光记录介质制造技术

本发明专利技术提供一种在多层型的光记录介质中，离激光入射侧最远的记录再现功能层以外的记录再现功能层中的反射率均匀性、耐久性、信号强度等优良的光记录介质。该光记录介质具有半透明的记录再现功能层，该记录再现功能层从激光入射侧起依次至少具有第1保护层、第2保护层、记录层、第3保护层、反射层以及第4保护层，所述第2保护层和所述第4保护层由具有相同构成元素的材料构成，所述第2保护层的折射率比第1保护层的折射率大0.3以上，当设所述第2保护层的膜厚为D2、设所述第4保护层的膜厚为D4、设在使该激光对焦于所述记录层的情况下的记录前反射率为R时，使R相对于膜厚的增加率d(R)/d(D2)和d(R)/d(D4)的正负相反。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有多个记录层的多层型的光记录介质。
技术介绍
近年来，伴随信息量的增大，期望容量越来越高的光记录介质。作为高容量化的一种方法，可列举这样的多层化技术将I个记录层和为了在该记录层进行记录再现所需的反射层、保护层等的集合(以下将该集合称为“记录再现功能层”)隔开能进行光学分离的程度的距离来进行多层重叠，从而形成多层型的光记录介质，大幅增加容量。在多层型的光记录介质的离激光入射侧最远的记录再现功能层(以下称为“最外记录再现功能层”)中，一般，无需增大透射率，因而可采用与单层型的光记录介质相同的光记录介质的设计。另一方面，最外记录再现功能层以外的记录再现功能层(以下称为“透射型记录再现功能层”)由于需要预定的透射率，因而只能使用入射光的一部分用于信号的记录再现。并且，离激光入射侧最近的记录再现功能层以外的记录再现功能层由于在其跟前侧存在记录再现功能层，因而仍只能使用入射光的一部分用于信号的记录再现。因此，多层型的光记录介质中的各记录再现功能层与单层型的光记录介质相比较，获得的信号强度显著变小。因此，多层型的光记录介质的再现系统需要能应对信号强度小的情况，近年来开发出许多这样的再现技术。一般，透射型记录再现功能层从激光入射侧起依次设有保护层、记录层、保护层、反射层、保护层。为了提高透射型记录再现功能层的透射率，考虑使用透射率高的材料用于构成透射型记录再现功能层的各层的材料，或者使构成透射型记录再现功能层的各层的厚度变薄。例如，尽管考虑使记录层和反射层变薄，然而这些层无论是在热方面还是光学方面对信号强度的作用都较大，存在越薄则记录再现特性越降低的倾向。因此，在考虑透射性的情况下，优选层薄，不一定能选择仅使记录特性的优化优先、可清晰形成记录标记的层结构。因此，在透射型记录再现功能层中，反射层和记录层的膜厚的调整范围存在必然缩小的倾向。更准确地说，包含反射率和透射率在内的记录再现功能层的记录再现特性由与形成在反射层和记录层的上下的保护层的组合所决定，然而与无需减小透射率的情况相比较，膜厚等的调整范围存在极端缩小的倾向。另外，特别是在可改写的相变型光记录介质中，反射层具有这样的作用从吸收了激光的相变型记录层迅速排放热，形成清晰的非晶形标记。在实验上，能够采用通过将热传导度大的反射层设定得较厚，从而容易记录且容易擦除的光记录介质的设计，然而以形成多层型的光记录介质为目的来设计具有薄的反射层的光记录介质明显很困难。而且，在具有2层记录再现功能层的可改写的相变型光记录介质中的激光入射侧的记录再现功能层的情况下，如果记录线速度快，则使用IOnm左右的Ag合金等作为反射层，通过慎重进行记录层、保护层等的膜厚设计，也不是不可能获得商品化所需要的级别的信号特性。然而，目前难以应用于多于2层的多层型的光记录介质，并且也不能期望记录线速度的提高。然后，记录层和反射层之间的保护层是从吸收光能而温度升高的记录层使热排放到反射层的层。根据该保护层的厚度来控制来自记录层的散热效果，然而由于记录层和反射层的膜厚调整范围小，因而为了获得优选的散热效果，也大致决定了该保护层的膜厚。因此，该保护层的膜厚调整范围小，一般，膜厚比其它2个保护层薄。根据以上，大多利用外侧的2个保护层来调整记录再现功能层的透射率。外侧的2个保护层的透射率的调整通过利用用于该外侧的2个保护层的材料(电介质)的干涉效果来调整反射率来进行。通常，透明树脂和基板的折射率是I. 5附近的情况较多，因而通过使其与夹持记录再现功能层的透明树脂和基板的折射率相比较尽量大，从而可自由调整反射率。并且，外侧的2个保护层变厚至某种程度的情况较多，因而透明性高是优选的，特别在用于记录再现的激光的波长(以下有时称为“记录再现激光波长”)中透明性高是优选的。在光记录介质中，使用例如记录再现激光波长在450nm以下的光记录介质较多，在该波长时可优选利用的材料受到限制。而且，在进行利用溅射法等形成某种程度厚的保护层来进行生产的情况下，膜形成速度快的材料是优选的。从以上观点来看，作为保护层的材料，优选满足折射率大、吸收小、膜形成速度快等优良条件，作为优选材料，优选使用以ZnS作为主成分的材料。例如，(ZnS)8tl (SiO2)2tl等为特别是在相变光盘中经常使用的材料(参照专利文献I)。先行技术文献专利文献专利文献I :日本特开2007-17271
技术实现思路
专利技术要解决的课题当制造光记录介质时，根据用于形成记录再现功能层的装置(例如，溅射装置等)的性能，存在光记录介质内的层的膜厚和膜质变得不均匀的倾向。本专利技术的专利技术者等进行了探讨，显而易见，由于该光记录介质内的层的膜厚和膜质的不均匀性，使得光记录介质的记录特性产生问题。例如，由于光记录介质内的层的膜厚不均匀而使得反射率不均匀。特别是，在多层型的光记录介质中，透射型记录再现功能层存在由膜厚和膜质的不均匀性引起的影响更显著的倾向。这里，以ZnS作为主成分的材料是折射率大、光吸收小、膜形成速度快的优良材料，因而被大量用于形成保护层，然而存在难以获得膜厚均匀性高的层的倾向。因此，存在在光记录介质内容易产生膜厚的变化，在光记录介质整面内难以获得优良的记录再现特性的倾向，该倾向在离激光入射侧最远的记录再现功能层以外的半透明的记录再现功能层中尤其明显。为了改善该课题，例如考虑了进行即使膜厚变化也难以使记录再现特性发生变化的记录再现功能层的设计的方法，然而透射型记录再现功能层由于如上所述各层的膜厚调整范围小，因而存在调整不了光记录介质的记录再现特性的课题。并且，由膜厚的不均匀性引起的记录再现特性的不均匀性的课题在记录再现激光波长短的光记录介质中更显著。这是因为，在没有基于波长的折射率的变化的情况下，基于膜厚差起因的光路差的相位差与记录再现激光波长成反比。该倾向成为当膜厚变厚时光记录介质内的膜厚差变大、因而特性分布相应变大的一个原因。本专利技术是为了解决上述课题而作成的，本专利技术的目的是获得一种在多层型的光记录介质中、离激光入射侧最远的记录再现功能层以外的记录再现功能层中的反射率均匀性、耐久性、信号强度等优良的光记录介质。用于解决课题的手段本专利技术的专利技术者等发现，通过在具有从激光入射侧依次至少具有第I保护层、第2保护层、记录层、第3保护层、反射层以及第4保护层的记录再现功能层的光记录介质中，将膜厚调整范围比较大的第2保护层和第4保护层的膜厚调节成具有特定关系，可解决上述课题，从而完成本专利技术。S卩，本专利技术的主旨在于一种光记录介质，所述光记录介质具有半透明的记录再现功能层，所述记录再现功能层从激光的入射侧起依次至少具有第I保护层、第2保护层、记录层、第3保护层、反射层以及第4保护层，所述光记录介质的特征在于，所述第2保护层和所述第4保护层由具有相同构成元素的材料构成，所述第2保护层的折射率比第I保护层的折射率大O. 3以上，当设所述第2保护层的膜厚为D2、设所述第4保护层的膜厚为D4、设在使该激光对焦于所述记录层的情况下的记录前反射率为R时，R相对于膜厚的增加率d(R)/d(D2)和d(R)/d(D4)的正负相反。此时，优选的是，所述第2保护层和所述第4保护层由含有ZnS的材料构成。并且，优选的是，所述第I保护层的膜厚在12nm以上，而且记录再现激光波长下的折本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：大野孝志，野田善宏，
申请(专利权)人：三菱化学媒体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：