【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ー种位移传感器构造，更具体地，涉及ー种光学地检测标尺光成像构造(scale light imaging configuration)相对于标尺光栅(scale grating)的位移的位移传感器构造。
技术介绍
已经公开了ー种编码器，其光学地检测标尺光成像构造相对于ー维标尺光栅的ニ维位移(參见美国专利第7，601，947号)。然而，该编码器结构非常复杂
技术实现思路
因此，本专利技术的目的是提供ー种具有较简单结构的位移传感器构造，其能够检测标尺光成像构造相对于ー维标尺光栅的ニ维位移。根据本专利技术的ー个方面，提供ー种位移传感器构造，该位移传感器构造包括标尺光栅,包括设置在第一方向上的光栅条，姆个光栅条在基本上垂直于第一方向的第二方向上延伸，且标尺光栅限定对应于衍射级角组的衍射面组，该衍射级角组与垂直入射到标尺光栅上的平面波相对应；以及标尺光成像构造，包括照明部分，配置为向标尺光栅提供照射光，且平面波和照射光具有相同的波长；成像构造，包括第一光路和第二光路；以及检测器，包括第一检测器部分和第二检测器部分，其中位移传感器构造配置为从标尺光栅输出第一标尺光...
【技术保护点】
一种位移传感器构造(100、300、400)，包括：标尺光栅(110)，包括设置在第一方向(X)上的光栅条(118)，每个所述光栅条在实质上垂直于所述第一方向的第二方向(Y)上延伸，且所述标尺光栅定义对应于衍射级角组(θ1、θ2、θ3)的衍射面组(111、112、113)，该衍射级角组与垂直入射到所述标尺光栅上的平面波相对应；以及标尺光成像构造(120)，包括：照明部分(160)，配置为向所述标尺光栅提供照射光，且所述平面波和所述照射光具有相同的波长；成像构造(190)，包括第一光路和第二光路(OP1、OP2)；以及检测器(200)，包括第一检测器部分和第二检测器部分(20...
【技术特征摘要】
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