一种子孔径拼接干涉仪系统及测量光学镜片面形的方法技术方案

本发明专利技术是一种子孔径拼接干涉仪系统，包括在地面隔振单元、填充物，隔断层、第一主动隔振单元、平台、气浮导轨、第一平台、第二主动隔振单元、第二平台、移动机构、转台、待测光学镜片、气浮导轨、衍架、透明罩。本发明专利技术提供一种带有隔振效果的子孔径拼接干涉仪机构是通过多层隔振处理，可以隔离地面振动对测量的影响，通过加上玻璃罩，在测量空间中充氮气，减少气流和温度波动，通过在气浮导轨上方加主动隔振单元，减少气膜波动对移相的影响。同时，机构可以做二维平移和旋转的运动，可以在拼接过程中实现绝对测量。本发明专利技术还提供一种使用子孔径拼接干涉仪系统测量光学镜片面形的方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学检测
，涉及ー种用子孔径拼接測量光学面形的机构。
技术介绍
高精度干涉仪表面测量变得越来越重要，不但在传统的光学制造领域，而且在像光盘面或者半导体晶体面这样的新领域。PV值在亚纳米范围的检测精度要求越来越多。在高精度移相干涉仪中，主要測量參考面和待测面的相位差，測量结果既有待测面的面形误差，又有參考面的误差。移相干涉测量法的測量重复性精度非常高，但是测量的精度受限于參考面的精度。如果參考面的误差可以移除，整个干涉仪的测量精度就可以有较大提高。绝对测量方法就是在这种背景下提出的，通过在移相干渉法的基础上增加一定的操作，来移除參考面的误差，从而达到提高测量精度的目的。 随着科学技术的不断发展，大口径光学系统在天文光学、空间光学、空间目标探測与识别、惯性约束聚变(ICF)等高
得到了越来越广泛的应用，因此大口径光学元件的制造需要与之精度相适应的检测方法和仪器。目前大口径光学元件的表面加工质量一般是使用大口径的移相干涉仪，这就要求要有一块与被测元件尺寸相同或者更大的标准面形，而这样ー个高精度的标准表面，不仅加工难度极大，而且制造周期长，制造成本高，这些都无形地本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种子孔径拼接干涉仪系统，其特征在于，包括：地面隔振单元、隔断层、填充物、第一主动隔振单元、平台、气浮导轨、第一平台、第二主动隔振单元、第二平台、移动机构、转台、待测光学镜片、激光干涉仪、衍架，透明罩，其中：在地面隔振单元的坑内安置隔断层，隔断层，用于与周围地下物质隔断；在隔断层内放置有填充物，填充物，用于减少地面振动的传导；在地面隔振单元、隔断层、填充物上面放置第一主动隔振单元，第一主动隔振单元，用于将地面振动隔离；在第一主动隔振单元上放置平台；在平台的承载台面上放置气浮导轨；在气浮导轨上方放置第一平台；在第一平台上方放置第二主动隔振单元，第二主动隔振单元，用于隔离气浮导轨产生的气膜波动；在...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：贾辛，徐富超，谢伟民，邢廷文，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：