周表面抛光刷和生产磁性记录介质用玻璃基板的方法技术

本发明专利技术涉及周表面抛光刷和生产磁性记录介质用玻璃基板的方法，抛光刷用于抛光在其中心处具有圆形孔的磁性记录介质用玻璃基板的内周表面，其中周表面抛光刷包括具有植入其上的刷丝的轴，并且当对轴施加19.6N的载荷时，轴具有420μm或更小的最大弯曲值。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及周表面抛光刷和使用周表面抛光刷生产磁性记录介质用玻璃基板的方法。
技术介绍
随着近年来磁盘的高记录密度的増加，磁性记录介质用玻璃基板所需的特性变得越来越严格。具体地，当其中心处具有圆形孔的用于磁性记录介质的盘形玻璃基板的边缘表面被抛光时，玻璃基板的边缘表面的形状和尺寸的质量所需的精度増加。磁性记录介质用玻璃基板在生产所述玻璃基板的过程中经受周表面抛光，以便去除玻璃基板的侧表面或倒角部分上的刮痕和粗糙部并从而将表面精加工成平坦的镜面。通过将玻璃基板的侧表面或倒角部分精加工成平坦的镜面，玻璃基板的机械性能得到提高。 此外，侧表面或边缘表面上的粗糙部上存在的异物被減少且由侧表面或边缘表面的粗糙部产生的树脂材料盒的磨损弓I起的颗粒被减少。在玻璃基板的内周表面抛光中，例如，玻璃基板被堆叠的玻璃基板堆被安装在周表面抛光机器上，且抛光刷被插入玻璃基板堆中以抛光。然而，当抛光刷被推入玻璃基板堆的内周表面中时，存在抛光刷的轴由于玻璃基板堆的排斥カ而弯曲的问题。因此，专利文献I公开了通过在对抛光刷施加向下载荷的状态下抛光玻璃基板堆来抑制抛光刷的弯曲。 JP-A-2006-007350
技术实现思路
然而，在专利文献I的方法中，存在需要施加向下载荷的设备且周表面抛光机器具有复杂构造的问题。此外，实际上不能评估抛光的变化和玻璃基板堆中的镜面缺陷。因此，本专利技术的目的是提供ー种周表面抛光刷，其能够均匀地且稳定地抛光内周倒角部分和内周侧表面而不必使用具有复杂构造的任何周表面抛光机器。本专利技术提供ー种周表面抛光刷，用于对磁性记录介质用玻璃基板的内周表面进行抛光，在所述玻璃基板的中心处具有圆形孔，其中所述周表面抛光刷包括轴，在所述轴上植入有刷丝，并且当对所述轴施加19. 6N的载荷时，所述轴具有420 u m或更小的最大弯曲值。本专利技术的效果如下。本专利技术提供ー种周表面抛光刷，其能够均匀地且稳定地抛光内周倒角部分和内周侧表面而不必使用具有复杂构造的任何周表面抛光机器。附图说明图I是示出通过根据本专利技术的生产磁性记录介质用玻璃基板的方法构造玻璃基板的透视横截面图。图2是示出磁性记录介质用玻璃基板的内周表面被抛光的状态的示意图。图3是示出根据本专利技术的周表面抛光刷的示意性横截面视图。图4是根据本专利技术的周表面抛光刷的放大的横截面视图。附图标记说明I...玻璃基板2 主表面3…圆形孔4 外周表面5...外周侧表面6...外周倒角部分7...内周表面8...内周侧表面 9...内周倒角部分10...间隔件11...玻璃基板堆12...周表面抛光刷13…刷丝14...轴15...通道部件16...植入的丝的长度17...通道部件的高度18...植丝部分19...通道部件的节距宽度20...周表面抛光刷的外径21…刷丝的长度具体实施例方式在下文中，将描述本专利技术的优选实施例，但是本专利技术不限于此。首先，将描述使用周表面抛光刷抛光磁性记录介质用玻璃基板的构造。图I是示出玻璃基板的构造的透视横截面视图。在图I中，玻璃基板I具有环状物形状，其在主表面2的中心处具有圆形孔3。玻璃基板I的外周的侧表面是外周表面4,而圆形孔3的侧表面是内周表面7。外周表面4包括与主表面2形成90度角度的外周侧表面5和在外周侧表面5处接触主表面2的外周倒角部分6。而且，内周表面7包括与主表面2形成90度角度的内周侧表面8 ;和接触主表面2及内周侧表面8的内周倒角部分9。图2是示出磁性记录介质用玻璃基板的内周表面被抛光的状态的示意图。当磁性记录介质用玻璃基板的内周表面被抛光吋，多个盘形玻璃基板使圆形孔重叠，使得玻璃基板对应于圆形孔的位置，从而形成玻璃基板堆。此时，如图2所示，间隔件10可以例如插入相邻的盘形玻璃基板I之间。通过将间隔件10插入其间，刷丝和抛光浆料容易进入到主表面2和内周倒角部分9之间的边界，且内周表面7能够被进一步均匀地抛光。此外，可防止对玻璃基板的主表面的刮擦。通常，在玻璃基板堆中，间隔件10的圆形孔具有与玻璃基板的圆形孔相同的中心轴线且中心轴线在垂直于玻璃基板I的主表面2的方向上延伸。优选地，间隔件10的圆形孔的内径略微大于由玻璃基板I的主表面2和主表面2的内周倒角部分9之间的边界形成的直径。通过使间隔件10的圆形孔的内径略大于由玻璃基板I的主表面2和主表面2的内周倒角部分9之间的边界形成的直径，内周倒角部分9的整个表面可被均匀地抛光。而且，间隔件10的厚度优选地是0. 2mm至0. 5mm。当间隔件10的厚度小于0. 2mm时，可能难以均匀地抛光内周倒角部分9的整个表面。另ー方面，当间隔件10的厚度大于0. 5mm吋，由于玻璃基板堆的尺寸増加，所以不是优选的。同样，间隔件10的材料具体不受限制，而是例如可使用橡胶、塑料、铝合金、不锈钢等。堆叠多个玻璃基板的玻璃基板堆11安装在保持部分中以将玻璃基板堆保持在众所周知的内周表面抛光机器中。然后，将下述的周表面抛光刷12插入形成在玻璃基板堆11的中心处的圆形孔3中，使得玻璃基板的内周侧表面8及内周倒角部分9与刷丝13接触。之后，将包含研磨料的抛光浆料供应到玻璃基板的内周侧表面8和内周倒角部分9。在该状 态下，通过在相反的方向旋转玻璃基板堆11和周表面抛光刷12来执行抛光。此时，例如，周表面抛光刷12可被强有力地压到玻璃基板堆11上约I. 5mm至约2.Omm的深度。而且，可通过使周表面抛光刷12在刷插入方向上往复运动来执行抛光。而且，周表面抛光刷12往复运动的往复运动距离优选地为玻璃基板堆在堆方向上的长度的15%或更多。当周表面抛光刷12往复运动的往复运动距离低于玻璃基板堆沿堆方向的长度的15%时，可能会由玻璃基板堆沿抛光刷的轴向方向的变化特性弓I起抛光的变化量。在图2中，通过堆叠六个盘形玻璃基板形成了玻璃基板堆，但是本专利技术不限于此。待堆叠的多个盘形玻璃基板的堆叠数目具体不受限制且玻璃基板堆可形成为例如堆叠100、200或300个玻璃基板。通常，通过增加堆叠的玻璃基板的数目，许多玻璃基板可被同时抛光且鉴于经济效率和效能是更优选的。图3是示出根据本专利技术的周表面抛光刷12的示意性横截面视图。而且，图4是周表面抛光刷12的放大的横截面视图。周表面抛光刷12通常包括周向轴14和安装在轴14上的刷丝13。刷丝13在大体垂直于轴14的周向方向的方向上植入。周向轴14在轴向方向上在中心处的最大弯曲值5 (um)使用施加的载荷P(N)、轴14在轴向方向上的长度L(mm)、轴的直径r (底部的半径)(mm)和构成材料的杨氏模量E(GPa)定义为以下公式(I)。6 =PL3/(12 JI r4E)(I)測量公式(I)的最大弯曲值的方法在上面示出且本专利技术不限于此。例如，轴的在轴向方向上的两端的IOmm内侧被支撑，在轴向方向上利用推拉规等将19. 6N的载荷施加到轴的中心且利用刻度表等测量运动距离(即，最大弯曲值)。在本专利技术的周表面抛光刷12中，在19. 6N的载荷被施加到轴14的情形中的弯曲值优选地为420 u m或更小，更优选地为400 u m或更小，甚至更优选地为300 u m或更小，特别优选地为250iim或更小。通过使用其中当19. 6N的载荷被施加到轴14时弯曲值为420 u m或更小的周表面抛光刷，当内周表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种周表面抛光刷，用于对磁性记录介质用玻璃基板的内周表面进行抛光，在所述玻璃基板的中心处具有圆形孔，其中所述周表面抛光刷包括轴，在所述轴上植入有刷丝，并且当对所述轴施加19.6N的载荷时，所述轴具有420μm或更小的最大弯曲值。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：鹿岛出，吉宗大介，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：