【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种金属有机化合物化学气相沉淀(MOCVD)尾气稀释装置，尤其涉及接机台前的尾气稀释装置。
技术介绍
MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)即金属有机化合物化学气相沉淀，是生产高质量半导体薄膜材料的技术，在LED、半导体激光器、太阳能电池等多个领域都有应用。MOCVD设备中的气体运输系统是设备的核心系统，需要利用H2(或N2)作为稀释气体和载气将MO源携带出来进入腔体反应室反应，同时将反应室内多余的气体带入尾气 处理系统。由于腔体内管路复杂，而且为了避免MO源的壁面沉积，需要用H2(或N2)对气体流经的关键管路持续吹扫。因此MOCVD会排放出纯的H2，NH3和N2，NH3臭味很重会污染环境，而H2是易燃易爆气体，目前常见处理尾气的技术是经过洗涤塔洗涤后排放，洗涤塔对H2没有效果，处理后的尾气在管道摩擦或排放到大气时遇雷雨天气都有安全隐患，可能发生爆炸。由此可见，妥善处理尾气，避免发生爆炸等安全隐患，是一项亟待解决的问题。
技术实现思路
针对现有技术中对MOCVD产生的尾气处理不完全，存在安全隐患的问题，本技术提供一种尾气稀释装置。根据本技术，提供一种尾气稀释装置，包括前段空气稀释管道，后连接管道，以及机台抽风管道，前段空气稀释管道通过第一转向管与后连接管道连接，后连接管道上具有一钻孔，与机台抽风管道连通。优选地，尾气稀释装置的前段空气稀释管道与机台抽风管道平行设置在后连接管道的同一侧；优选地，尾气稀释装置的机台抽风管道与后连接管道通过第二转向管连接。采用本技术的尾气稀释装置，能够在接机台管道前补...
【技术保护点】
一种尾气稀释装置，其特征在于，包括前段空气稀释管道，后连接管道，以及机台抽风管道，所述前段空气稀释管道通过第一转向管与所述后连接管道连接，所述后连接管道上具有一钻孔，与所述机台抽风管道连通。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴冬娟，
申请(专利权)人：苏州艾特斯环保设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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