【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及材料制备领域，特别涉及一种制备纳米多层膜的装置、纳米多层膜及其制备方法。
技术介绍
目前，真空磁控溅射技术在各个领域有着广泛的应用，ー种应用是利用真空磁控溅射技术将类金刚石膜(DLC)镀覆在基材表面，如医疗用手术器材、人体植入类医学材料及工程刀具等等的基材表面，来显著提高基材的硬度及耐磨性。但是由于类金刚石膜具有较大的内应力，与金属或合金材料的结合力都不高，在 较高的载荷或载荷冲击作用下容易出现类金刚石膜破裂或剥落，尤其对于人体植入类产品，类金刚石膜的剥落会产生碎屑，会加剧植入类产品的磨损，降低产品的使用寿命。为了解决上述的问题，提出了ー种纳米多层薄膜，可以提高基材的耐磨性，増加与基材的结合力，同时有助于提高润滑性，如提出的碳/碳化钛的纳米多层膜，将碳/碳化钛的纳米多层膜镀覆在植入人体类的金属关节头和白杯的表面上，使关节头和白杯具有优异的耐磨性及良好的生物相容性，也具有好的润滑效果，大幅度提高人工关节在人体中的寿命O然而，利用目前的磁控溅射镀膜装置进行多层膜的加工时，对电源エ艺上有极高的要求，而受限于目前エ业体系，很难在エ业化规模下实现精确的控制，...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜装置，其特征在于，至少包括真空镀膜室、溅射靶、真空镀膜室底座上的转架台和转架台上的エ件架，以及驱动转架台绕转架台的中心轴转动的第一转动系统；所述溅射靶设置在转架台周围并与转架台垂直，所述溅射靶包括两个第一溅射靶及一个第二溅射靶，所述溅射靶位于与转架台同心的圆周上，两个所述第一溅射靶之间的圆弧基本为180-240度，所述第二溅射靶等分所述圆弧；所述转架台上固定设置有穿过转架台表面的隔板，在垂直于转架台方向上，所述隔板的两端均超出所述溅射靶的两端。2.根据权利要求I所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述第一溅射靶为石墨靶，所述第二溅射靶为钛靶或钽靶。3.根据权利要求I所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述隔板沿着转架台的直径穿过所述转架台，且所述隔板的宽度大于转架台的直径。4.根据权利要求3所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在干，所述隔板与所述溅射靶所在圆周的间距为2-10cm。5.根据权利要求I所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述溅射靶为矩形。6.根据权利要求I所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述隔板的材料为钛、铝、不锈钢或他们的组合。7.根据权利要求I所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，还包括驱动エ件架绕エ件架的中心轴转动的第二转动系统。8.根据权利要求7所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在干，所述エ件架通过支架杆设置在转架台上，同一支架杆上间隔设置有多个エ件架。9.根据权利要求I所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述溅射靶设置在真空镀膜室的内壁上。10.根据权利要求1-9中任一项所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，两个所述第一溅射靶之间的圆弧基本为180度，所述溅射靶还包括另ー第二溅射靶，两个第二溅射靶相对设置。11.一种纳米多层膜的制备方法，利用如权利要求1-10中任一项所述的磁控溅射镀膜装置进行溅射，用于镀覆纳米多层膜，转架台匀速转动，包括步骤 第一溅射阶段，两个第一溅射靶从初始工作电流Ii开始，每隔第一间隔时间Tl，所述第一溅射靶的工作电流增加△ II，直到其工作电流为第一预定电流值；ー个第二溅射靶从初始工作电流12开始，每隔第二间隔时间T2，所述第二溅射靶的工作电流減少△ 12，直到其工作电流为第二预定电流值，所述第一溅射靶和所述第二溅射靶的工作电压保持不变； 第二溅射阶段，将第二溅射靶的工作...
【专利技术属性】
技术研发人员：金攻，涂江平，李玲玲，王刚，王美娜，
申请(专利权)人：北京中奥汇成生物材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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