一种真空灭弧室电镀镍和刷镀镍同时进行的装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种真空灭弧室电镀镍和刷镀镍同时进行的装置，其特征在于：包括杯形电极（1），环形定位盘（2），环形电极（3）和刷镀电极（4），所述杯形电极（1）固定于电镀槽内，环形定位盘（2）固定于杯形电极（1）上方，环形电极（3）固定于环形定位盘（2）上方。本发明专利技术简化了真空灭弧室进行电镀镍的过程，真空灭弧室两端金属部件同时电镀和刷镀，节约了操作时间，整个过程只需要一人就可独立完成，节约了人力资源，且电镀过程中真空灭弧室不需要旋转移动，避免了真空灭弧室旋转移动对镀层的损伤。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种真空灭弧室电镀镍和刷镀镍同时进行的装置，其特征在于：包括杯形电极（1），环形定位盘（2），环形电极（3）和刷镀电极（4），所述杯形电极（1）固定于电镀槽内，环形定位盘（2）固定于杯形电极（1）上方，环形电极（3）固定于环形定位盘（2）上方。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王政江，
申请(专利权)人：中国振华电子集团宇光电工有限公司国营第七七一厂，
类型：发明
国别省市：