【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体
，特别是涉及ー种电容式触摸屏架桥结构制作方法。
技术介绍
电容式触摸屏是现有技术中广泛使用的ー种触摸屏。电容式触摸屏的电路结构为架桥结构。以投影式电容式触摸屏为例，其架桥结构为在交叉点处互不导通的X、Y方向的电路。现有技术中，电容式触摸屏架桥结构的制作方法大致包括步骤a、在纳米铟锡金属氧化物(Indium Tin Oxides, I TO)上，制作出X方向的电路；b、在X、Y方向的电路的交叉点处制作绝缘层；c、制作Y方向的电路；d、对电路制作保护层。对于步骤C，现有技术中，采用正性胶(光刻胶的ー种)对电路进行图案制作。现有技术中，用正性胶进行电路(金属)图案的制作的大致流程为在待刻蚀金属层表面涂正性胶；用具有镂空图案的铬板遮盖住正性胶涂层，并曝光；曝光时，由于具有镂空图案的铬板的遮挡，正性胶涂层的部分区域不会受到光的照射；这样，曝光的区域的正性胶见光溶解，未曝光的区域，正性胶保留下来；然后再对覆盖有正性胶的金属层进行刻蚀，只有正性胶溶解了的区域的金属层才会被刻蚀。但是现有技术存在如下缺点因为制作Y方向的电路时，需要刻蚀掉的金属部分比例...
【技术保护点】
一种电容式触摸屏架桥结构制作方法，其特征在于，包括：在纳米铟锡金属氧化物ITO上，制作出在第一方向相互连通的基准图形阵列，在垂直于所述第一方向的第二方向上，制作出相互隔断的基准图形阵列；在第二方向上的基准图形阵列的相互隔断的区域设置绝缘层；在所述绝缘层上镀金属膜；采用负性光刻胶对所述金属膜进行光刻；对光刻后的所述金属膜进行蚀刻，以便在第二方向将所述基准图形阵列连通。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：汪敏洁，蔡汉业，朱景河，何基强，
申请(专利权)人：信利半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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