透光单银低辐射镀膜玻璃制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空溅射方法生产的多层膜结构镀膜玻璃，具体是一种透光单银低辐射镀膜玻璃，所述镀膜玻璃包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜膜层，其特征在于：以玻璃基板为基础，所述镀膜膜层自内向外依次包括第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层及第五电介质层。玻璃膜层中含有具有红外线反射能力的银层和减少可见光反射以及保护银层的电介质层，所述电介质层使用新型陶瓷材料AZO作为银层后的电介质层，替代了现有的金属阻挡层，优化了膜层架构，使本实用新型专利技术在保证很低辐射率的情况下，获得与相同厚度普通透明玻璃原板相等，甚至更高的透过率，玻璃通透、自然，并且具有良好的隔热、保温效果。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种镀膜玻璃，具体是一种透光单银低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
目前市场上普通单银低辐射镀膜产品，由于使用金属膜层作为银层保护层，往往透光不能做到很高，而且金属层保护层的存在也使得膜层对光线的吸收增加，使得玻璃看上不够清澈、通透。
技术实现思路
本技术的技术目的是解决现有技术中存在的问题，提供一种清澈、通透的低辐射镀膜玻璃。本技术的技术方案是一种透光单银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜膜层，其特征在于以玻璃基板为基础，所述镀膜膜层自内向外依次包括第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层及第五电介质层；其中，第三电介质层为AZO层，该膜层的作用是保护银层不被氧化，并且提高银层和其它膜层的附着力；进一步的技术方案还包括第一电介质层为NbOx层，根据镀膜工艺条件设定的不同，镀膜最终形成的材料为铌氧化物中的一种。该镀层的作用是阻止玻璃中的Na+向膜层中渗透，提高膜层透过率，能够有效增加膜层和玻璃基片之间的吸附力，并且控制膜系的光学性能和颜色；第二电介质层为ZnAlOx层，该层对银层起铺垫作用，银层在其上可以更好地成膜，并且保护银层不被氧化；银层的材料为Ag，用于降低辐射率，达到隔热、保温的效果；第四电介质层为ZnSnO3层，该膜层保护整个膜层结构，减少氧化，提高膜层的物理和化学性能，并且控制膜系的光学性能和颜色。第五电介质层的材料为Si3N4层，该膜层的作用是在银层和电介质层之间提供吸附力，保护整个膜层结构，减少氧化，提高膜层的物理和化学性能，并且控制膜系的光学性能和颜色。上述透光单银低辐射镀膜玻璃基板上的镀膜膜层可采用真空磁控溅射镀膜，各膜层的镀制工艺如下第一电介质层，通过旋转交流阴极的陶瓷氧化铌靶在氧、氩氛围中溅射镀膜，其工艺气体成分的氧气与氩气的体积比设为I : 10;第二电介质层，通过旋转交流阴极的锌铝靶在氧、氩氛围中溅射镀膜，其中质量比 Zn : Al = 98 : 2，氧气与氩气的体积比设为9 14;第三电介质层，通过旋转交流阴极的AZO靶在纯氩或氧、氩氛围中溅射镀膜，在氧、氩氛围中时，氧气与氩气的体积比可设为9 100 ；银层，通过直流平面阴极的银靶在氩气氛围中溅射；第四电介质层，通过旋转交流阴极的锌锡靶在氧、氩氛围中溅射镀膜，其中质量比 Zn : Sn = 50 : 50，氧气与氩气的体积比设为3 2 ；第五电介质层，通过旋转交流阴极的硅铝靶在氮、氩氛围中溅射镀膜，其中质量比 Si Al = 92 8，氮气与氩气的体积比设为2 I。本技术生产的产品由于使用了陶瓷材料AZO作为银层后电介质层，取代了现有产品中的金属保护层，并且使用高折射率的新型材料来抵消银层的吸收，所以使得本技术产品的透光可以达到和同厚度玻璃原板一样，甚至更高的透过率，并且产品外观清澈、通透，还可以保证良好的隔热、保温效果，非常符合消费者追求自然环保的需求。附图说明图I是本技术的结构示意图；图2是本技术制造工艺的流程示意图。具体实施方式为了阐明本技术的技术方案及技术目的，以下结合附图及具体实施方式对本技术做进一步的介绍。如图所示，一种透光单银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜膜层，以玻璃基板为基础，所述镀膜膜层自内向外依次包括第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层及第五电介质层；其中，第一电介质层为NbOx层，通过旋转交流阴极的陶瓷氧化铌靶在氧氩氛围中溅射镀膜，氧气与氩气的体积比为I : 10;;第二电介质层为ZnAlOx层，通过旋转交流阴极的锌铝靶在氧、氩氛围中溅射镀膜，其中质量比Zn Al = 98 2，氧气与氩气的体积比为9 14;银层的材料为Ag，通过直流平面阴极的银靶在氩气氛围中溅射镀膜；第三电介质层的材料为AZO层，通过旋转交流阴极的AZO靶在氧、氩氛围中溅射镀膜，氧气与氩气的体积比为9 100 ；第四电介质层的材料为ZnSnO3层，通过旋转交流阴极的锌锡靶在氧、氩氛围中溅射镀膜，其中质量比Zn Sn = 50 50，氧气与氩气的体积比为3 2 ；第五电介质层的材料为Si3N4层，通过旋转交流阴极的硅铝靶在氮、氩氛围中溅射，其中质量比Si Al = 92 8，氮气与氩气的体积比为2 I。本技术可采用磁控溅射镀膜机进行玻璃的镀膜，所述磁控溅射镀膜机包括19 个交流旋转双阴极，7个直流平面阴极，本技术采用下表列出的工艺参数，使用6个交流旋转双阴极，I个直流平面直流阴极，制出本技术的透光单银低辐射镀膜玻璃，其工艺参数和靶的位置列表如下权利要求1.一种透光单银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜膜层，其特征在于以玻璃基板为基础，所述镀膜膜层自内向外依次包括第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层及第五电介质层；其中，第三电介质层为AZO层。2.根据权利要求I所述的一种透光单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于第一电介质层为NbOx层；第二电介质层为ZnAlOx层；银层的材料为Ag ；第四电介质层为ZnSnO3层；第五电介质层为Si3N4层。专利摘要本技术公开了一种真空溅射方法生产的多层膜结构镀膜玻璃，具体是一种透光单银低辐射镀膜玻璃，所述镀膜玻璃包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜膜层，其特征在于以玻璃基板为基础，所述镀膜膜层自内向外依次包括第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层及第五电介质层。玻璃膜层中含有具有红外线反射能力的银层和减少可见光反射以及保护银层的电介质层，所述电介质层使用新型陶瓷材料AZO作为银层后的电介质层，替代了现有的金属阻挡层，优化了膜层架构，使本技术在保证很低辐射率的情况下，获得与相同厚度普通透明玻璃原板相等，甚至更高的透过率，玻璃通透、自然，并且具有良好的隔热、保温效果。文档编号B32B15/00GK202344932SQ20112047806公开日2012年7月25日 申请日期2011年11月25日 优先权日2011年11月25日专利技术者林嘉宏 申请人:林嘉宏本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林嘉宏，
申请(专利权)人：林嘉宏，
类型：实用新型
国别省市：