制造有机发光显示装置的方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种制造有机发光显示装置的方法，所述方法包括：在基底的除了所述基底的显示区域之外的区域上形成沉积阻挡膜；通过在其上形成有所述沉积阻挡膜的所述基底上进行沉积而在所述显示区域中形成公共薄膜层；以及在沉积完成后将所述沉积阻挡膜从所述基底去除。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的实施例涉及。
技术介绍
通常，宽视角、高对比度和快速的响应是有机发光显示装置相对于其它显示装置所具有的优点。有机发光显示装置基于通过使分别从阳极和阴极注入到发光层中的空穴和电子 复合而发射光的原理来实现颜色。有机发光显示装置具有发光层形成在阳极和阴极之间的结构。另外，因为通过这样的结构可能获得不了高发光效率，所以通常分别在阳极与发光层之间以及阴极与发光层之间形成诸如空穴注入-传输层和电子注入-传输层的中间层。有机发光显示装置的电极、包括电极的薄膜以及发光层通常通过沉积工艺形成。换言之，在准备具有与要形成的薄膜相同的图案的掩模并在基底上布置掩模之后，通过沉积用于形成薄膜的材料来形成具有期望的图案的薄膜。在上述沉积工艺中使用的掩模的类型是用于精细图案化的精细金属掩模(FMM)和开口掩模，FMM允许在显示区域中的预定区域上进行沉积，开口掩模用于在整个显示区域上形成公共薄膜。例如，对于发光层，当需要在显示区域中的规定位置上精确地沉积薄膜层时，使用FMM。对于空穴注入-传输层和电子注入-传输层，当需要在整个显示区域上沉积公共薄膜层时，使用具有整个开口区域的开口掩模。自然地，在开口掩模的情况下，不需要与FMM具有相同水平的精确度的高精确度图案。然而，虽然不需要高精确度，当使用开口掩模时，必须提供用于运送、对准和清洗(在沉积后)开口掩模的设备，每当执行沉积工艺时，必须执行使用这些设备的运送、对准和清洗。因此，在相对简单地使用开口掩模方面，工作量大。此外，近来，随着有机发光显示装置的尺寸增大，相应的开口掩模的尺寸也增大。因此，大开口掩模的运送也需要大的工作量。因此，增加的工作量会导致产率降低。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供了一种，其中，可以在不使用伴随有大工作量的大开口掩模的情况下沉积公共薄膜层。根据本专利技术实施例的一方面，提供了一种，所述方法包括在基底的除了所述基底的显示区域之外的区域上形成沉积阻挡膜；通过在其上形成有所述沉积阻挡膜的所述基底上进行沉积来在所述显示区域中形成公共薄膜层；以及在沉积完成后从所述基底去除所述沉积阻挡膜。所述沉积阻挡膜可以包括粘合膜，所述粘合膜能够结合到所述基底的除了所述显示区域之外的区域并能够与所述基底的除了所述显示区域之外的区域分离。形成沉积阻挡膜的步骤可以包括准备材料膜，所述材料膜包括基片和粘附到所述基片的所述粘合膜；沿与所述基底紧密接触而旋转的压辊的外圆周移动所述材料膜；通过使所述材料膜在所述压辊和所述基底之间穿过来将所述粘合膜附着到所述基底；以及通过在附着到所述基底的所述材料膜上紧密地移动在其外圆周上具有粘合力的移除辊来从所述粘合膜去除所述基片。形成沉积阻挡膜的步骤可以包括准备材料膜，所述材料膜包括基片和粘附到所述基片的所述粘合膜；将所述材料膜的边缘结合到中心区域被暴露的外框架构件；在将所述外框架构件放置在所述基底上之后通过使用压辊按压所述材料膜来将所述粘合膜附着到所述基底；以及通过在附着到所述基底的所述材料膜上紧密地移动在其外圆周上具有粘合力的移除辊来将所述基片从所述粘合膜移开。 去除沉积阻挡膜的步骤可以包括通过在附着到所述基底的所述粘合膜上紧密地移动在其外圆周上具有粘合力的移除辊来将所述粘合膜从所述基片移开。所述方法还可以包括使所述粘合膜的附着点和所述基底的附着点对准。对准结合点的步骤可以包括分别在所述粘合膜和所述基底上形成对准标记；以及通过使用相机检验所述对准标记的对准来对准所述粘合膜和所述基底的结合点。所述沉积阻挡膜可以包括涂覆膜。形成沉积阻挡膜的步骤可以包括将涂覆材料涂覆在所述基底上；以及通过干燥涂覆的涂覆材料来形成所述涂覆膜。去除沉积阻挡膜的步骤可以包括通过在形成在所述基底上的所述涂覆膜上紧密地移动在其外圆周上具有粘合力的移除辊来将所述粘合膜从所述基片移开。所述公共薄膜层可以包括空穴注入-传输层、电子注入-传输层、面对像素电极的相对电极和密封所述显示区域的薄膜密封层中的至少一种，所述空穴注入-传输层用于将空穴供给到包括在所述显示区域中的每个像素中的发光层，所述电子注入-传输层用于将电子供给到所述发光层，所述发光层设置在所述相对电极和所述像素电极之间。如上所述，按照根据本专利技术实施例的，因为可以在不使用开口掩模的情况下容易地沉积公共薄膜层，所以简化了制造工艺，相应地，提高了产率。附图说明通过参照附图详细地描述示例性实施例，本专利技术实施例的以上和其它特征及方面将变得更加明显，在附图中图I是根据本专利技术实施例的有机发光显示装置的示意性剖视图；图2A和图2B是根据本专利技术实施例的可附于沉积阻挡膜和可与沉积阻挡膜分离的基底的透视图；图3是示出根据本专利技术实施例的在图2A和图2B中示出的实施例的基底上进行沉积的状态的示意图；图4A至图4C是示出根据本专利技术实施例的形成并去除在图2A和图2B中示出的实施例的沉积阻挡膜的工艺的示意图；图5A至图5C是示出根据本专利技术另一实施例的形成并去除在图2A和图2B中示出的实施例的沉积阻挡膜的工艺的示意图；图6A至图6B是示出根据本专利技术又一实施例的形成并去除在图2A和图2B中示出的实施例的沉积阻挡膜的工艺的示意图。具体实施例方式在下文中，将参照附图更充分地描述本专利技术的实施例，在附图中示出了本专利技术的示例性实施例。 图I是根据本专利技术实施例的有机发光显示装置的示意性剖视图。有机发光显示装置具有这样的结构，S卩，作为阳极的像素电极202、空穴注入-传输层203、发光层204、电子注入-传输层205、作为阴极的相对电极206和薄膜密封层207以所述顺序依次堆叠在基底200上。虽然未示出，但在基底200上形成电结合到像素电极202的薄膜晶体管(TFT)(未示出)，当电流由于来自TFT的信号而在像素电极202和相对电极206之间流动时，在发光层204中发生光发射。薄膜密封层207是防止湿气穿透到有机发光显示装置中的保护层，并具有有机膜207a和无机膜207b交替地堆叠的结构。这里,空穴注入-传输层203、电子注入-传输层205、相对电极206和薄膜密封层207是形成在整个显示区域210上的公共薄膜层。因此，发光层204必须精确地形成在与像素对应的位置。因此，通过使用允许精确图案化的FMM来形成发光层204。然而，因为上述公共薄膜层需要只是均匀地沉积在整个显示区域210上，所以像用于发光层204的精确图案化一样的精确图案化是不必要的。因此，在本实施例中，为了更简单地形成公共薄膜层，如在图2A和图2B中所示，作为沉积阻挡膜的粘合膜100附于基底200。换言之，如上所述，金属开口掩模传统上用于形成公共薄膜层，对金属开口掩模的管理需要的工作量增加。然而，在本实施例中，如在图2A和图2B中所示，粘合膜100附于基底200，以用作掩模，由此极大地减少工作量。换言之，因为传统的金属开口掩模每次都必须移动、对准和清洗，所以其难以管理，代替使用传统的金属开口掩模，将作为沉积阻挡膜的粘合膜100附着到基底200上的与显示区域210分开的剩余区域220，并且如图3所示，执行来自沉积源300的材料的沉积，然后在整个显示区域210上容易地形成公共薄膜层。然后，在沉积完成之后，从基底200去除粘合膜100。根据本专利技术的实施例，基底200可以是其上仅形成有一个显示区域210的单个单本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造有机发光显示装置的方法，所述方法包括：在基底的除了所述基底的显示区域之外的区域上形成沉积阻挡膜；通过在其上形成有所述沉积阻挡膜的所述基底上进行沉积，在所述显示区域中形成公共薄膜层；以及在沉积完成后从所述基底去除所述沉积阻挡膜。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：林在夏，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：