【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种流体处理设备腔体，特指一种正压运行时在待处理腔室及相关连接管道所形成的等压腔室上安装压力传感器的流体处理设备腔体，可广泛用于工业循环水，民用循环水，制药，化工，食品加工，环境工程，冶金，中央空调，电力，轻工，船舶，军事，航空航天等领域的各种流体处理设备上。
技术介绍
在现代流体处理设备中对自动化的要求越来越高，用什么检测数具来实现自动 化，怎样取得这些数具进行自动运行控制，人们在这方面的研发投入还不够，随着PLC技术的进步，压力传感器技术的成熟，用压力传感器取得的数具进行流体处理设备控制变成为一种新技术，合理的控制流体处理设备正常工作与反冲或排污之间的间隔时间，减少盲目的反冲洗、排污的次数，节约设备的运行成本，提高设备的安全运行系数。专利技术的目的 本专利技术由于在流体处理设备运行泵至待处理腔室及与待处理腔室相连的管路和设备所形成的等压腔室上安装有压力传感器，使得正压式运行的流体处理设备，可利用安装在该等压区域腔室上的压力传感器实现流体处理设备的压力保护及相关设备操作运行，合理的控制流体处理设备正常运行、反冲、排污之间的间隔时间，并对节约设...
【技术保护点】
一种正压运行等压腔体主要包含有；入口管道，出口管道，待处理腔室，已处理腔室，腔体，压力传感器，运行泵，其特征在于：压力传感器安装在待处理腔室上，或压力传感器安装在运行泵至待处理腔室所形成的等压腔室区域的任意位置上。
【技术特征摘要】
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