用于大幅度微纳结构的扫描探针测量系统及其方法技术方案

本发明专利技术公开一种用于大幅度微纳结构测量的扫描探针测量系统及其方法。包括手调微动台、行程为25mm的电机驱动精密位移台、电机驱动器、行程为60?m的长行程压电陶瓷、压电陶瓷驱动器、PID控制电路单元、扫描探针测头、直线编码器、电容式位移传感器等。通过电机驱动的精密位移台和长行程压电陶瓷的两级伺服联动控制，实现大幅度微纳结构表面形貌的扫描探针显微超精密测量。本发明专利技术克服了传统扫描探针测量系统纵向测量范围有限、不适用于大幅度微纳结构扫描测量的缺点，提供了一种新型的扫描探针测头系统及其方法，满足了大幅度微纳结构工件表面形貌超精密测量需求。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于大幅度微纳结构的扫描探针测量系统，其特征在于包括探针测头装置、压电控制单元和电机控制单元，探针测头装置包括手调微动台（1）、行程为25mm的电机驱动精密位移台（2）、压电陶瓷夹持机构（3）、行程为60？μm的长行程压电陶瓷（4）、扫描探针测头（5）；手调微动台（1）上设有行程为25mm的电机驱动精密位移台（2），行程为25mm的电机驱动精密位移台（2）上设有压电陶瓷夹持机构（3），行程为60？μm的长行程压电陶瓷（4）上端固定在压电陶瓷夹持机构（3）上，行程为60？μm的长行程压电陶瓷（4）下端设有扫描探针测头（5）；压电控制单元包括顺次连接的PID控制电路单元（7）、压电陶瓷驱动器（...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：居冰峰，陈远流，张威，朱吴乐，姜燕，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：