过滤器装置、过滤器的收容方法、及曝光装置制造方法及图纸

过滤器装置，具备：过滤器箱，具备保持过滤器的框架，以及设于框架的侧面的至少一部分、往框架的端面侧且变化至框架外侧的形状变化部；以及收容部，为收容过滤器箱；盒体具有卡合于框架的形状变化部而定位框架的定位块与按压框架的端面的分隔板。能将框架的设置以容易定位的方式进行。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是关于保持用以除去例如气体中的不纯物等的过滤器的过滤器装置、过滤器的收容方法、具备该过滤器装置的曝光装置、以及用以使用此曝光装置制造例如半导体元件、液晶显示元件、或摄影元件等的元件制造方法。
技术介绍
在用以制造例如半导体元件等电子元件(微型元件)的光刻工艺中使用的曝光装置中，为了得到高曝光精度(解像度及定位精度等)，需将照明光学系统的照明特性及投影光学系统的成像特性维持于既定的状态且将设置标线片(或掩膜等)、投影光学系统、以及晶圆(或玻璃板等)的空间维持于既定的环境。因此，以往包含曝光装置的照明光学系统的一部分、标线片载台、投影光学系统、以及晶圆载台等的曝光本体部设置于箱型腔室内，于此腔室内具备空调装置，该空调装置将控制成既定温度且通过滤尘器的清净气体(例如空气)以降流方式及侧流方式供给。 又，曝光装置中，为了对应近年的电路图案的显著微细化要求，曝光用光的波长不断变短，最近使用KrF准分子雷射光(波长248nm)及进一步大致为真空紫外区的ArF准分子雷射光(波长193nm)作为曝光用光。在使用此种短波长的曝光用光时，当于曝光用光所通过的空间(例如镜筒的内部空间)内存在微量的有机物的气体(有机系气体)时，曝光用光的透射率即会降低，且有因曝光用光与有机系气体的反应而在透镜元件等光学元件的表面产生雾物质之虞。再者，最好从供应至腔室内的气体亦除去与涂布于晶圆的光阻(感光材料)反应的碱性物质的气体(碱系气体)等。因此，以往是于曝光装置的空调装置的气体的撷取部，设有用以从供给至腔室内的气体除去有机系气体及/或碱系气体等的多个化学过滤器(参照例如专利文献I)。专利文献专利文献I国际公开第2004 / 108252号说明书
技术实现思路
以往的曝光装置中，在将化学过滤器设置于盒体内时，例如将收纳化学过滤器的平板状框架以横置(过滤器面成为铅直方向的面向)搬入至抵接于盒体内的侧壁后，作业者将该框架沿该侧壁相对过滤器面在法线方向移动至既定的设置位置为止。此情形下，若于框架的端面与形成有该盒体的通气用开口的分隔构件的面之间有间隙，即有包含不纯物的气体不通过化学过滤器而经由此间隙被供给至曝光本体部之虞。因此，用以将该框架正确地定位于其设置位置的时间变长、进而使用完毕的化学过滤器的更换时间亦变长。再者，曝光装置中，由于对应被要求的曝光精度的更加提升而增加所设置的化学过滤器的数目，因此需正确且有效率地进行化学过滤器的更换。本专利技术有鉴于上述情事，其目的在于能将过滤器的设置以容易定位的方式进行。根据本专利技术的第I态样，提供一种过滤器装置，为收容过滤器。此过滤器装置，具备第I过滤器箱，具备保持第I过滤器的第I框架，以及设于该第I框架的侧面中第I侧面的至少一部分、从该第I框架的两个端面中一端面侧往另一端面侧且变化至该第I框架外侧的第I形状变化部；以及收容部，收容该第I过滤器箱；该收容部，具备支撑该第I框架的与该第I侧面相异的侧面的第I底座构件、卡合于该第I框架的该第I形状变化部以定位该第I框架的第I定位构件、以及通过该第I定位构件与该第I形状变化部卡合而按压该第I框架的该一端面的第I分隔构件。又，根据本专利技术的第2态样，提供一种曝光装置，以曝光用光经由图案使基板曝光，其特征在于，具备腔室，收纳使该基板曝光的曝光本体部；本专利技术的过滤器装置；以及空调装置，将从该腔室的外部撷取的气体经由该过滤器装置送至该腔室内。又，根据本专利技术的第3态样，提供一种过滤器的收容方法，将过滤器收容于收容 部。此收容方法，包含准备第I过滤器箱的步骤，该第I过滤器箱具备保持第I过滤器的第I框架，以及设于该第I框架的侧面中第I侧面的至少一部分、从该第I框架的两个端面中一端面侧往另一端面侧且变化至该第I框架外侧的第I形状变化部；将该第I框架的与该第I侧面相邻的侧面载置于该收容部的第I底座构件表面的步骤；使该第I框架的该第I形状变化部卡合于该收容部的第I定位构件，以使该第I框架往该收容部的第I分隔构件的方向移动的步骤；以及将该第I框架的该一端面透过第I密封构件按压于该收容部的该第I分隔构件的步骤。又，根据本专利技术的第4态样，提供一种元件制造方法，其特征在于，包含使用本专利技术的曝光装置使感光性基板曝光的动作；以及处理该曝光后感光性基板的动作。根据本专利技术，例如将第I框架的第I形状变化部卡合于第I定位构件，使第I框架移动至第I分隔构件侧，藉此第I框架(第I过滤器)对收容部内的目标位置，能将第I框架的设置以容易定位的方式进行。附图说明图I显示实施形态一例的曝光装置的构成的一部分已切除的图。图2显示图I的过滤器装置26的立体图。图3显示图2的过滤器装置26的剖面图。图4(A)显示图3中的过滤器箱38的立体图，(B)显示图3中的过滤器箱40的立体图。图5(A)及(B)分别显示过滤器箱38与盒体28的相对位置的变化的一部分已切除的俯视图。图6 (A)及(B)分别显示过滤器箱38，40与盒体28的相对位置的变化的一部分已切除的俯视图。图7 (A)显示过滤器箱的设置动作一例的流程图，(B)显示过滤器箱的更换动作一例的流程图。图8 (A)显示第I变形例的过滤器箱38A的立体图，(B)显示第I变形例的过滤器箱40A的立体图。图9 (A)显示第2变形例的过滤器箱38B的立体图，(B)显示第2变形例的过滤器箱40B的立体图。图10显示第3变形例的过滤器装置的剖面图。图11 (A)、(B)、(C)分别显示第4变形例、第5变形例及第6变形例的过滤器箱的俯视图。图12(A)显示第7变形例的过滤器装置的剖面图，(B)显示图12(A)中的过滤器箱的立体图。图13显示电子元件的エ艺一例的流程图。附图标号EX:曝光装置R :标线片PL:投影光学系统 W:晶圆4 :曝光本体部10 :腔室26 :过滤器装置28 :盒体30 :空调装置38，40:过滤器箱42A 42C :分隔板4從 4SC:定位块50，55:框架50b, 55b :第 I 锥部51, 56 :化学过滤器60 :局部空调装置70A, 70B :把手部具体实施例方式以下，參照图I 图7说明本专利技术的较佳实施形态。图I，显示本实施形态的由扫描步进机构成的扫描曝光型曝光装置EX的一部分切除图。图I中，曝光装置EX具备产生曝光用光(曝光用照明光)EL的光源部2、以曝光用光EL照明标线片R(掩膜)的照明光学系统ILS、保持标线片R并移动的标线片载台RST、以及将标线片R的图案的像投影至涂布有光阻(感光材料)的晶圆W(基板)表面的投影光学系统PL。再者，曝光装置EX具备保持晶圆W并移动的晶圆载台WST、其他驱动机构及感测器类等、保管多片标线片的标线片库9、保管多片未曝光及/或曝光完毕的晶圆的晶圆匣7、以及统筹控制曝光装置EX的动作的主控制装置(未图示)。此等的从光源部2至主控制装置(未图示)的构件，设置于例如半导体元件制造エ厂的洁净室内的第I地FLl的上面。又，曝光装置EX具备设置于地FLl上的箱状的高气密性腔室10，腔室10内部，例如被具有两个开ロ(以挡门24R及24W开闭)的分隔构件IOd区划成曝光室IOa与装载室IOb0又，在曝光室IOa内设置有包含照明光学系统ILS、标线片载台RST、投影光学系统PL、以及晶圆载台WST的曝光本体部4，在装载室I本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.04.05 US 61/320,9141.一种过滤器装置，为收容过滤器，其特征在于，具备 第I过滤器箱，具备保持第I过滤器的第I框架，以及设于前述第I框架的侧面中第I侧面的至少一部分、从前述第I框架的两个端面中一端面侧往另一端面侧且变化至前述第I框架外侧的第I形状变化部；以及 收容部，收容前述第I过滤器箱； 前述收容部，具备支撑前述第I框架的与前述第I侧面相异的侧面的第I底座构件、卡合于前述第I框架的前述第I形状变化部以定位前述第I框架的第I定位构件、以及通过前述第I定位构件与前述第I形状变化部卡合而按压前述第I框架的前述一端面的第I分隔构件。2.如权利要求I所述的过滤器装置，其中，前述第I过滤器箱具备第2形状变化部，该第2形状变化部设于前述第I框架的侧面中与前述第I侧面隔着前述第I过滤器为相反侧的第2侧面的至少一部分，从前述一端面侧往前述另一端面侧且变化至前述第I框架外侧； 前述收容部，具有于前述收容部设置成可移动，且卡合于前述第I框架的前述第2形状变化部，将前述第I框架压抵于前述第I定位构件的第2定位构件。3.如权利要求2所述的过滤器装置，其中，前述第I形状变化部具有第I倾斜部，该第I倾斜部形成于前述第I框架的前述第I侧面的至少一部分，从前述一端面侧往前述另一端面侧逐渐倾斜至前述第I框架外侧； 前述第2形状变化部具有第2倾斜部，该第2倾斜部形成于前述第I框架的前述第2侧面的至少一部分，从前述一端面侧往前述另一端面侧逐渐倾斜至前述第I框架外侧。4.如权利要求2或3所述的过滤器装置，其中，前述收容部具备插入前述第I过滤器箱的开口部、关闭前述开口部的门、以及设于前述门内侧且安装有前述第2定位构件的保持构件。5.如权利要求4所述的过滤器装置，其中，前述保持构件与前述门分别设置。6.如权利要求2至5中任一项所述的过滤器装置，其中，前述第I形状变化部及前述第2形状变化部分别形成于前述第I侧面、前述第2侧面的全面。7.如权利要求I至6中任一项所述的过滤器装置，其中，前述第I形状变化部在前述第I侧面分离成至少两个； 前述第I定位构件具有与分离的前述第I形状变化部对应的至少两个第I导引面。8.如权利要求2至6中任一项所述的过滤器装置，其中，前述第2形状变化部在前述第2侧面分离成至少两个； 前述第2定位构件具有与分离的前述第2形状变化部对应的至少两个第2导引面。9.如权利要求I至8中任一项所述的过滤器装置，其具备第2过滤器箱，具备保持与前述第I过滤器相异的第2过滤器的第2框架，以及设于前述第2框架的侧面中第3侧面的至少一部分、从前述第2框架的两个端面中一端面侧往另一端面侧且变化至前述第2框架外侧的第3形状变化部； 前述收容部，具备支撑前述第2框架的与前述第3侧面相异的侧面的第2底座构件、卡合于前述第2框架的前述第3形状变化部以定位前述第2框架的第3定位构件、以及通过前述第3定位构件与前述第3形状变化部卡合而按压前述第2框架的前述另一端面的第2分隔构件。10.如权利要求9所述的过滤器装置，其中，前述第3形状变化部具有第3倾斜部，该第3倾斜部形成于前述第2框架的前述第3侧面的至少一部分，从前述第2框架的前述一端面侧往前述另一端面侧逐渐倾斜至前述第2框架外侧。11.如权利要求9所述的过滤器装置，其中，前述第I框架的前述第I侧面中的前述第I形状变化部的位置与前述第2框架的前述第3侧面中的前述第3形状变化部的位置彼此相异。12.如权利要求9所述的过滤器装置，其中，前述第I形状变化部在前述第I侧面分离成至少两个； 前述第3形状变化部形成于前述第3侧面全面。13.如权利要求9所述的过滤器装置，其中，前述第I形状变化部形成于前述第I侧面全面； 前述第3形状变化部在前述第3侧面分离成至少两个。14.如权利要求9所述的过滤器装置，其中，前述第I形状变化部在前述第I侧面分离成至少两个； 前述第3形状变化部在前述第3侧面分离成至少两个； 前述第I形状变化部的分离位置与前述第3形状变化部的分离位置彼此相异。15.如权利要求9至14中任一项所述的过滤器装置，其中，前述第I定位构件具有与前述第I形状变化部的位置对应的第I导引面； 前述第3定位构件具有与前述第3形状变化部的位置对应的第3导引面。16.如权利要求9至15项中任一项所述的过滤器装置，其中，前述第2过滤器箱具备第4形状变化部，该第4形状变化部设于前述第2框架的侧面中与前述第3侧面隔着前述第2过滤器为相反侧的第4侧面的至少一部分、从前述一端面侧往前述另一端面侧且变化至前述第2框架外侧； 前述收容部，具有于前述收容部设置成可移动，且卡合于前述第2框架的前述第4形状变化部，将前述第2框架压抵于前述第3定位构件的第4定位构件。17.如权利要求16所述的过滤器装置，其中，前述第4形状变化部具有第4倾斜部，该第4倾斜部形成于前述第2框架的前述第4侧面的至少一部分，从前述一端面侧往前述另一端面侧逐渐倾斜至前述第2框架外侧。18.如权利要求16所述的过滤器装置，其中，前述第2形状变化部及前述第4形状变化部分别形成于前述第2侧面及前述第4侧面的全面。19.如权利要求16所述的过滤器装置，其中，前述第I框架的前述第2侧面中的前述第2形状变化部的位置与前述第2框架的前述第4侧面中的前述第4形状变化部的位置彼此相异。20.如权利要求16所述的过滤器装置，其中，前述第2形状变化部在前述第2侧面分离成至少两个； 前述第4形状变化部形成于前述第4侧面全面。21.如权利要求16所述的过滤器装置，其中，前述第2形状变化部形成于前述第2侧面全面；前述第4形状变化部系在前述第4侧面分离成至少两个。22.如权利要求16所述的过滤器装置，其中，前述第2形状变化部在前述第2侧面分离成至少两个； 前述第4形状变化部在前述第4侧面分离成至少两个； 前述第2形状变化部的分离位置与前述第4形状变化部的分离位置彼此相异。23.如权利要求16至21中任一项所述的过滤器装置，其中，前述第2定位构件具有与前述第2形状变化部的位置对应的第2导引面； 前述第4定位构件具有与前述第4形状变化部的位置对应的第4导引面。24.如权利要求16至21中任一项所述的过滤器装置，其中，前述第I形状变化部及前述第3形状变化部分别形成于前述第I侧面及前述第3侧面的全面。25.如权利要求9至24中任一项所述的过滤器装置，其具有设于前述第I框架的第I把手部；以及 设于前述第2框架的第2把手部； 前述第I把手部对前述第I...

【专利技术属性】
技术研发人员：桂公一，松浦惠二，堀田佳成，增川孝志，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：
国别省市：