一种新型电磁结构及应用其的对焦器制造技术

技术编号:8149511 阅读:159 留言:0更新日期:2012-12-28 20:09
本实用新型专利技术公开了一种新型电磁结构及应用其的对焦器。电磁结构,其包括磁钢本体及上、下磁轭,所述的上、下磁轭分别设于所述的磁钢本体的两侧。本新型结构,由于只用到一片磁体,安装非常方便,有利于提高生产的良品率;另外,由于线圈在每一处所感受到的有效磁场都是较强的,因而线圈的利用率大为提高,这对于改善对焦器的性能,以及实现小型对焦器是非常重要的。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种新型电磁结构及应用其的对焦器
技术介绍
参考图I所示,现有的对焦器,其包括壳体Γ、镜 头架2'、顶部弹簧板固定架3'、顶部弹簧板4'、线圈固定架5'、线圈6'、磁钢7'、底 部弹簧板8'、底部弹簧板固定架9'及底部盖板10',参考图2所示,线圈6'套设在线圈固定架5'上。其中,磁钢7'采用像钕铁硼这样的高性能磁钢,四个面上的磁钢的同磁性面(图4中标示为N极面)均向内。参考图4所示,由于每个面上只有一个磁钢,并且只有一个极性,其称为单磁单极结构。对焦器的壳体P为铁磁性材料。在这种电磁结构中,因为同磁性的磁面均向内侧,四个磁钢7'产生排斥力,不易被准确地安装在一起。参考图3所示,磁钢T的内侧所产生的磁场的X方向的分量与线圈的电流作用,产生方向为上,或者下。在图3中,其力为上。由此可以看出,磁钢7'的磁场的X向分量的强度对对焦器的性能非常重要。但由于四个磁钢7'产生的磁场的方向相反,磁场的X向分量在相当程度上,互相抵消。这使得每个磁钢在X向产生磁场的能力受到相当大的限制。另外,参考图4所示,在单磁单极结构中,在磁钢的A、B、C、D四个角落,由于磁钢靠得近,各个磁钢产生磁场的X分量互相抵消的情况严重,因此,线圈在这些区域中很难产生力,其使得线圈的利用率不好。参考图5、6所示,现有的对焦器,其电磁结构所产生的磁场,因为其磁回路较长,产生磁场的能力较弱。因此,现有对焦器,因为磁钢系统的设计不尽合理,有效的工作磁场较弱,而且磁钢安装困难,所以对焦器的性能不佳,生产成本高。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种新型电磁结构及应用其的对焦器,其可克服上述缺陷,简化磁钢安装,提高对焦器的性能及降低生产成本。为实现上述目的,本技术采用如下技术方案一种新型电磁结构,其包括磁钢本体及上、下磁轭,所述的上、下磁轭分别设于所述的磁钢本体的两侧。优选地,上述的磁钢本体的中间设有通孔,所述的上、下磁轭对应的位置也设有通孔。 优选地,上述的上、下磁轭由铁磁材料制作而成,而壳体由非铁磁材料制作而成。一种对焦器,其包括有壳体、线圈,其还进一步包括有上述的新型电磁结构,所述的新型电磁结构、线圈、弹簧板及其固定装置安装在所述的壳体内。优选地,上述的线圈为圆形。如果磁钢本体中间的通孔为方形,则线圈亦为方形。采用上述技术方案后,本新型结构,由于只用到一片磁体,安装非常方便,有利于提高生产的良品率;另外,由于线圈在每一处所感受到的有效磁场都是较强的,因而线圈的利用率大为提高,这对于改善对焦器的性能,以及实现小型对焦器是非常重要的。附图说明图I是现有对焦器的立体分解示意图;图2是现有对焦器的组合剖视图;图3是现有对焦器的线圈与磁钢关系的示意图;图4是现有对焦器的电磁结构示意图;图5是现有对焦器磁场分别示意图;图6是现有对焦器在线圈处产生的X向磁场的情况;图7是本技术电磁结构示意图;图8是本技术电磁结构的组合示意图;图9是图8的剖视图;图10是本技术对焦器的示意图;图11是图10的剖视图;图12是本技术对焦器的磁场和力的产生示意图。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术,并不用于限定本技术。参考图7所示,本技术公开了一种新型电磁结构,其包括磁钢本体I及上、下磁轭2、3,其中磁钢本体I为一中间带通孔11的磁钢;上、下磁轭2、3是由铁磁材料制作而成的,其中间设有与磁钢本体I的孔11相对应的孔21、31。壳体I是由非铁磁材料制作而成。参考图8、9所示,使用时,上下磁轭2、3紧贴在磁钢本体I的两侧,即磁钢本体I位于上下磁轭2、3的中间位置。其很好的解决单磁单极结的X向磁场分量受限制的情况。参考图10、11所示,本技术还公开了一种对焦器,其包括有壳体4及上述的电磁结构、线圈5等,其中参考图12所示,由于本对焦器,其只用到一片磁钢本体1,因此,其线圈形状,可以按照磁体孔的形状制成。在图5中,磁钢本体孔的形状为圆形,则线圈做成圆形。当线圈为圆形,导线的长度可以减少,线圈的成本因而进一步下降,而线圈的电阻也下降,电阻的减小,对于提高聚焦器的性能很重要。本新型结构,由于只用到一片磁体,安装非常方便,有利于提高生产的良品率;另夕卜,由于线圈在每一处所感受到的有效磁场都是较强的,因而线圈的利用率大为提高,这对于改善对焦器的性能,以及实现小型对焦器是非常重要的。以上所述,仅为本技术较佳的具体实施方式,但本技术的保护范围并不局限于此,任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本技术的保护范围之内。因此,本技术的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。权利要求1.ー种新型电磁结构,其特征在于其包括磁钢本体及上、下磁轭,所述的上、下磁轭分别设于所述的磁钢本体的两侧。2.如权利要求I所述的ー种新型电磁结构,其特征在于所述的磁钢本体的中间设有通孔,所述的上、下磁轭对应的位置也设有通孔。3.如权利要求I或2所述的ー种新型电磁结构,其特征在于所述的上、下磁轭由铁磁材料制作而成,壳体由非铁磁性材料制作而成。4.一种对焦器,其包括有壳体、线圈、弹簧板及其固定装置,其特征在于其还进一歩包括有权利要求I 3任一所述的新型电磁结构,所述的新型电磁结构、线圈、弹簧板及其固定装置安装在所述的壳体内。5.如权利要求4所述的对焦器,其特征在于所述的线圈和磁钢的通孔形状相同。专利摘要本技术公开了一种新型电磁结构及应用其的对焦器。电磁结构,其包括磁钢本体及上、下磁轭,所述的上、下磁轭分别设于所述的磁钢本体的两侧。本新型结构,由于只用到一片磁体,安装非常方便,有利于提高生产的良品率;另外,由于线圈在每一处所感受到的有效磁场都是较强的,因而线圈的利用率大为提高,这对于改善对焦器的性能,以及实现小型对焦器是非常重要的。文档编号G02B7/04GK202632927SQ20122019749公开日2012年12月26日 申请日期2012年5月4日 优先权日2012年5月4日专利技术者毕磊 申请人:峰岹科技(深圳)有限公司本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种新型电磁结构,其特征在于:其包括磁钢本体及上、下磁轭,所述的上、下磁轭分别设于所述的磁钢本体的两侧。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:毕磊
申请(专利权)人:峰岹科技深圳有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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