热源热处理电容器钽粉的方法技术

技术编号:8154456 阅读:237 留言:0更新日期:2013-01-06 12:00
一种热源热处理电容器钽粉的方法,所述方法包括:将待处理的钽粉置入真空改性炉中,采用电弧Arc或(和)射频等离子Plasma作为热源对钽粉进行热处理,然后经过快速降温后得到改性钽粉。本发明专利技术能采用两种热源中的一种或两种进行热处理改性,钽粉的杂质含量低、粒形得到较大改善,并且钽粉的比容损失小,流动性佳,用其可以制备漏电流小、耐压值高的电容器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于电容器用钽粉的热处理工艺,具体的涉及一种采用两种热源对钽粉进行热处理得到适于制造各种固体电解电容器的改性钽粉的方法
技术介绍
钽粉的主要用途是用于制造钽电容器。电容器在几乎任何电路中都是不可缺少的重要元件,因此钽粉质量的好坏将直接影响到电解电容器的性能。衡量钽粉质量好坏的指标主要是纯度、粒度和粒形。通常认为钽粉中的杂质含量越低,纯度越高,其漏电流就越小,制作的电容器可靠性越高,使用寿命越长。而钽粉越细,粒形越复杂,孔隙度越大,表面积也就越大,这样的钽粉所制得的电容器比电容高,适宜于制作微型电容器。 目前电容器朝着两个方向发展一是微型化,提高钽粉的比电容,缩小电容器的体积;二是高压高可靠性,因为国防尖端工程中要求所使用的电容器需具有很高的可靠性和很长的使用寿命。而这两个方向又是相互联系相互矛盾的要微型化,就要有高的比电容,这就要求钽粉粒度要细,粒形要复杂,而这样的钽粉在阳极氧化时易形成不均匀的氧化膜,产生局部电场集中而使漏电流增大,同时为了保证其电容量以及可靠性,其介电层氧化膜就不能生长得太厚,其赋能电压就不能太高,因为氧化膜的生长与赋能电压成正比,而赋能电压通常又是工本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种热源热处理电容器钽粉的方法,其特征在于所述方法包括:?将待处理的钽粉置入真空改性炉中,采用电弧Arc或(和)射频等离子Plasma作为热源对钽粉进行热处理,然后经过快速降温后得到改性钽粉。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:林耀民
申请(专利权)人:泰克科技苏州有限公司
类型:发明
国别省市:

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