触控面板的制造方法技术

技术编号:8161336 阅读:169 留言:0更新日期:2013-01-07 19:25
本发明专利技术涉及一种触控面板的制造方法,首先,于一基板的表面上依序形成一第一导电层、一第二导电层以及一第一光阻层。接着,使用一灰阶光罩图案化第一光阻层,并利用图案化的第一光阻层蚀刻第一以及第二导电层以形成触控面板的第一感测电极。接着,于基板以及第一感测电极上形成一绝缘层,并使用一灰阶光罩图案化绝缘层。然后,于图案化的绝缘层上形成一第三导电层,接着形成一第二光阻层于第三导电层上,并图案化第二光阻层以暴露出部分的第三导电层。最后,利用图案化的第二光阻层蚀刻第三导电层以形成触控面板之第二感测电极。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术关于触控面板,且特别是有关于触控面板的制作方法。
技术介绍
近来,各式电子设备使用触控面板以允许使用者藉由使用ー输入装置,如手指或触控笔(stylus),碰触显示在ー显示装置上的一影像而输入数据。此类触控面板主要分类为电阻式触控面板(resistive touch panel)和电容式触控面板(capacitive touchpanel)。根据电阻式触控面板,当从ー输入装置施加压カ至ー电极,该电极发生短路,因此侦测到一位置。根据电容式触控面板,当手指碰触触控面板时改变了电极间的电容,根据该电容的变化而侦测到一位置。如果长时间重复使用电阻式触控面板,电阻式触控面板的效能则会退化,且可产生刮痕。为此,电容式触控面板因其优良耐用性和长寿命而受到注目。 以下,參考图I和图2。图I为说明传统电容式触控屏幕面板的俯视平面图,以及图2为说明沿着图1A-A’线的触控屏幕面板的剖面图。触控屏幕面板100的电极102形成在基板101上,电极102包括在第一方向(如X轴方向)平行排列的复数个第一电极102a,以及在垂直于第一电极102a的相交方向(如Y轴方向)排列的复数个第二电极102b。第ー电极102a和第二电极102b彼此相交但是通过第一绝缘层103和第二绝缘层105保持电绝缘状态。此外,第一方向排列的邻近第一电极102a通过金属桥104相互连接。S卩,金属桥104将邻近第一电极102a和第二电极102b相互连接。传统上,制造电容式触控屏幕面板的方法,包括至少四道制程。首先,通过沉积制程,如溅渡方法在基板101上沉积ー第一金属,并且利用第一光罩以及微影和蚀刻制程图案化第一金属形成金属桥104。接着,于金属桥104上沉积一光阻层,并利用第二光罩以及微影和蚀刻制程图案化光阻层来形成第一绝缘层103。随后在第一绝缘层103以及金属桥104上沉积ー第二金属,并且利用第三光罩以及微影和蚀刻制程图案化第二金属来形成第一电极102a和第二电极102b。最后,于第一电极102a和第二电极102b上沉积一光阻层,并利用一第四光罩以及微影和蚀刻制程图案化光阻层来形成第二绝缘层105。由于,传统电容式触控屏幕面板使用4个光罩制程制造,而每个光罩制程需伴随着一系列的微影和蚀刻制程,如光阻、涂布、对准、曝光、显影以及清洁,制程相当繁琐,因此,如何減少光罩制程的数量即成为需考虑的课题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种可以较少光罩制程形成一触控面板的制作方法。本专利技术的技术方案在于一种,其特征在于包括下列步骤 于ー基板的表面上依序形成一第一导电层、一第二导电层以及一第一光阻层; 使用一第一灰阶光罩图案化该第一光阻层; 利用该图案化第一光阻层蚀刻该第一导电层以及该第二导电层以定义出该触控面板的一第一感测电极;形成一第一绝缘层于该基板以及该第一感测电极上; 使用一第二灰阶光罩图案化该第一绝缘层以形成具不同厚度的图案化第一绝缘层,其中覆盖在该第一感测电极之上的该图案化第一绝缘层具有最大的厚度; 形成一第三导电层于该图案化第一绝缘层上; 形成一第二光阻层于该第三导电层上; 图案化该第二光阻层以暴露出部分之该第三导电层;以及 利用该图案化第二光阻层蚀刻该第三导电层以定义出该触控面板的一第二感测电扱。进ー步的,其中该第一导电层和第三导电层的材质是氧化铟锡。 进ー步的,其中该第二导电层的材质是氧化铟锡或合金材料。进ー步的,其中该合金材料系为具有钯、钼、金、银、铬、AlNd以及铝的任一种或其组合。进ー步的,其中是以湿式蚀刻或干式蚀刻方式蚀刻该第一导电层、该第二导电层以及该第三导电层。进ー步的,其中该基材系选自玻璃、塑料以及透明材质所组成的族群之一。进ー步的,其中使用该第一灰阶光罩图案化该第一光阻层之步骤,更包括 在预定形成该第一感测电极处,形成具有一第一厚度以及ー第二厚度的该第一光阻层,其中该第二厚度小于该第一厚度;以及 移除位于预定形成该第二感测电极处的第一光阻层以暴露出该第二导电层。进ー步的,其中利用该图案化第一光阻层蚀刻该第一导电层以及该第二导电层以定义出该触控面板的一第一感测电极之步骤,更包括 于预定形成该第二感测电极处,以该图案化第一光阻层为罩幕蚀刻该第二导电层以及该第一导电层以暴露出该基板表面; 移除该第二厚度的该图案化第一光阻层,以在预定形成该第二感测电极处,暴露出该第二导电层; 蚀刻暴露出的该第二导电层以暴露出该第一导电层;以及 移除剩下的该图案化第一光阻层。进ー步的,更包括于蚀刻暴露出的该第二导电层以暴露出该第一导电层的步骤前,执行ー退火制程。进ー步的,更包括形成一第二绝缘层于该第一感测电极以及该第二感测电极之上。进ー步的,其中该第一绝缘层以及该第二绝缘层为有机光阻层。进ー步的,其中利用该图案化第一光阻层蚀刻该第一导电层以及该第二导电层以定义出该触控面板的一第一感测电极的步骤,更包括于该基板的外围定义出该触控面板的一第一连接垫,其中该第一感测电极连接该第一连接垫。进ー步的,其中使用一第二灰阶光罩图案化该第一绝缘层的步骤,更包括暴露出该第一连接垫表面。进ー步的,其中形成一第三导电层于该图案化第一绝缘层上的步骤,更包括形成该第三导电层于暴露出的该第一连接垫表面,来形成一第二连接垫,其中该第二感测电极连接该第二连接垫。综合上述所言,本案藉由灰阶光罩技术,来分别定义不同方向的触控电极,因此,可将传统需使用四道光罩的制程缩减成仅需使用三道光罩制程,可大幅降低制程时间与成本。附图说明图I为传统电容式触控屏幕面板的俯视平面图。图2为沿着图1A-A’线的触控屏幕面板的剖面图。图3为以灰阶光罩于金属桥位置以及第一电极处形成不同厚度光阻层的俯视平面图。图4为沿着图3A-A’线的剖面图。图5为沿着图3B-B’线的剖面图。 图6为以图案光阻层为罩幕进行第一导电层以及第ニ导电层蚀刻的俯视平面图。图7为沿着图6A-A’线的剖面图。图8为沿着图6B-B’线的剖面图。图9为移除部份图案光阻层并进行第二导电层蚀刻的俯视平面图。图10为沿着图9A-A’线的剖面图。图11为沿着图9B-B’线的剖面图。图12为移除图案光阻层的俯视平面图。图13为沿着图12A-A’线的剖面图。图14为沿着图12B-B’线的剖面图。图15为沉积保护层以及第三导电层的俯视平面图。图16为沿着图15A-A,线的剖面图。图17为沉积一光阻层于第三导电层上。图18为对光阻层微影后的俯视平面图。图19为沿着图18A-A’线的剖面图。图20对暴露出之第三导电层进行蚀刻以及形成一绝缘层后之剖面图。附图说明 101基板;102电极;102a第一电极;102b第二电极;103第一绝缘层;104金属桥;105第二绝缘层;300基材;301第一导电层;302第二导电层;303光阻层;305绝缘层;306第三导电层;307光阻层;308绝缘层;402a第一电极;402b第二电极;404金属桥;410和420连接垫。具体实施例方式以下为本专利技术较佳具体实施例以所附图示加以详细说明,下列的说明及图标使用相同的參考数字以表示相同或类似组件,并且在重复描述相同或类似组件时则予省略。本专利技术涉及一种如下所述,首先请參考图3、图4和图5。图3为说明以灰阶光罩于金属桥位置以及第一电极处形成不同厚本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种触控面板的制造方法,其特征在于:包括下列步骤:于一基板的表面上依序形成一第一导电层、一第二导电层以及一第一光阻层;使用一第一灰阶光罩图案化该第一光阻层;利用该图案化第一光阻层蚀刻该第一导电层以及该第二导电层以定义出该触控面板的一第一感测电极;形成一第一绝缘层于该基板以及该第一感测电极上;使用一第二灰阶光罩图案化该第一绝缘层以形成具不同厚度的图案化第一绝缘层,其中覆盖在该第一感测电极之上的该图案化第一绝缘层具有最大的厚度;形成一第三导电层于该图案化第一绝缘层上;形成一第二光阻层于该第三导电层上;图案化该第二光阻层以暴露出部分之该第三导电层;以及利用该图案化第二光阻层蚀刻该第三导电层以定义出该触控面板的一第二感测电极。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:游家维邱启明吕雅茹
申请(专利权)人:福建华映显示科技有限公司中华映管股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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