本发明专利技术提供一种彩色滤光片及其制作方法、制作彩色滤光片的材料、液晶显示面板及显示装置，属于液晶显示领域。所述制作方法包括：在基板上形成黑矩阵；在基板上涂覆像素树脂材料，所述像素树脂材料中添加有能够与所述像素树脂材料相溶的第一溶剂；对涂覆有像素树脂材料的基板进行第一热处理，使得像素树脂材料中的第一溶剂挥发形成微孔；采用刻画有图形的掩膜板对第一热处理后的基板进行曝光，并经显影和第二热处理后，形成像素树脂层的图形。本发明专利技术能够简化在彩色滤光片像素区开孔的工艺，从而降低生产成本。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶显示领域，尤其涉及ー种彩色滤光片及其制作方法、制作彩色滤光片的材料、液晶显示面板及显示装置。
技术介绍
为了实现彩色滤光片更高的透过率和亮度，现有技术中较多采用在彩色滤光片像素区域开孔的方式来实现。现有技术中，顔色开孔技术的实现是采用刻画有微孔图形的掩膜板，通过曝光、显影エ艺在像素树脂层(彩色树脂层)中形成微孔。此种开孔方式，エ艺复杂，而且需要制作特定的掩模板来实现像素区的开孔，成本较高。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供ー种彩色滤光片及其制作方法、液晶显示面板及显示装置，以简化在彩色滤光片像素区开孔的エ艺，从而降低生产成本。为解决上述技术问题，本专利技术提供技术方案如下ー种彩色滤光片的制作方法，包括在基板上形成黑矩阵；在基板上涂覆像素树脂材料，所述像素树脂材料中添加有能够与所述像素树脂材料相溶的第一溶剂；对涂覆有像素树脂材料的基板进行第一热处理，使得像素树脂材料中的第一溶剂挥发形成微孔；采用刻画有图形的掩膜板对第一热处理后的基板进行曝光，并经显影和第二热处理后，形成像素树脂层的图形。上述的制作方法，其中，还包括在黑矩阵和像素树脂层上形成透明导电层，以及，在透明导电层上形成柱状隔垫物；或者，在黑矩阵和像素树脂层上形成透明保护层，在透明保护层上形成透明导电层，以及，在透明导电层上形成柱状隔垫物。上述的制作方法，其中所述第一溶剂的沸点低于预定门限。上述的制作方法，其中所述预定门限为70°C。上述的制作方法，其中所述第一溶剂为こ醇、こ醚、戊烷、丙酮或氯仿。上述的制作方法，其中所述第一热处理的温度为90-100°C，时间为3-5分钟。上述的制作方法，其中所述第二热处理的温度为150_250°C，时间为20-60分钟。ー种制作彩色滤光片的材料，其特征在于包括滤色树脂和能够与所述滤色树脂相溶的第一溶剂，所述第一溶剂经热处理后可挥发并在所述滤色树脂中形成微孔。ー种彩色滤光片，包括基板，形成在所述基板上的黑矩阵和像素树脂层，其特征在于，所述像素树脂层中形成有微孔，所述微孔由上述的制作彩色滤光片的材料经热处理后得到。ー种液晶显示面板，包括上述的彩色滤光片。一种显示装置,包括上述的液晶显示面板。与现有技术相比，本专利技术通过将能够与像素树脂材料相溶的溶剂混合在像素树脂材料中，在前烘过程中利用溶剂的挥发在像素树脂层上形成微孔。该方法只需在现有彩色滤光片生产エ艺的前烘阶段延长前烘时间即可实现，简化了在像素区开孔的エ艺，从而降低了生产成本。附图说明图I为本专利技术实施例中彩色滤光片的俯视图； 图2为图I所示彩色滤光片的A-A’向剖面图；图3为本专利技术实施例中完成黑矩阵图形的彩色滤光片俯视图；图4为本专利技术实施例中完成像素树脂材料涂覆的彩色滤光片剖面图；图5为本专利技术实施例中完成像素树脂层的彩色滤光片剖面图；图6为本专利技术实施例中完成透明保护层的彩色滤光片剖面图；图7为本专利技术实施例中完成透明导电层的彩色滤光片剖面图；图8为本专利技术实施例的彩色滤光片的制作方法流程图。附图标记I-基板；2_黑矩阵；3_红色像素树脂层；4_緑色像素树脂层；5_蓝色像素树脂层；6-透明保护层；7_透明导电层；8_柱状隔垫物；9-微孔；10_溶剂分子具体实施例方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例对本专利技术进行详细描述。本专利技术实施例提供ー种彩色滤光片的制作方法，通过将能够与像素树脂材料相溶的溶剂混合在像素树脂材料中，在前烘过程中利用溶剂的挥发在像素树脂层上形成微孔。该方法只需在现有彩色滤光片生产エ艺的前烘阶段延长前烘时间即可实现，简化了在像素区开孔的エ艺，从而降低了生产成本。本专利技术实施例所形成的彩色滤光片的结构如图I和图2所示，包括基板I、形成在基板上的黑矩阵2、形成在黑矩阵2所围成的像素区域内的像素树脂层(包括红色像素树脂层3、緑色像素树脂层4和蓝色像素树脂层5)、形成在黑矩阵2和像素树脂层上的透明保护层6、形成在透明保护层6上的透明导电层7以及形成在透明导电层7上的柱状隔垫物8。其中，所述像素树脂层中开设有微孔9。參照图8，本专利技术实施例的彩色滤光片的制作方法，可以包括如下步骤步骤101 :在基板上形成黑矩阵，所述黑矩阵围成像素区域；基板可以采用玻璃基板或其他透明材料基板。如图3所示，可以在玻璃基板上旋涂或刮涂ー层黑矩阵用光刻胶，采用刻画有图形的掩膜板对基板进行曝光，然后，对曝光后的基板进行显影，得到黑矩阵的图形。其中，所述黑矩阵图形的厚度可以为l_5ym。步骤102 :将能够与像素树脂材料相溶的溶剂分散添加到像素树脂材料中；优选地，所述溶剂为低沸点溶剂，其沸点低于70°C，例如，可以采用こ醇、こ醚、戊烷、丙酮或氯仿。步骤103 :在形成有黑矩阵的基板上涂覆添加有溶剂的像素树脂材料；完成像素树脂材料涂覆的彩色滤光片的结构如图4所示，可以看出，像素树脂材料中有均匀分布的溶剤。步骤104 :对涂覆有像素树脂材料的基板进行热处理，使得像素树脂材料中的溶剂挥发形成微孔；此热处理即为光刻エ艺中的前烘过程，只是适当延长了前烘时间，使溶剂能够充分挥发。如图5所示，像素树脂材料中均匀分布的溶剂经热处理被挥发，从而形成了微孔。由于溶剂能够在像素树脂材料中均匀混合，所以能形成均匀的微孔。另外，还可以按照所需亮度来控制溶剂的添加量，即其浓度，来控制微孔的数量，进而实现亮度的控制。 其中，所述热处理温度可以为90-100°C，时间可以为3_5min。步骤105 :采用刻画有图形的掩膜板对热处理后的基板进行曝光，并经显影和热处理后，形成像素树脂层的图形；首先，采用刻画有图形的掩膜板对基板进行曝光，然后，对曝光后的基板进行显影和热处理(即后烘过程)后，便形成了含有微孔的像素树脂层的图形(如图5所示)。其中，所述热处理的温度可以为150_250°C，时间可以为20_60min。另外，上述步骤103 105可以反复进行，每执行一次步骤103 105，便形成ー种顔色的像素树脂层。例如可以先在基板上涂覆红色像素树脂层，按照上述方法形成红色像素树脂层的图形；然后，在基板上涂覆绿色像素树脂层，按照上述方法形成緑色像素树脂层的图形；最后，在基板上涂覆蓝色像素树脂层，按照上述方法形成蓝色像素树脂层的图形。步骤106 :在完成步骤105的基板上形成透明保护层；可以采用涂布、烘烤等エ艺来形成所述透明保护层(如图6所示)。步骤107 :在完成步骤106的基板上形成透明导电层；可以采用沉积或电镀的方式来形成所述透明导电层(如图7所示)，所述透明导电层的厚度可以为500-2000人。步骤108 :在完成步骤107的基板上形成柱状隔垫物。可以采用光刻エ艺来形成所述柱状隔垫物。具体地，在完成步骤107的基板上涂覆柱状隔垫物用光刻胶，通过曝光、显影エ艺，最終形成柱状隔垫物。所述柱状隔垫物与彩色滤光片相连的横截面直径可以为15-20 ym，所述柱状隔垫物悬空一端的横截面直径可以为5-10 u m ;所述柱状隔垫物的高度可以为5-10 u m (如图2所示)。另外，上述的步骤106和107可以根据具体情况进行取舎。例如，当彩色滤光片中不包括透明保护层时，则步骤106可以省略；当彩色滤光片中不包括透明导电层吋，则步骤107可以省略。本专利技术实施例还提供ー种制作彩色滤光片本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种彩色滤光层的制作方法，其特征在于，包括：在基板上形成黑矩阵；在基板上涂覆像素树脂材料，所述像素树脂材料中添加有能够与所述像素树脂材料相溶的第一溶剂；对涂覆有像素树脂材料的基板进行第一热处理，使得像素树脂材料中的第一溶剂挥发形成微孔；采用刻画有图形的掩膜板对第一热处理后的基板进行曝光，并经显影和第二热处理后，形成像素树脂层的图形。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：陆金波，张卓，赵明，刘宸，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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