围绕连接遮罩本体。端部区段连接遮罩区段的一端。遮罩区段及端部区段至少其一上形成有至少一凹陷部位于遮罩本体之外。凹陷部内的容积总和与遮罩区段及端部区段的体积总和的比值介于0.087至0.667之间。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种金属遮罩，包含遮罩区段及端部区段。遮罩区段具有遮罩本体以及外框部围绕连接遮罩本体。端部区段连接遮罩区段的一端。遮罩区段及端部区段至少其一上形成有至少一凹陷部位于遮罩本体之外。凹陷部内的容积总和与遮罩区段及端部区段的体积总和的比值介于0.087至0.667之间。【专利说明】金属遮卓
本专利技术关于一种金属遮罩；具体而言，本专利技术关于一种具抗拉力设计的金属遮罩。
技术介绍
由于有机发光二极管显示器的低耗电、厚度薄及自发光等特性，近年来备受重视。在有机发光二极管显示器制作工艺中，蒸镀过程的品质好坏将直接影响有机发光二极管显示器的合格率，其中，金属遮罩是蒸镀过程的重要元件之一。图1为传统金属遮罩10俯视图，如图1所示，传统金属遮罩10为一狭长薄片，在延长方向上具有数个遮罩本体12。在蒸镀过程中，每一遮罩本体12的位置对应一个基板。遮罩本体12具有许多细微的孔洞结构，使蒸镀时能让液晶分子通过孔洞结构而在基板上形成镀膜，并形成特定的排列形状。由此可知，在蒸镀时保持传统金属遮罩10的表面平整及水平放置与有机发光二极管显示器的合格率密切相关。如图1所示，进行蒸镀之前，为了使传统金属遮罩10表面平整及保持水平放置，传统金属遮罩10两端受夹具14施予张力(如图1箭头方向所示)，薄片状的传统金属遮罩10因拉伸作用而在宽度方向产生压缩应力。然而，当拉伸力超过临界值时，宽度方向上的应力过大而使得传统金属遮罩10表面出现皱折。一旦金属遮罩表面起皱，由于平整度改变，势必影响液晶分子通过遮罩本体12的路径，造成蒸镀品质不良。为了避免上述平整度改变的情形，传统金属遮罩的结构仍有待改进。
技术实现思路
本专利技术的目 的在于提供一种金属遮罩，以减少金属遮罩在蒸镀时因拉伸而产生皱折的情形。金属遮罩包含遮罩区段及端部区段。遮罩区段具有遮罩本体以及外框部围绕连接遮罩本体。端部区段连接遮罩区段的一端。遮罩区段及端部区段至少其一上形成有至少一凹陷部位于遮罩本体之外。凹陷部内的容积总和与遮罩区段及端部区段的体积总和的比值介于0.087至0.667之间。上述的遮罩，其中这些凹陷部包含至少一遮罩区段凹陷部形成于该外框部的表面，这些遮罩区段凹陷部内的容积总和与该遮罩区段的体积的比值介于0.087至0.667之间。上述的遮罩，其中该遮罩区段形成为长条形，部分这些遮罩区段凹陷部沿该遮罩区段的延长方向延伸并位于该遮罩本体的两侧。上述的遮罩，其中该遮罩区段形成为长条形，部分这些遮罩区段凹陷部横切该遮罩区段的延长方向延伸并位于相邻该遮罩本体之间。上述的遮罩，其中这些凹陷部包含至少一端部区段凹陷部形成于该端部区段的表面，这些端部区段凹陷部内的容积总和与该端部区段的体积的比值介于0.087至0.667之间。上述的遮罩，其中该遮罩区段及该端部区段具有共同的一蒸镀面及与该蒸镀面相背的一背面，至少部分该凹陷部形成于该蒸镀面上。上述的遮罩，其中该遮罩区段及该端部区段具有共同的一蒸镀面及与该蒸镀面相背的一背面，至少部分该凹陷部形成于该背面上。上述的遮罩，其中该遮罩区段及该端部区段具有共同的一蒸镀面及与该蒸镀面相背的一背面，至少部分该凹陷部内含多个穿孔贯穿该蒸镀面及该背面。上述的遮罩，其中该遮罩区段及该端部区段具有共同的一蒸镀面及与该蒸镀面相背的一背面，至少部分该凹陷部形成于该蒸镀面上，至少部分该凹陷部形成于该背面上并与形成于该蒸镀面上的这些凹陷部相对。上述的遮罩，其中分别形成于该蒸镀面及该背面的相对这些凹陷部具有相异深度。上述的遮罩，其中该遮罩区段及该端部区段具有共同的一蒸镀面及与该蒸镀面相背的一背面，相邻的这些凹陷部分别形成于该蒸镀面及该背面上。上述的遮罩，其中该遮罩区段及该端部区段具有共同的一蒸镀面及与该蒸镀面相背的一背面，相邻的这些凹陷部分别形成于该蒸镀面及该背面之一上及具有多个穿孔贯穿该蒸镀面及该背面。与现有技术相比，本专利技术中凹陷部可设置在遮罩区段及端部区段，使金属遮罩具有不同的厚度，并借此改变金·属遮罩应力分布，以降低皱折发生情形，同时使金属遮罩保持平整以提高生产合格率。【专利附图】【附图说明】图1为传统金属遮罩俯视图；图2A为本专利技术金属遮罩俯视图；图2B及图2D为凹陷部的实施例放大剖视图；图3为凹陷部体积大小与皱折程度的关系图；图4A至图4C为凹陷部的不同实施例放大剖视图；图5为不同种类凹陷部产生皱折程度的比较图；图6为本专利技术金属遮罩的另一实施例俯视图；图7为本专利技术金属遮罩的另一实施例俯视图。其中，附图标记:100金属遮罩102背面104蒸镀面110遮罩区段112遮罩本体114外框部120端部区段130凹陷部132遮罩区段凹陷部134端部区段凹陷部136穿孔a延长方向b宽度方向【具体实施方式】本专利技术的金属遮罩通过表面上形成凹陷部而使金属遮罩具有不同的厚度分布，同时使金属遮罩受张力拉伸时的应力可以降低，因而减少皱折产生的情形。本专利技术的金属遮罩较佳可用于有机发光二极管显示器的蒸镀制作工艺 图2A为本专利技术金属遮罩100的俯视图。如图2A所示，金属遮罩100包含遮罩区段110及端部区段120。遮罩区段110指金属遮罩100的中间区段，包含数个遮罩本体112以及围绕连接遮罩本体112的外框部114。遮罩本体112蒸镀时对应基板的部分。金属遮罩100可依制作工艺所需而具有多个遮罩区段110并调整所需遮罩本体112的数量，其中，遮罩本体112沿金属遮罩100的延长方向a依一定间隔分布,而遮罩本体112的四周则为外框部114。另一方面，端部区段120指蒸镀时固定于夹具的部分。如图2A所示，端部区段120位于金属遮罩100延长方向a上的最外侧,且连接遮罩区段110的一端。另外,金属遮罩100位于遮罩本体112之外的表面上形成有凹陷部130。须注意的是，遮罩区段110及端部区段120具有共同的背面102及与背面102相背的蒸镀面104 (请参考图2B)，故凹陷部130所形成的表面包含背面102及其蒸镀面104。其中，背面102指面对基板的一面。凹陷部130的分布方式请参考图2B。图2B为凹陷部130沿AA方向的的放大剖视图。如图2B所示，凹陷部130较佳形成于背面102及蒸镀面104，且位于背面102及蒸镀面104的凹陷部130彼此相对，并具有相同的深度。借此厚度的改变，可降低金属遮罩100受拉力时的应力，以降低皱折发生情形。就比例而言，凹陷部130内的容积与挖空后端部区段120的体积的比值较佳介于0.087至0.667之间，即凹陷部130挖空的体积约占挖空前端部区段120体积的8%~40%，而端部区段120的体积约占挖空前端部区段120体积的60%~92%。另外，在图2A所示的实施例中，端部区段120的表面沿宽度方向b具有一个端部区段凹陷部134，但并不以此为限，端部区段凹陷部134的数量、形状及分布位置可视金属遮罩100的材质及长宽比因应调整。类似地，当端部区段120具有多个端部区段凹陷部134时，端部区段凹陷部134内的容积总和与端部区段120的体积的比值介于0.087至0.667之间。借此设计，金属遮罩100在蒸镀时可提高其表面平整度，以提高生产合格率，同时也延长金属遮罩100的使用寿命，降低制作工艺成本。此外，在图2B的实施例中，凹陷部1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属遮罩，供蒸镀制作工艺使用，其特征在于，包含：一遮罩区段，具有至少一遮罩本体以及一外框部围绕连接该遮罩本体；以及至少一端部区段，连接该遮罩区段的一端；其中，该遮罩区段及该端部区段至少其一上形成有至少一凹陷部位于该遮罩本体之外，这些凹陷部内的容积总和与该遮罩区段及这些端部区段的体积总和的比值介于0.087至0.667之间。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：许桀豪，谢丰仰，
申请(专利权)人：景智电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：