有机发光显示设备及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种有机发光显示设备及其制造方法。该有机发光显示设备具有包括位于像素电极和对电极之间的有机层的结构，该有机层包括发射层和限定发光区的绝缘层。因此，该有机层中包括的绝缘层起像素限定层的作用，因此可以减少或防止当根据对比技术在厚的像素限定层上形成发射层时所产生的“边缘开裂”。

【技术实现步骤摘要】

下面的描述涉及，更具体地，涉及有机层的结构得到改进的。
技术介绍
一般来说，有机发光显示设备包括作为显示単元的元件而插在像素电极和对电极之间的有机层。有机层包括发出光的发射层。近来，经常使用激光诱导热成像(LITI)方法来形成有机层，其中激光诱导热成像方法是可以形成精细图案的干法エ艺。在LITI方法中，在像素电极上放置上面沉积有有机层的供体膜(donor film)，使得供体膜上的有机层通过热量转移到像素位置并且将激光照射在像素电极上。然而，在进行LITI吋，经常产生“边缘开裂”，“边缘开裂”是由于环绕像素电极的像素限定层而在有机层的末端部分处形成裂ロ的现象。换句话说，通常形成调节像素区的像素限定层以环绕像素电极的边界，然后在像素限定层上形成有机层以通过使用LITI方法粘附到像素电极，并且由于像素限定层的厚度而形成的台阶部分在有机层的接触像素电极的边缘部分处产生ー个或多个裂ロ。在此情况下，显示设备的亮度变得不均匀，这接下来可能导致产品缺陷。因此需要一种解决该问题的方案。
技术实现思路
本专利技术实施例的ー个或多个方面致力于，在该有机发光显示设备中有机层的结构得到了改进，以便改善有机层和像素电极之间的粘附特性。根据本专利技术的实施例，提供一种有机发光显示设备，包括像素电极、面向所述像素电极的对电极以及插入所述像素电极和所述对电极之间的有机层，其中所述有机层包括发光的发射层和限定所述发射层的发光区的绝缘层。所述绝缘层可以限定像素単元中的所述发光区。所述有机发光显示设备可以进一歩包括空穴注入/传输层，其布置在所述像素电极和所述有机层的所述发射层之间，并且向所述发射层提供空穴；以及电子注入/传输层，其布置在所述发射层和所述对电极之间，并且向所述发射层提供电子。所述绝缘层或者可以布置在所述空穴注入/传输层和所述发射层之间，或者可以布置在所述发射层和所述电子注入/传输层之间，或者可以布置在所述电子注入/传输层和所述对电极之间。所述绝缘层可以具有约500A.到约2000人的厚度。根据本专利技术的另ー个实施例，提供一种制造有机发光显示设备的方法，所述方法包括制备基板，在所述基板上形成像素电极；制备供体膜，在所述供体膜上形成发射层和绝缘层，对所述绝缘层进行图案化以便限定所述发射层的发光区；将所述供体膜粘附到所述基板上，以转移将被堆叠在所述基板的所述像素电极上的所述发射层和所述绝缘层；以及在所述发射层和所述绝缘层上形成对电扱。所述方法可以进一歩包括在所述像素电极和所述发射层之间形成空穴注入/传输层，以向所述发射层提供空穴；以及在所述发 射层和所述对电极之间形成电子注入/传输层，以向所述发射层提供电子。所述绝缘层或者可以布置在所述空穴注入/传输层和所述发射层之间，或者可以布置在所述发射层和所述电子注入/传输层之间，或者可以布置在所述电子注入/传输层和所述对电极之间。所述发射层和所述绝缘层的转移可以使用激光诱导热成像(LITI)方法来执行。所述绝缘层可以具有约5 00A到约2000人的厚度。根据本专利技术的另ー个实施例，提供一种制造有机发光显示设备的方法，所述方法包括制备基板，在所述基板上形成像素电极；制备第一供体膜和第二供体膜，在所述第一供体膜上形成发射层，在所述第二供体膜上形成限定所述发射层的发光区的绝缘层；将所述第一供体膜和所述第二供体膜顺序地粘附在所述基板上，以转移将被堆叠在所述基板的所述像素电极上的所述发射层和所述绝缘层；以及在所述发射层和所述绝缘层上形成对电扱。所述方法可以进一歩包括在所述像素电极和所述发射层之间形成空穴注入/传输层，以向所述发射层提供空穴；以及在所述发射层和所述对电极之间形成电子注入/传输层，以向所述发射层提供电子。所述方法可以进一歩包括或者在所述空穴注入/传输层和所述发射层之间，或者在所述发射层和所述电子注入/传输层之间，或者在所述电子注入/传输层和所述对电极之间，布置所述绝缘层。 所述发射层和所述绝缘层的转移可以使用激光诱导热成像(LITI)方法来执行。所述绝缘层可以具有约500人到约2.000人的厚度。附图说明通过參照附图详细地描述本专利技术的示例性实施例，本专利技术的上述及其它特征和优势将变得更明显，附图中图I是示出根据本专利技术实施例的有机发光显示设备的结构的截面图；图2是示出根据本专利技术另ー个实施例的有机发光显示设备的结构的截面图；图3是示出根据本专利技术另ー个实施例的有机发光显示设备的结构的截面图；图4A到图4E是示出根据本专利技术实施例的制造图I的有机发光显示设备的方法的截面图；图5A到图5F是示出根据本专利技术另ー个实施例的制造图I的有机发光显示设备的方法的截面图；图6A到图6E是示出根据本专利技术实施例的制造图2的有机发光显示设备的方法的截面图；图7A到图7F是示出根据本专利技术另ー个实施例的制造图2的有机发光显示设备的方法的截面图；图8A到图SE是示出根据本专利技术实施例的制造图3的有机发光显示设备的方法的截面图；以及图9A到图9F是示出根据本专利技术另ー个实施例的制造图3的有机发光显示设备的方法的截面图。具体实施方式 现在将參照示出本专利技术示例性实施例的附图更全面地描述本专利技术。首先，将參照图I描述根据本专利技术实施例的有机发光显示设备的结构。參照图1，有机发光显示设备包括基板10以及顺序堆叠在基板10上的像素电极11、有机层和对电极26。有机层包括发射层24以及分别向发射层24提供空穴和电子的空穴注入/传输层12和电子注入/传输层25。此外，限定发射层24的发光区的绝缘层23形成在发射层24和电子注入/传输层25之间。准确地说，有机层内的绝缘层23起类似像素限定层的作用。换句话说，根据对比技术，通过在像素电极11的边界周围形成像素限定层来限定发光区，然后在发光区上形成有机层，然而根据本专利技术的当前实施例，不是附加地形成像素限定层，而是在有机层内形成起像素限定层作用的绝缘层23。换句话说，在有机层内形成的绝缘层23覆盖发射层24的边缘以在视觉上限定发光区，并且与此同时，绝缘层23阻挡向发射层24提供的空穴或电子的流动，使得仅在限定的区域内发光。因此，可以在不形成厚的像素限定层的情况下在像素単元中限定发光区，因此防止例如边缘开裂的问题发生或保护不受例如边缘开裂的问题影响。如上文所述起像素限定层作用的绝缘层23可以插入有机层内的多个适合位置。换句话说，尽管绝缘层23在当前实施例中形成在发射层24和电子注入/传输层25之间，但是绝缘层23还可以如图2所示的实施例中那样形成在发射层24和空穴注入/传输层12之间。可选地，绝缘层23可以如图3所示的实施例中那样形成在电子注入/传输层25和对电极26之间。换句话说，通过在有机层内任何适合的位置形成绝缘层，可以在不形成附加的像素限定层的情况下在像素単元中限定发光区。绝缘层23的厚度可以在大约500人到大约2GGG人的范围内。在一个实施例中，具有大于2000.人厚度的绝缘层23太厚，并且在相邻的层中引起另外的边缘开裂。在另ー个实施例中，如果绝缘层23的厚度小于大约500人，那么绝缘层23不能正确地起绝缘层的作用。绝缘层23可以使用绝缘低分子、低聚物或聚合物形成，并且可以使用沉积法和/或溶液涂敷法而形成。此外，可使用旋涂法或印刷工艺形成层的聚合物材料(例如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯こ烯本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机发光显示设备，包括像素电极、面向所述像素电极的对电极以及位于所述像素电极和所述对电极之间的有机层，其中，所述有机层包括用于发光的发射层和限定所述发射层的发光区的绝缘层。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：姜泰旻，朴镇佑，郭鲁敏，李承默，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：