一种掩膜板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于曝光工艺的掩膜板，包括透光衬底，透光衬底上具有至少一个图案区域，至少一个图案区域内具有半透光区和不透光区，半透光区与不透光区的宽度之和不小于曝光机的解析度，其中：不透光区的宽度小于曝光机的解析度，不透光区的至少一侧为半透光区；和/或，半透光区的宽度小于曝光机的解析度，半透光区的至少一侧为不透光区。本实用新型专利技术提供的掩膜板，通过半透光区实现对光刻胶的半曝光，经灰化去除经过半曝光的光刻胶后，基板上的光刻胶会形成宽度小于曝光机解析度的防护线，和/或，缝隙，然后再经过刻蚀剥离等工艺最终在基板中形成宽度较窄的线、和/或间隙，进而达到降低像素尺寸，提高像素密度的目的。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本实 用新型涉及显示
，特别涉及一种掩膜板。
技术介绍
在显示
，随着时代的发展和技术的进步，高像素密度ppi (Point PerInch,点每英寸)产品的需求愈加旺盛，这就意味着需要在阵列基板上制作具有更小尺寸的像素单元以满足需求。但是，由于目前显示领域中使用最多的曝光机的解析度一定，曝光机能够识别的掩膜板上的最小宽度与其解析度对应。传统的掩膜板中，只能通过布置曝光机能够识别宽度的不透光区域、以及曝光机能够识别宽度的透光区域，经过I: I等比例的曝光后得到mask上设计的图形中的线以及间隙。上述的线可以是数据线、栅线以及条形电极中的一种或者全部，而间隙可以是条形电极之间的间隙等。因此，阵列基板上的线和间隙的宽度完全受限于曝光机的解析度，而每ー个像素単元的最小尺寸又受限于像素単元内的线和间隙的宽度，因此，如果要生产更高像素密度的阵列基板，就不得不购买更高精度的曝光机以及配套产品，需要巨额的投入，而且造成了当前曝光机设备的浪费，极大地限制了高端产品的发展。所以，如何提供一种掩膜板，以能够在使用当前曝光机的前提下可以得到具有更高像素密度的产品，是本领域技术人员需要解决的技本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于曝光工艺的掩膜板，包括透光衬底，所述透光衬底上具有至少一个图案区域，其特征在于，至少一个所述图案区域内具有半透光区和不透光区，半透光区与不透光区的宽度之和不小于曝光机的解析度，其中：所述不透光区的宽度小于曝光机的解析度，所述不透光区的至少一侧为半透光区；和/或，所述半透光区的宽度小于曝光机的解析度，所述半透光区的至少一侧为不透光区。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李月，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：