遮罩条制造技术

一种遮罩条，用以固定于一框架上而构成一遮罩，具有两个拉伸区与一图案区，其中遮罩条被固定于框架后，图案区位于框架内，拉伸区位于框架外，且各拉伸区远离图案区的一侧具有一V型切口。

【技术实现步骤摘要】
遮罩条
本专利技术是有关于一种遮罩条与一种遮罩的制造方法。
技术介绍
在现行图案化制程中，常通过多条遮罩条所组成的遮罩搭配镀膜制程来形成图案化膜层。遮罩是金属薄板通过蚀刻的方式制作出多条细长的金属线，其中多条金属线之间的空隙可作为镀膜制程时的开口区。由于金属线相当细长，易扭曲变形，因此在遮罩条的两侧设置有拉伸区。在将遮罩条固定至框架上以构成遮罩时，于拉伸区处施以预张力，使金属线横向绷紧。藉此，让金属 线维持直线而使开口区维持正确的形状与位置，并得以对抗镀膜时温度所造成的膨胀量，还有抵抗遮罩与欲镀膜的基板的重量所造成的弯曲变形。然而，在施予预张力时，现行设计的拉伸区靠近施力点的位置在力量转换以及受力形变方面的自由度不够高。因此靠近拉伸区的开口区易呈现波浪状的皱褶形变，使遮罩条无法服贴于欲镀膜的基板上，造成开口区的位置偏移、镀膜厚度不均以及欲镀膜位置走位等问题发生。另一方面，为避免增加预张力会造成皱褶形变的状况加剧，或是造成皱褶形变的影响范围向内扩张，需限制预张力的大小。然，此举常造成预张力不足的情况发生。在预张力不足的情况下，由于遮罩条不够稳固，无法抵挡欲镀膜的基板的重量以及镀膜时所累积的膜层的重量所造成的弯曲变形，且在清洗时易松脱变形，因此常造成遮罩的使用率以及寿命大幅地降低。
技术实现思路
本专利技术提供一种遮罩条，其可提供良好的镀膜品质且具有良好的使用率以及寿命。本专利技术提供一种遮罩条，用以被固定于一框架上而构成一遮罩，具有两个拉伸区与一图案区，其中遮罩条被固定于框架后，图案区位于框架内，拉伸区位于框架外，且各拉伸区远离图案区的一侧具有一 V型切口。在本专利技术的一实施例中，前述的各拉伸区在V型切口的端点与图案区之间具有多个挖空区。在本专利技术的一实施例中，前述的各挖空区呈长条状，且挖空区彼此平行排列。在本专利技术的一实施例中，前述的各挖空区呈三角形。在本专利技术的一实施例中，前述的挖空区沿着平行于图案区与拉伸区的边界的方向排成多列。在本专利技术的一实施例中，前述的挖空区中位于同一列者的大小相同。在本专利技术的一实施例中，前述的挖空区的大小随着与图案区的距离缩短而递减。在本专利技术的一实施例中，前述的各挖空区的一角指向图案区。本专利技术另提供一种遮罩条，用以被固定于一框架上而构成一遮罩，具有两个拉伸区与一图案区，其中遮罩条被固定于框架后，图案区位于框架内，拉伸区位于框架外，各拉伸区具有多个挖空区。在本专利技术的一实施例中，前述的各拉伸区远离图案区的一侧具有一切口。在本专利技术的一实施例中，前述的各挖空区呈长条状，且挖空区彼此平行排列。在本专利技术的一实施例中，前述的各挖空区呈三角形。在本专利技术的一实施例中，前述的挖空区沿着平行于图案区与拉伸区的边界的方向排成多列。 在本专利技术的一实施例中，前述的挖空区中位于同一列者的大小相同。在本专利技术的一实施例中，前述的挖空区的大小随着与图案区的距离缩短而递减。在本专利技术的一实施例中，前述的挖空区的一角指向图案区。基于上述，本提案的遮罩条可通过在拉伸区提供一 V型切口及/或多个挖空区，均匀地分散预张力，使拉伸区靠近施力点的位置在力量转换以及受力形变的自由度得以提升。因此，靠近拉伸区的开口区可保持良好的平整度而得以服贴于欲镀膜的基板上，进而提升制程良率。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。附图说明图I为本专利技术一实施例的遮罩条的上视示意图。图2为图I中的拉伸区的上视示意图。图3为本专利技术另一实施例的遮罩条的上视示意图。主要元件符号说明100 :遮罩110、210:遮罩条112:金属线114:开口区120 :框架Al :拉伸区A2:图案区A3、A4:挖空区F :预张力V V 型切口X :端点U:切口具体实施方式图I为本专利技术一实施例的遮罩条的上视示意图。图2为图I中的拉伸区的上视示意图。请同时参照图I与图2，本实施例的遮罩条110，用以被固定于一框架120上而构成一遮罩100。在本实施例中，遮罩条110例如是通过焊接、锁固或其他方式被固定于框架120上。另外，遮罩100所包括的遮罩条110数量可大于I。换言之，通常一个遮罩100是由被固定在一个框架120上的多个遮罩条110所构成，以便于进行大面积的蒸镀或其他制程。遮罩条110具有两个拉伸区Al与一图案区A2。在遮罩条110被固定于框架120后，图案区A2位于框架120内，拉伸区Al位于框架120外。而在遮罩条110被固定于框架120后，即可将拉伸区Al移除，以利蒸镀或其他制程的进行。在本实施例中，遮罩条110的制作方法例如是将金属薄板通过蚀刻的方式在图案区A2制作出多个重复的图案，其中各图案包括多条细长的金属线112，而各金属线112之间的空隙114在图案化制程中，可作为镀膜制程时的开口区。举例而言，各金属线112之间的空隙114可作为有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode, 0LED)蒸镀制程时欲形成图案化膜层的开口区,例如用于形成OLED中各个画素区的有机发光材料层。于蒸镀制程中，将遮罩100放置在蒸镀材料源与目标基板之间，并使各空隙114对应各画素区。在蒸镀完成后，蒸镀材料源的材料只会 沉积在各画素区中而不会超出范围。因此，通过调变空隙114的尺寸、形状以及位置可控制蒸镀制程时欲沉积材料的区域的尺寸、形状以及位置。当然，遮罩条110以及遮罩100的用途不限于此，而空隙114也不限定于对应画素区。在实务上，由于各金属线112相当细长，易扭曲变形，因此通过在拉伸区Al处施以预张力F，使金属线横向绷紧，并固定于框架120上，可避免于镀膜制程时欲镀膜位置走位，并提供足以承载镀膜时温度所造成的膨胀量以及遮罩与欲镀膜的基板的重量所造成的弯曲变形。本实施例的遮罩条110在各拉伸区Al远离图案区A2的一侧具有一 V型切V，缩小预张力F的施力点的面积，进而使施力较为集中。此外，通过增加V型切口 V的深度，提高V型切口 V周遭受力形变的自由度，本实施例的遮罩条110可更均匀地分散预张力。具体而言，将集中于施力点的应力分散至一整面拉伸区Al。因此，本实施例的遮罩条110可降低因应力集中所造成的波浪状的皱褶形变。另外，本实施例的遮罩条110更可选择性地在V型切口 V的端点X与图案区A2之间提供多个挖空区A3。在本实施例中，各挖空区A3呈彼此平行排列的长条状，且挖空区A3例如是沿着平行于图案区A2与拉伸区Al的边界的方向排成一列。值得一提的是，本实施例的遮罩条110通过提供多个挖空区A3，可让预张力更平均地传进图案区A2。因此，均匀传递的预张力可使图案区A2保持平整。另外，由于本实施例的遮罩条110具有良好的力量转换以及受力形变的自由度，因此可进一步承受更大的预张力F。本实施例的遮罩条110可提供较大的承载力，足以支撑欲镀膜的基板的重量以及镀膜时所累积的膜层的重量。另外，在清洗时也较不易松脱变形。因此，本实施例的遮罩条110所制成的遮罩具有良好的使用率以及寿命。当然，本提案的遮罩条除了可为上述型态外，亦可有其他型态，以下将搭配图3另举一实施例作说明。图3为本专利技术另一实施例的遮罩条的上视示意图。请参照图3，本实施例的遮罩条210与遮罩条110具有相似的型态，但是二者差异处在于拉伸区Al的型态。本实施例的遮罩条2本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
2012.03.30 TW 1011114101.一种遮罩条，用以被固定于一框架上而构成一遮罩，具有两个拉伸区与一图案区，其中该遮罩条被固定于该框架后，该图案区位于该框架内，所述拉伸区位于该框架外，各该拉伸区远离该图案区的一侧具有一V型切口。2.根据权利要求I所述的遮罩条，其特征在于，各该拉伸区在该V型切口的端点与该图案区之间具有多个挖空区。3.根据权利要求2所述的遮罩条，其特征在于，各该挖空区呈长条状，且所述挖空区彼此平行排列。4.根据权利要求2所述的遮罩条，其特征在于，各该挖空区呈三角形。5.根据权利要求4所述的遮罩条，其特征在于，所述挖空区沿着平行于该图案区与所述拉伸区的边界的方向排成多列。6.根据权利要求5所述的遮罩条，其特征在于，所述挖空区中位于同一列者的大小相同。7.根据权利要求6所述的遮罩条，其特征在于，所述挖空区的大小随着与该图案区的距离缩短而递减。8.根据权利要求4所...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄俊杰，王伟立，陈志彦，黄世雄，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：