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本实用新型公开了一种用于曝光工艺的掩膜板，包括透光衬底，透光衬底上具有至少一个图案区域，至少一个图案区域内具有半透光区和不透光区，半透光区与不透光区的宽度之和不小于曝光机的解析度，其中：不透光区的宽度小于曝光机的解析度，不透光区的至少一侧为...
该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。

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