【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ー种支架结构，尤其涉及ー种用于固定高度规的支架结构。
技术介绍
高度测量作为测量技术中的ー个重要方面，其测量的方便性及准确度备受关注。高度測量主要分为非接触式測量和接触式測量两大类，在接触式測量中，一般使用高度规作为主要的測量工具。使用时将该高度规安装于支撑件上，支撑件放置于大理石平台上，通过旋转该支撑件进而调整高度规的位置。当需要測量尺寸较大的エ件吋，需要在支撑件上另外固定加长杆或者搬移该支撑件的位置以调整高度规的位置。然而，増加加长杆容易影响测量的精确度，而搬移支撑件的位置则容易磨损大理石，造成エ件摆放位置不平整。
技术实现思路
鉴于以上情况，有必要提供ー种便于调整高度规位置的支架结构。ー种支架结构，用于调整一高度规的位置，该支架结构包括ニ底座、ニ支撑件、滑座及固定组件，每ー支撑件的一端可滑动地装配于ー底座上，滑座横跨于ニ支撑件的另ー端并与ニ支撑件滑动配合，该固定组件可滑动地装配于滑座上，并用以夹持高度规。本专利技术的支架结构利用支撑件滑动的装配于底座上，滑座与支撑件和固定组件滑动配合，实现了高度规在X轴方向及Y轴方向的位置调整，测量时无需增加加...
【技术保护点】
一种支架结构，用于调整一高度规的位置，其特征在于：该支架结构包括二底座、二支撑件、滑座及固定组件，每一支撑件的一端可滑动地装配于一底座上，滑座横跨于二支撑件的另一端并与二支撑件滑动配合，该固定组件可滑动地装配于滑座上，并用以夹持高度规。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘赵君，朱桥华，胡建忠，刘永红，
申请(专利权)人：深圳富泰宏精密工业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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