磁记录介质用软磁性合金、溅射靶材以及磁记录介质制造技术

本发明专利技术提供具有低矫顽磁力、高无定形性、高耐腐蚀性及高硬度的垂直磁记录介质用软磁性合金、以及用于制作该合金的薄膜的溅射靶。该合金以at.％计含有Zr及Hf的1种或2种合计为6～20％、含有B1～20％、含有Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ni、Al、Si、P的1种或2种以上合计0～7％，剩余部分含有Co和/或Fe、以及不可避免的杂质。该合金还满足6≤2×(Zr％+Hf％)-B％≤16、以及0≤Fe％/(Fe％+Co％)＜020。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及作为垂直磁记录介质中的软磁性层膜来使用的Co_(Zr，Hf)_B系合金、派射祀材以及磁记录介质。
技术介绍
近年来，磁记录技术的进步十分显著，为了实现驱动器的大容量化，而推进了磁记录介质的高记录密度化。例如，可实现比以往已普及的面内磁记录介质更高的记录密度的垂直磁记录方式已经实用化。所谓垂直磁记录方式是指易磁化轴相对于垂直磁记录介质的磁性膜中的介质面以沿垂直方向进行取向的方式而形成，是适于高记录密度的方法。而且，在垂直磁记录方式中，开发出提高了记录灵敏度的具有磁记录膜层和软磁性膜层的双层记录介质。该磁记录膜层一般使用CoCrPt-SiO2系合金。另一方面，以往的软磁性膜层需要强磁性和无定形性，进而根据垂直磁记录介质的用途或使用环境，还附加地要求高饱和磁通密度、高耐腐蚀性、高硬度等各种特性。例如如日本特开2008-260970号公报(专利文献I)中所公开的那样，使用的是如下的材料，即，以作为耐腐蚀性高的强磁性元素的Co为基质，为了提高无定形性而添加了以Zr为代表的促进无定形化的元素而得的材料。另外，如日本特开2008-299905号公报(专利文献2)中所公开的那样，通过本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.08.24 JP 2010-1868761.一种磁记录介质用软磁性合金， 其以at.%计含有: Zr及Hf的I种或2种:合计为6 20%、 B:1 20%、 T1、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、N1、Al、S1、P 的 I 种或 2 种以上:合计 0 7%, 剩余部分含有Co和/或Fe、以及不可避免的杂质， 并且满足下式: 6≤ 2X (Zr% +Hf% )-B%^ 16、以及 0 ≤ Fe% /(Fe% +Co% ) < 0.20。2.根据权利要求1所述的合金，其中， 所述合金以at.%计含有: Zr及Hf的I种或2种:合计为6 20%...

【专利技术属性】
技术研发人员：泽田俊之，长谷川浩之，岸田敦，
申请(专利权)人：山阳特殊制钢株式会社，
类型：
国别省市：