【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及图像处理
，特别是一种。
技术介绍
以量子点为代表的半导体纳米结构有着重要的应用前景。而量子点的形状，几何尺寸，密度等都是很重要的材料參数，对器件性能有很大的影响，获得这些数据对器件研究有着重大的意义。目前，对这些重要材料參数的检测和评价，都是在较大半导体表面对大数量的量子点进行统计测量，获得测量的平均結果。而量子点尺寸，几何形貌等不均匀性会掩盖许多量子点独特的量子物理特性，而这些量子物理特性又是构筑许多纳米光电子器件及单电子器件的基础。目前，表征量子点表面形貌最常用的手段是原子力显微镜(AFM)，比如说量子点的 高度的提取，如果仅以量子点顶点的高度直接測量值作为量子点的高度，那样的结果是十分粗糙的，误差很大。而AFM给出的数据的测量基准是所有采样点的高度的平均值，所以测量的高度值完全依赖于这个平均值基准。虽然AFM设备具有一般颗粒检测算法，但是由于基准衬底高度的变化，AFM针尖在平衡位置附近振动等问题，迄今为止，还没能全自动地精确的测量量子点的尺寸，形状，密度等工具，必须依赖手工或者半手工方式。然而手工或者半手工測量量子点大小強烈地依赖于测...
【技术保护点】
一种基于数学形态学的量子点检测方法，包括如下步骤：步骤1：对原始量子点图像做预处理，增强图像对比度；步骤2：利用带标记的分水岭分割方法对量子点图像进行初步分割，使每个量子点划分到不同的区域；步骤3：将量子点从各自区域中提取出来；步骤4：对提取出来的每个量子点去除衬底；步骤5：得到去除衬底后的量子点，对每个量子点进行标记，提取量子点的各几何形貌特征参数，完成量子点检测。
【技术特征摘要】
1.一种基于数学形态学的量子点检测方法，包括如下步骤 步骤1:对原始量子点图像做预处理，增强图像对比度； 步骤2 :利用带标记的分水岭分割方法对量子点图像进行初歩分割，使每个量子点划分到不同的区域； 步骤3 :将量子点从各自区域中提取出来； 步骤4 :对提取出来的每个量子点去除衬底； 步骤5 :得到去除衬底后的量子点，对每个量子点进行标记，提取量子点的各几何形貌特征參数，完成量子点检测。2.如权利要求I所述的基于数学形态学的量子点检测方法，其中所述的增强图像对比度，是采用形态学高帽变换和低帽变换相结合的方法对图像进行增强预处理；其是将原始图像加上高帽变换后的图像TH(f)，使图像中灰度值较大的区域更亮；接着再减去低帽变换得到的图像BH(f)，使图像中的灰度值较小的区域更暗，使细节更加明显，从而达到增强图像对比度的效果。3.如权利要求I所述的基于数学形态学的量子点检测方法，其中所述的利用带标记的分水岭分割方法对量子点图像进行初歩分割的算法，具体实施步骤为 步骤Ia :利用基于形态学开闭运算的重构计算...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐露露，鲁华祥，边昳，陈旭，龚国良，刘文鹏，张放，金敏，陈刚，
申请(专利权)人：中国科学院半导体研究所，
类型：发明
国别省市：
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