过滤器子组件、过滤器组件、过滤器和其使用方法技术

技术编号:13901384 阅读:137 留言:0更新日期:2016-10-25 18:41
一过滤器子组件,包括连到记忆材料环的包括管状主体、第一环形体、第二环形体和第三环形体的端帽。管状主体由内径向面、外径向面、第一轴向面和第二轴向面限定。内径向面限定穿过管状主体延伸的通路。第一环形主体在轴向远离管状主体的第一轴向表面在第一轴向延伸。第二环形主体在轴向远离管状主体的第二轴向面在与第一轴向相反的第二轴向延伸。第三环形主体在轴向远离管状主体的第二轴向面在与第一轴向相反的第二轴向延伸。管状主体的第一轴向面和第一环形主体的内径向面的一或二者邻近记忆材料环安置。管状主体的第二轴向面、第二环形主体的内径向面和第三环形主体的外径向面限定环形过滤介质接纳通道。还公开过滤器组件,组件,过滤器及方法。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及一种过滤子组件、过滤组件、过滤器和其使用方法。
技术介绍
在本领域中已知有各种过滤器,用于在流体经过流体通道时对该流体进行过滤。过滤器部分地包括过滤介质,该过滤介质从通过过滤介质的诸如油或燃料的流体中除去杂质。在大多数应用中,必须周期性地替换过滤器组件或与之相关的过滤介质,以便降低在流体通道流动限制方面形成不可接受的高阻抗的潜在可能性。虽然已知的过滤器已被证明对于各种应用是可接受的,但这种常规过滤器可以进行改进,这些改进会提高其整体性能和成本。因此有必要研制领先于现有技术的改进的过滤器和形成过滤器的方法。
技术实现思路
本专利技术提供一种过滤器子组件,其包括端帽,端帽连接到记忆材料环。端帽包括管状主体、第一环形主体、第二环形主体和第三环形主体。管状主体由内径向表面、外径向表面、第一轴向表面和第二轴向表面限定。内径向表面限定穿过管状主体延伸的通路。第一环形主体在轴向离开管状主体的第一轴向表面在第一轴向方向上延伸。第二环形主体在轴向离开所述管状主体的第二轴向表面在与第一轴向方向相反的第二轴向方向上延伸。第三环形主体在轴向离开管状主体的第二轴向表面在与第一轴向方向相反的第二轴向方向上延伸。第一环形主体、第二环形主体和第三环形主体中每一个由内径向表面、外径
向表面和轴向表面限定,轴向表面将内径向表面连接到外径向表面。管状主体的第一轴向表面和第一环形主体的内径向表面中的一者或二者邻近记忆材料环安置。管状主体的第二轴向表面、第二环形主体的内径向表面和第三环形主体的外径向表面共同限定环形过滤介质接纳通道。在一构造中,记忆材料环包括:管状主体,其由内径向表面、外径向表面、第一轴向表面和第二轴向表面限定。记忆材料环的管状主体的内径向表面限定通路,通路穿过记忆材料环的管状主体延伸。穿过端帽的管状主体延伸的通路与穿过记忆材料环的管状主体延伸的通路成流体连通。在一构造中,记忆材料环的管状主体由在记忆材料环的第一轴向表面与记忆材料环的管状主体的第二轴向表面之间延伸的高度限定。第一环形主体由在端帽的管状主体的第一轴向表面与第一环形主体的轴向表面之间延伸的高度限定。记忆材料环的管状主体的高度大于第一环形主体的高度使得记忆材料环的管状主体的外径向表面的周向部分在轴向延伸超过第一环形主体的轴向表面。在一构造中,第一环形主体的内径向表面限定穿过第一环形主体延伸的通路。记忆材料环部分地安置于穿过第一环形主体延伸的通路内。记忆材料环限定一高度尺寸,该高度尺寸大于第一环形主体的高度尺寸,使得记忆材料环连接到端帽,记忆材料环的管状主体的外径向表面的周向部分在轴向延伸超过第一环形主体的轴向表面。在一构造中,第一环形主体的内径向表面限定穿过第一环形主体延伸的通路。穿过第一环形主体延伸的通路由直径限定。记忆材料环的管状主体的外径向表面限定记忆材料环的管状主体的外径。记忆材料环的管状主体的外径近似等于但小于穿过第一环形主体延伸的通路的直径。在一构造中,记忆材料环的管状主体的第二轴向表面的周向部分布置成相对于端帽的管状主体的第一轴向表面呈悬臂式取向。在一构造中,第一环形主体的外径向表面和第二环形主体的外径向表面连接到端帽的管状主体的外径向表面并且与其在轴向对准。在一构造中,第三环形主体的内径向表面连接到端帽的管状主体的内径向表面并且与其对准。在一构造中,第三环形主体的内径向表面限定穿过第三环形主体延伸的通路。穿过第三环形主体延伸的通路与穿过端帽的管状主体延伸的通路在轴向对准并且成流体连通。在另一构造中,提供一种过滤器组件且其包括:过滤介质;第一过滤子组件,其包括第一端帽,端帽连接到第一记忆材料环;第二过滤器子组件,其包括第二端帽,端帽连接到第二记忆材料环。过滤介质包括管状主体,其由内径向表面、外径向表面、第一轴向表面和第二轴向表面限定。内径向表面限定穿过过滤介质的管状主体延伸的通路。第一轴向表面和从第一轴向表面延伸的内径向表面和外径向表面中每一个的一部分限定过滤介质的管状主体的第一端。第二轴向表面和从第二轴向表面延伸的内径向表面和外径向表面中每一个的一部分限定过滤介质的管状主体的第二端。第一过滤器子组件邻近过滤介质的管状主体的第一端安置。第二过滤器子组件邻近过滤介质的管状主体的第二端安置。在一构造中,过滤介质的管状主体的第一端安置于第一过滤器子组件的环形过滤介质接纳槽道内并且连接到环形过滤介质接纳槽道。过滤介质的管状主体的第二端安置于第二过滤器子组件的环形过滤介质接纳槽道内并且连接到环形过滤介质接纳槽道。在一构造中,过滤器组件可以额外地包括中心管。中心管安置于穿过过滤介质的管状主体延伸的通路内。中心管基本上邻近过滤介质的管状主体的内径向表面安置。中心管包括多个径向流体流动通路。在又一构造中,本专利技术提供一种组件,并且其包括连接到过滤器组件上的盖子。盖子包括保持器,保持器安装到盖子的内轴向表面上。保持器包括中心环部分,中心环部分止于多个掣子爪,每个掣子爪各
具有径向向外突出的柔性掣子鼻部。中心环部分安置于穿过管状主体延伸的通路内,该管状主体限定过滤器组件的第一过滤器子组件的所述记忆材料环。多个掣子爪中的每个掣子爪的径向向外突出的柔性掣子鼻部邻近第一过滤器子组件的记忆材料环的管状主体的第二轴向表面的周向部分安置。第一过滤器子组件的记忆材料环的管状主体的第二轴向表面的周向部分布置成相对于第一过滤器子组件的端帽的管状主体的第一轴向表面呈悬臂取向。在又一构造中,提供一种过滤器,并且其包括外壳、盖子和过滤器组件。外壳包括基本上圆柱形主体,基本上圆柱形主体限定通路。盖子连接到外壳。过滤组件安置于通路内,通路由外壳的基本上圆柱形主体限定。在一构造中,限定过滤组件的第二过滤子组件的记忆材料环的管状主体接合并且符合穿过外壳的基本上圆柱形主体的下开口延伸的管状杆部的表面轮廓。在一构造中,第二过滤器子组件的记忆材料环的管状主体的一部分在轴向降低到由管状杆部限定的开口内并且符合、填充且密封该开口,该管状杆部与第二排放管道成流体连通。在另一构造中,提供一种方法且其包括:通过将第一子组件邻近过滤介质的管状主体的第一端布置并且将第二子组件邻近过滤介质的管状主体的第二端布置来组装过滤器组件,其中第一子组件包括连接到第一记忆材料环的第一端帽,第二子组件包括连接到第二记忆材料环的第二端帽;通过将盖子联结到过滤组件的第一子组件而将过滤组件可移除地连接到盖子;当盖子连接到过滤组件时,通过首先将第二子组件穿过上开口插入到外壳限定的通路并且随后将盖子可旋转地连接到外壳,将过滤组件在轴向安置于外壳通路限定的上开口内;在盖子可旋转地连接到外壳上时,第二子组件的第二记忆材料环进一步在轴向前移到外壳限定的通路内以接合并且符合穿过外壳下开口延伸的管状杆部的表面轮廓从而符合并且填充且密封部分地由管状
杆部限定的多个下开口中的至少一个下开口,管状杆部与次要排放管道成流体连通。在一构造中,该方法可以额外地包括:将从盖子的内轴向表面延伸的中心环部分安置于穿过管状主体延伸的通路内,管状主体限定第一记忆材料环;以及将从中心环部分延伸的多个掣子爪中每个掣子爪的径向向外突出的柔性掣子鼻部邻近第一记忆材料环的管状主体的第二轴向表面的周向部分安置。第二记忆材料环的管状主体的第二轴向表本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种组件,包括:过滤器子组件,该过滤器子组件包括端帽,所述端帽连接到记忆材料环,其中所述端帽包括:管状主体,其由内径向表面、外径向表面、第一轴向表面和第二轴向表面限定,其中所述内径向表面限定穿过所述管状主体延伸的通路,第一环形主体,其在轴向离开所述管状主体的第一轴向表面沿第一轴向方向延伸,第二环形主体,其在轴向离开所述管状主体的第二轴向表面沿与所述第一轴向方向相反的第二轴向方向延伸;以及第三环形主体,其在轴向离开所述管状主体的第二轴向表面沿与所述第一轴向方向相反的第二轴向方向延伸;其中所述第一环形主体、所述第二环形主体和所述第三环形主体中每一个由内径向表面、外径向表面和轴向表面限定,所述轴向表面将所述内径向表面连接到所述外径向表面,其中所述管状主体的所述第一轴向表面和所述第一环形主体的所述内径向表面中的一者或二者邻近所述记忆材料环安置,其中所述管状主体的所述第二轴向表面、所述第二环形主体的所述内径向表面和所述第三环形主体的所述外径向表面共同限定环形过滤介质接纳槽道。

【技术特征摘要】
2015.03.27 US 14/670,8641.一种组件,包括:过滤器子组件,该过滤器子组件包括端帽,所述端帽连接到记忆材料环,其中所述端帽包括:管状主体,其由内径向表面、外径向表面、第一轴向表面和第二轴向表面限定,其中所述内径向表面限定穿过所述管状主体延伸的通路,第一环形主体,其在轴向离开所述管状主体的第一轴向表面沿第一轴向方向延伸,第二环形主体,其在轴向离开所述管状主体的第二轴向表面沿与所述第一轴向方向相反的第二轴向方向延伸;以及第三环形主体,其在轴向离开所述管状主体的第二轴向表面沿与所述第一轴向方向相反的第二轴向方向延伸;其中所述第一环形主体、所述第二环形主体和所述第三环形主体中每一个由内径向表面、外径向表面和轴向表面限定,所述轴向表面将所述内径向表面连接到所述外径向表面,其中所述管状主体的所述第一轴向表面和所述第一环形主体的所述内径向表面中的一者或二者邻近所述记忆材料环安置,其中所述管状主体的所述第二轴向表面、所述第二环形主体的所述内径向表面和所述第三环形主体的所述外径向表面共同限定环形过滤介质接纳槽道。2.根据权利要求1所述的组件,其中,所述记忆材料环包括:管状主体,该管状主体由内径向表面、外径向表面、第一轴向表面和第二轴向表面限定,其中所述记忆材料环的所述管状主体的内径向表面限定一通路,所述通路穿过所述记忆材料环的管状主体延伸,其中穿过所述端帽的所述管状主体延伸的所述通路与穿过所述记忆材料环的所述管状主体延伸的所述通路成流体连通。3.根据权利要求2所述的组件,其中,所述记忆材料环的所述管状主体由在所述记忆材料环的所述管状主体的所述第一轴向表面与所述记忆材料环的所述管状主体的第二轴向表面之间延伸的高度限定,其中所述第一环形主体由在所述端帽的所述管状主体的所述第一轴向表面与所述第一环形主体的所述轴向表面之间延伸的高度限定,其中所述记忆材料环的所述管状主体的高度大于所述第一环形主体的所述高度使得所述记忆材料环的所述管状主体的所述外径向表面的周向部分在轴向延伸超过所述第一环形主体的所述轴向表面。4.根据权利要求2所述的组件,其中,所述第一环形主体的所述内径向表面限定穿过所述第一环形主体延伸的通路,其中所述记忆材料环部分地安置于穿过所述第一环形主体延伸的所述通路内,其中所述记忆材料环限定一高度尺寸、该高度尺寸大于所述第一环形主体的高度尺寸,使得当所述记忆材料环连接到所述端帽时,所述记忆材料环的所述管状主体的所述外径向表面的周向部分在轴向延伸超过所述第一环形主体的所述轴向表面。5.根据权利要求2所述的组件,其中,所述第一环形主体的所述内径向表面限定穿过所述第一环形主体延伸的通路,其中穿过所述第一环形主体延伸的所述通路由直径限定,其中所述记忆材料环的所述管状主体的所述外径向表面限定所述记忆材料环的所述管状主体的外径,其中所述记忆材料环的所述管状主体的所述外径近似等于但小于穿过所述第一环形主体延伸的所述通路的直径。6.根据权利要求2所述的组件,其中,所述记忆材料环的所述管状主体的所述第二轴向表面的周向部分布置成相对于所述端帽的所述管状主体的所述第一轴向表面呈悬臂式取向。7.根据权利要求1所述的组件,其中,所述第一环形主体的所述外径向表面和所述第二环形主体的所述外径向表面连接到所述端帽的所述管状主体的所述外径向表面并且与所述端帽的所述管状主体的所述外径向表面在轴向对准。8.根据权利要求1所述的组件,其中,所述第三环形主体的所述内径向表面连接到所述端帽的所述管状主体的所述内径向表面并且与所述端帽的所述管状主体的所述内径向表面对准。9.根据权利要求8所述的组件,其中,所述第三环形主体的所述内径向表面限定穿过所述第三环形主体延伸的通路,其中穿过所述第三环形主体延伸的所述通路与穿过所述端帽的所述管状主体延伸的所述通路在轴向对准并且成流体连通。10.一种过滤器组件,包括:过滤介质,该过滤介质包括管状主体,该管状主体由内径向表面、外径向表面、第一轴向表面和第二轴向表面限定,其中所述内径向表面限定穿过所述过滤介质的所述管状主体延伸的通路,其中所述第一轴向表面和从所述第一轴向表面延伸的所述内径向表面和所述外径向表面二者中每一个的一部分限定所述过滤介质的所述管状主体的第一端,其中所述第二轴向表面和从所述第二轴向表面延伸的所述内径向表面和所述外径向表面二者中每一个的一部分限定所述过滤介质的所述管状主体的第二端;根据权利要求1所述的第一过滤器子组件,其邻近所述过滤介质的所述管状主体的所述第一端安置;以及根据权利要求1所述的第二过滤器子组件,其邻近所述过滤介质的...

【专利技术属性】
技术研发人员:小威利·卢瑟·斯塔米马克·A·罗尔格雷戈里·K·赖恩
申请(专利权)人:维克斯滤清器有限责任公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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