移动体驱动方法及移动体驱动系统、图案形成方法及装置、曝光方法及装置、以及组件制造方法制造方法及图纸

控制装置根据测量移动体WST相对XY平面的倾斜角的干涉仪的测量值，在光栅(39Y1,39Y2)的周期方向使移动体相对XY平面倾斜角度α，根据此倾斜前后的编码器系统(62A,62C)的测量值与角度α的信息，算出光栅表面相对XY平面内的移动体的位置控制的基准的基准面(例如投影光学系统的像面)的阿贝偏移量。接着，控制装置根据编码器系统所测量的XY平面内的移动体的位置信息、及因光栅表面的阿贝偏移量造成的移动体相对XY平面的倾斜角所对应的编码器系统的测量误差，沿着XY平面驱动移动体。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种移动体驱动方法及移动体驱动系统、图案形成方法及装置、曝光方法及装置、以及组件制造方法，更详细地说，涉及沿着规定平面驱动移动体的移动体驱动方法及移动体驱动系统、利用该移动体驱动方法的图案形成方法及具备该移动体驱动系统的图案形成装置、利用该移动体驱动方法的曝光方法及具备该移动体驱动系统的曝光装 置、以及利用该图案形成方法的组件制造方法。
技术介绍
以往，在制造半导体组件、液晶表示组件等的微型组件(电子组件等)的光刻过程中，较常使用步进重复方式的缩小投影曝光装置(所谓的步进器)、步进扫描方式的缩小投影曝光装置(所谓的扫描步进器(也称为扫描仪))等。这种曝光装置，为了将标线片(或掩膜)的图案转印于晶片上的多个照射区域，保持晶片的晶片载台通过例如线性马达等驱动于XY 二维方向。特别是扫描步进器，不仅可驱动晶片载台，也可将标线片载台通过线性马达等以规定距离驱动于扫描方向。标线片载台或晶片载台的位置测量，一般使用长期测量值的稳定性良好、具高分辨率的激光干涉仪。然而，由于半导体组件高度集成化所伴随的图案的微细化，越来越要求须要有更高精度的载台位置控制，目前，因激光干涉仪的光束光路上的环境气氛的温度动荡导致的测量值短期变动，占据了重叠精度中相当大的比重。另一方面，作为使用于测量载台位置的激光干涉仪以外的测量装置虽有编码器，但由于编码器使用标尺，因此该标尺欠缺机械性长期稳定性(栅格间距的偏移、固定位置偏移、热膨胀等)，与激光干涉仪相比，有欠缺测量值的线性，长期稳定性差的缺点。鉴于上述激光干涉仪与编码器的缺点，已有提出各种并用激光干涉仪与编码器(使用衍射光栅的位置检测传感器)，来测量载台位置的装置(参照专利文献1，2等)。另外，以往的编码器的测量分辨率，虽与干涉仪相比较较差，但最近出现了测量分辨率与激光干涉仪相同程度或以上的编码器(参照例如专利文献3等)，将上述激光干涉仪与编码器组合的技术日渐受到瞩目。因此，例如投影曝光装置的情形，必须在投影光学系统的像面上将晶片上的照射区域对准图案的投影位置，但当使用编码器测量保持晶片2维移动的晶片载台的移动面内的位置时，由于投影光学系统相对配置在该晶片载台上的标尺(光栅)表面上的该像面在光轴方向的位置偏移，当晶片载台具有倾斜角度时(纵摇时或横摇时)，会有编码器的晶片载台的位置测量产生误差(所谓阿贝误差)之虞。专利文献I :日本特开2002 - 151405号公报专利文献2 :日本特开2004 — 101362号公报专利文献3 :日本特开2005 - 308592号公报
技术实现思路
第I本专利技术的实质上沿着规定平面驱动移动体的移动体驱动方法，其特征在于包括下述步骤使用包含将测量光束照射于具有把实质上平行于上述平面的规定方向作为周期方向的光栅的标尺、接收来自上述光栅的光束的读头的编码器系统，测量平行于上述平面的面内的上述移动体的位置信息，基于上述位置信息、及因上述标尺的面相对上述移动体的位置控制的基准的基准面在垂直于上述平面的方向的位置的差造成的上述编码器系统的测量误差的修正信息，沿着上述平面驱动上述移动体。 据此，使用编码器系统测量平行于规定平面的面内的移动体的位置信息，根据该位置信息、及因该标尺的面相对移动体的位置控制的基准的基准面在垂直于规定平面的方向的位置的差造成的编码器系统的测量误差的修正信息，沿着规定平面驱动移动体。据此，可在平行于规定平面的规定方向高精度地控制移动体的位置。第2本专利技术的图案形成方法，其包含装载步骤，将物体装载于可在移动面内移动的移动体上；以及驱动步骤，为了对该物体形成图案，以本专利技术的移动体驱动方法驱动该移动体。据此，将图案形成在装载于使用本专利技术的移动体驱动方法驱动的移动体上的物体，由此能将所希望的图案形成在物体上。第3本专利技术的第I组件制造方法，包含图案形成步骤；在该图案形成步骤，使用本专利技术的图案形成方法将图案形成在物体上。第4本专利技术的通过照射能量束将图案形成在物体的第I曝光方法，其特征在于 为了使上述能量束与上述物体相对移动，使用权利要求I至6中的任一项所述的移动体驱动方法，驱动装载有上述物体的移动体。据此，为了使照射于物体的能量束与该物体相对移动，使用本专利技术的移动体驱动方法，高精度地驱动装载有该物体的移动体。所以，能通过扫描曝光，将所希望的图案形成在物体上。第5本专利技术的用能量束使物体曝光的第2曝光方法，其特征在于于在至少能在规定平面内正交的第I及第2方向移动且能相对上述规定平面倾斜的移动体装载上述物体，在装载有上述物体的上述移动体的一面设有栅格部及读头单元中的一个，且另一个与上述移动体的一面相对向设置，根据测量在上述规定平面内的上述移动体的位置信息的编码器系统的测量信息，及上述曝光时上述物体在大致一致的基准面及上述栅格部的栅格面的与上述规定平面正交的第3方向的位置信息，控制在上述规定平面内的上述移动体的位置。据此，不受因栅格部的栅格面相对基准面的与规定平面正交的第3方向的位置的差造成的编码器系统的测量误差的影响，即可使用编码器系统高精度地控制在规定平面内的移动体的位置，或能高精度地使移动体上的物体曝光。第6本专利技术的用能量束使物体曝光的第3曝光方法，其特征在于于在至少能在规定平面内正交的第I及第2方向移动且能相对上述规定平面倾斜的移动体装载上述物体，在装载有上述物体的上述移动体的一面设有栅格部及读头单元中的一个，且另一个与上述移动体的一面相对向设置，根据测量在上述规定平面内的上述移动体的位置信息的编码器系统的测量信息，及用于补偿因上述曝光时上述物体在大致一致的基准面及上述栅格部的栅格面的与上述规定平面正交的第3方向的位置的差产生的上述编码器系统的测量误差的修正信息，控制在上述规定平面内的上述移动体的位置。据此，不受因基准面与栅格部的栅格面的与规定平面正交的第3方向的位置的差产生的该编码器系统的测量误差的影响，即可使用编码器系统高精度地控制在规定平面内的移动体的位置，或能高精度地使移动体上的物体曝光。第7本专利技术的用能量束使物体曝光的第4曝光方法，其特征在于在表面设有栅格部、且至少能在规定平面内正交的第I及第2方向移动且能相对上述规定平面倾斜的移动体上，以与上述表面成为大致面高相同的状态装载上述物体，根据具有与上述移动体的表面相对向配置的读头单元、测量在上述规定平面内的上述移动体的位置信息的编码器系统的测量信息，及用于补偿因在与上述规定平面正交的第3方向的上述移动体的表面与上述 栅格部的栅格面的间隙产生的上述编码器系统的测量误差的修正信息，控制在上述规定平面内的上述移动体的位置。据此，不受因在与规定平面正交的第3方向的移动体的表面与栅格部的栅格面的间隙产生的编码器系统的测量误差的影响，即可使用编码器系统高精度地控制在规定平面内的移动体的位置，或能高精度地使移动体上的物体曝光。第8本专利技术的包含光刻步骤的第2组件制造方法，其特征在于在该光刻步骤，使用本专利技术的第2至第4曝光方法的任一个，使装载于该移动体的感应物体曝光，以在该感应物体上形成图案。第9本专利技术的实质上沿着规定平面驱动移动体的移动体驱动系统，其特征在于包括编码器系统，包含将测量光束照射于具有把实质上平行于上述平面的规定方向作为周期方向的光栅的标尺、接收来自上述光栅的光、测量平行于上述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，经由投影光学系统用能量束使物体曝光，所述曝光装置的特征在于具备：移动体，保持该物体，至少能在规定平面内正交的第1及第2方向移动且能相对该规定平面倾斜；编码器系统，在该移动体设有栅格部与多个读头之一，经由该多个读头分别从与该规定平面交叉的方向对该栅格部照射光束，测量在该规定平面内的该移动体的位置信息；以及控制装置，对于与该规定平面正交的第3方向，补偿因配置在与该曝光时该物体大致一致的基准面不同的位置的该栅格部的栅格面产生的该编码器系统的测量误差，同时根据该编码器系统的测量信息控制该移动体的位置，在该编码器系统，通过该移动体的移动使该多个读头中的与该栅格部对向的读头的数量变化，且通过该移动体的移动将该多个读头中的用于该位置信息的测量的读头切换至其他读头。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：柴崎祐一，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：