本发明专利技术提供一种高频烹调装置，向高频烹调装置（1）的加热室（20）供给通过高频发生装置（21）的振荡产生的高频波。加热室（20）的底壁上设有承载转台（30）并旋转的辊支柱（31）。在转台（30）的下表面和加热室（20）的底壁之间，设有防止转台（30）倾斜到规定角度以上的倾斜转动限制构件。形成在加热室（20）的底壁上的突起（50）、形成在转台（30）的下表面上的突起（51）以及连接辊支柱（31）的臂（31b）之间的连接柱（52）等，构成倾斜转动限制构件。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及高频烹调装置。
技术介绍
用高频(微波)使食品的分子振动，用以从内部加热食品的高频烹调装置，一般被俗称为“微波炉”，成为家庭的必备品。有些高频烹调装置中具有承载食品的转台。转台必需在保持规定的位置的状态下稳定转动。为达到上述要求迄今为止也公开有一些方案。专利文献I就是其中的一例。 在专利文献I记载的高频烹调装置中，转台的外周部背面下方设有位移检测装置，用以检测该转台旋转时上下方向的位移。由于即便转台发生少许旋转摇摆，位移检测装置也能够最早检测到该摇摆，所以使用者能够得知食品的承载位置偏离正中央。支承转台的方法有多种，其中一种是在加热室的底壁上装载辊支柱并在辊支柱上承载转台，该辊支柱的前端放射状配置多条具备辊的臂。通过使辊支柱旋转，转台也发生旋转。专利文献2中公开了这种结构例。现有技术文献专利文献专利文献I:日本专利公开公报特开2001-90957号专利文献2:日本专利公开公报特开平6-241876号专利文献2中记载的高频烹调装置，如果用辊支柱支承转台，则支承稳定，此外转台上能够承载相当大的重物。可是，辊支柱的辊不是支承转台的最外周部，一般都是支承在向旋转中心的方向凹入的部位。因此，在转台上，当力作用到从辊支柱突出的部位时，转台会大幅倾斜，甚至可能偏离辊支柱。
技术实现思路
鉴于上述问题，本专利技术的目的是提供一种用辊支柱支承转台的高频烹调装置，即使转台的边缘上作用有力，转台也不会发生倾斜而偏离辊支柱。按照本专利技术的优选实施方式，高频烹调装置包括加热食品的加热室；配置在所述加热室的底壁上的辊支柱，承载转台并旋转；以及倾斜转动限制构件，配置在所述转台的下表面和所述加热室的底壁之间，所述倾斜转动限制构件防止所述转台倾斜到规定角度以上。按照本专利技术的优选实施方式，在上述结构的高频烹调装置中，在所述加热室的底壁上、且在该加热室的正面开口与所述辊支柱之间的位置上形成有突起，所述突起构成所述倾斜转动限制构件。按照本专利技术的优选实施方式，在上述结构的高频烹调装置中，在所述转台的下表面上、沿直径大于所述辊支柱的圆弧形成有突起，所述突起构成所述倾斜转动限制构件。按照本专利技术的优选实施方式，在上述结构的高频烹调装置中，所述辊支柱的、前端上安装有辊的臂之间用连接柱连接，所述连接柱构成所述倾斜转动限制构件。按照本专利技术，由于转台的下表面和加热室的底壁之间配置有倾斜转动限制构件，所以即使转台上从辊支柱突出的部位上作用有力，转台也不会发生偏离辊支柱的倾斜。因此转台保持在规定的位置上稳定旋转。附图说明图I是本专利技术的第I实施方式的高频烹调装置的立体图。图2是简要表示高频烹调装置的内部结构的垂直断面图。图3是加热室的侧面外观图。图4是表示高频烹调装置的内部结构的局部垂直断面图。 图5是加热室底部的俯视图。图6是高频烹调装置的模块结构图。图7是与图4相同的局部垂直断面图，表示与图4不同的状态。图8是表示第2实施方式的高频烹调装置的内部结构的局部垂直断面图。图9是与图8相同的局部垂直断面图，表示与图8不同的状态。图10是表示第3实施方式的高频烹调装置的内部结构的局部垂直断面图。图11是与第3实施方式对应的加热室底部的俯视图。图12是与图10相同的局部垂直断面图，表示与图10不同的状态。图13用于说明现有结构的问题，是与图12相同的局部垂直断面图。附图标记说明I高频烹调装置10 箱体11 门15操作部18冷却扇20加热室21高频发生装置3O 转台31辊支柱32 电机40控制装置50突起(倾斜转动限制构件)51突起(倾斜转动限制构件)52连接柱(倾斜转动限制构件)具体实施例方式以下，根据图I至图7说明第I实施方式的高频烹调装置I的结构。在图I中，纸面的上下与高频烹调装置I的上下一致。此外纸面左侧为高频烹调装置I的左侧，纸面右侧为高频烹调装置I的右侧。高频烹调装置I包括由长方体状的金属板制结构件构成的箱体10。箱体10的内部设有由小一圈的长方体形状的金属板制结构件构成的加热室20。加热室20的开口部位于箱体10的正面侧。箱体10的正面设有开关加热室20的开口部的金属制的门11。门11左侧一端通过合叶12连接在箱体10上，门11以合叶12为支点在水平面内旋转。门11上形成观察加热室20内部的窗13。窗13上嵌入以两枚玻璃板夹持冲孔金属板的门屏蔽部件14，以在保持透视性的状态下防止电波泄漏。除了门屏蔽部件14以外，门11上还有其他防止电波泄漏的措施，此外安装有防止加热室的气体泄漏的密封垫，并设有保持关闭状态的锁装置，因为这些都是公知技术，故省略具体说明。箱体10的门11右侧的部分上形成操作部15。作为操作接口，操作部15上配置有一组膜片开关15a和旋钮15b。膜片开关15a的上方设有液晶面板构成的显示装置15c。箱体10通过支脚部16 (参照图2)支承在桌子和台面上。支脚部16包括正面侧和背面侧的左右各两个部位、共计四个接地部16a，形成四点支承。 接着说明高频烹调装置I的内部结构。加热室20右侧的侧壁的外表面上，安装有高频发生装置(磁控管)21。高频发生装置21向加热室20的内部供给高频波。高频发生装置21位于操作部15里侧的箱体10内的空间。同一空间内还配置有构成后述控制装置的电路基板(未图不)。加热室20右侧的侧壁的外表面上还设有照亮加热室20内部的照明装置22。照明装置22为发光二极管(LED)光源，加热室20的右侧壁上形成光透过孔24的多个矩形集合，所述光透过孔24用于透过多个LED23放出的光。光透过孔24的大小和排列与门屏蔽部件14的冲孔金属板的孔相同，电波不会从此处泄漏。光透过孔24的集合被长方体形状的罩25从加热室20的外侧覆盖。罩25包围LED23，成为LED23的安装底座。罩25由冲孔金属板构成，可供冷却LED23的空气出入。箱体10右侧的侧面上形成由小孔的集合组成的排气口 17，排气口 17的内侧配置有冷却扇18。冷却扇18运转时，箱体10内部的空气从排气口 17排出，其结果，高频烹调装置I外部的空气被从箱体10另外的部位上设置的未图示的吸气口吸入。吸入的空气流向冷却扇18，该空气流用于冷却高频发生装置21、LED23、电路基板等发热元件。加热室20的底壁的大体中心位置上形成旋转轴通孔26。而且加热室20的底壁上形成将旋转轴通孔26置于其中心的圆形的浅凹部27。承载被加热物的食品的转台30配置在加热室20中。高频烹调装置I的加热对象包含固体、流体和液体，本说明书中将其统称为“食品”。转台30为平面圆形的玻璃制构件，上表面像盘子一样略微凹陷。转台30通过辊支柱31被支承在加热室20的底壁上。如图5所示，从辊支柱31中心的轮毂31a以120°间隔放射状突出设有三条臂31b，每个臂31b的前端分别保持一个辊31c，并使所述辊能旋转自如。辊31c与凹部27的上表面和转台30的下表面双方接触，以支承转台30和食品的重量。为了不偏离辊支柱31，转台30的下表面形成有围住三个辊31c的环状的肋30a。通过旋转轴31d将旋转传递到辊支柱31。旋转轴31d以从轮毂31a垂下的方式与轮毂31a—体成型。旋转轴31d上下贯穿旋转轴通孔26。突出于加热室20底壁下表面的旋转轴31d，与电机32的输出轴32a以不能相对旋转的方式连接。电机32为本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：田积宜公，青山健一，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。