光学级的涂覆PET膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种光学级的涂覆PET膜及其制备方法，它由三层共挤膜和表面涂层构成，所述表层材料包括混合母料和PET白切片，二者的质量比为0.17～0.5：1；所述混合母料由纳米母料和微米母料按0.05～0.3：1的质量比混合而成，所述芯层为PET白切片层；所述涂层采用丙烯酸类水性涂布液，其中添加有粒径在20～100nm的水性纳米SiO2。所述方法是在纵向拉伸之后，横向拉伸之前对该光学薄膜进行化学涂覆。其具有低雾度、高透光率、表面洁净生产分切性能优良。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学级的涂覆PET膜其制备方法，主要用于汽车贴膜，建筑贴膜等对薄膜光学性能要求较高的领域。
技术介绍
目前市场上传统的光学膜产品属于内添加型，即向原料中加入粒径为次微米级甚至更小的抗粘连添加剂，对提高薄膜光学性能方面具有局限性，该方法主要存在以下不足 I、添加剂中有效成分粒径小，分散不均匀，容易使薄膜形成晶点、雾点，对薄膜光学性能造成不良影响。2、添加剂中有效成分粒径小，影响薄膜表面平整性，使薄膜表面出现瑕疵。3、生产分切性能不良，易产生褶皱、串边等现象。
技术实现思路
本专利技术的目的之一在于克服上述不足，提供一种具有低雾度、高透光率、表面洁净的光学级的涂覆PET膜，其解决了低雾度薄膜生产分切性能不良产生的褶皱，串边等问题。提高产品光学性能同时，不影响产品的机械性能。本法的目的之二在于提供一种光学级的涂覆PET膜的制备方法。本专利技术的目的是这样实现的 一种光学级的涂覆PET膜，它由三层共挤膜和表面涂层构成，所述三层共挤膜为ABA结构，其中A层为表层，B层为芯层； 所述表层材料包括混合母料和PET白切片，二者的质量比为0. 17 0. 5 1 ;所述混合母料由本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学级的涂覆PET膜，其特征在于：它由三层共挤膜和表面涂层构成，所述三层共挤膜为ABA结构，其中A层为表层，B层为芯层；所述表层材料包括混合母料和PET白切片，二者的质量比为0.17～0.5：1；所述混合母料由纳米母料和微米母料按0.05～0.3：1的质量比混合而成，所述纳米母料为含有平均直径0.05～0.2μm微粒填料的母料；所述微米母料为含有平均直径1.0～5μm微粒填料的母料；？所述芯层为PET白切片层；所述涂层采用丙烯酸类水性涂布液，其中添加有粒径在20～100nm的水性纳米SiO2。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：潘世新，胡昊，谢秦，孙武，范国训，
申请(专利权)人：江阴金中达新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：