一种点阵排列型散热结构的实现装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种点阵排列型散热结构的实现装置及方法，属于散热技术领域。该装置包括有：托盘，是用以置放散热基材的架构；转轴，与前述的托盘相连接，是用以带动托盘转动的旋转结构；布局器，设置在前述的托盘上方，设置有盛放散热介质的熔槽，以及用以导出散热介质的布局器出口；位移架，和前述的布局器相连接，用以使布局器在托盘上方发生位移的结构。利用本发明专利技术，通过点阵散热结构的布局方式，能够更加便捷地设置散热结构。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及散热
背景搜术电子产品、机械、电力、通信、化工等诸多领域，在产品的加工、生产的过程中，以及使用的过程中，都会产生数量不同的热量。产生的热量如果不能得到有效的散发，对产品的加工及使用，均有可能造成影响。随着现代科技的迅速发展，电子产品运行速度的不断提高，对于散热效果的要求也越来越高。为了提高散热效果，需运用更有效的散热技术，在相同的散热效果下减小体积或在相同的体积下提高散热效果。因此，目前迫切需要本领域技术人员解决的问题是，设计具有高散热效果的结构装置，以满足诸多领域对高散热性能的要求。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供，实现一种高效的点阵散热结构的布局技术。本专利技术采用的技术方案是一种点阵排列型散热结构的实现装置，该装置包括有，托盘，它是用以置放散热基材的架构；转轴，它与前述的托盘相连接，是用以带动托盘转动的旋转结构；布局器，它设置在前述的托盘上方，设置有盛放散热介质的熔槽，以及用以导出散热介质的布局器出口；位移架，它和前述的布局器相连接，是用以使布局器在托盘上方发生位移的结构。一种点阵排列型散热结构的实现装置，该装置还包括，开关结构，它设置在布局器出口处，是用以控制散热介质是否导出的控制结构；控制组件，它与转轴、布局器和位移架相连接，是用以控制转轴的转动情况，以及控制布局器在位移架上的位移状况和布局器开关的开闭。优选的，所述的开关结构通过电磁阀来实现控制散热介质是否导出。所述的控制组件中还包括用以计时的计时器。优选的，所述的散热基材为片状结构，优选为为石墨膜片或石墨烯膜片；当然对于其它的高导热材料也是可以的。优选的，所述的位移架，为可以是和布局器相连接的悬臂，也可以是与布局器相连的滑杆；通过悬臂的伸缩使布局器发生位移，或者布局器在滑杆上滑动产生位移。优选的，布局器中的熔槽所盛放的散热介质为金属导热材料或非金属导热材料； 对于金属导热材料，如铝、铜、银、金等，对于非金属导热材料如导热陶瓷、导热硅胶、导热碳纤维等。优选的，所述的盛放散热介质的熔槽，所采用的材料优选为熔点在1000°C以上，且高于散热介质熔点的材料；对于布局器的内层，所采用的材料同样优选为熔点在1000°c以上，且高于散热介质熔点的隔热材料。优选的，布局器内层所采用的材料优选为硅藻土制品、氧化铝制品、氧化镁制品、 碳化硅制品、隔热陶瓷中至少其一的材料。一种点阵排列型散热结构的实现方法，该方法包括以下步骤，步骤1，在熔槽中加入散热介质，进行热熔处理使散热介质熔化成液态；步骤2，在托盘上设置散热基材，以及开启转轴使之带动托盘进行转动；步骤3，开启布局器，使之在散热基材上进行液态散热介质的点布局操作；步骤4，点布局完成后，将液态散热介质在散热基材上冷却凝固，形成点布局的散热介质结构。优选的，在熔槽中放入的散热介质优选为为铝、铜、银、金、导热陶瓷、导热碳纤维等至少其一的导热材料。优选的，在托盘上设置的散热基材，为石墨膜片或石墨烯膜片至少其一的材料。优选的，所述转轴的开启以及转轴的转速大小，都是由控制组件实现控制的。优选的，所述的开启布局器，是通过控制组件来开启布局器出口处的开关结构来实现的。优选的，通过调节转轴的转动速度大小，可以改变托盘上散热基材的转动速度，进而调节液态散热介质点布局的密集程度。优选的，当转轴带动托盘转动一周时，即布局器导出的液态散热介质在散热基材上进行点布局一圈时，布局器通过位移架移动一次，从而改变布局器在散热基材上的位置， 布局器导出的液态散热介质则在散热基材的另一半径尺寸上进行点布局。附图说明图1是本专利技术中一种实施例所示的点阵排列型散热结构的实现装置的示意图。图2是本专利技术所述的一种点阵排列型散热结构的实现方法的流程图。具体实施例方式在本专利技术中，提供了。下面结合图1 所示，首先对点阵排列型散热结构的实现装置作详细描述。一种点阵排列型散热结构的实现装置包括有，托盘，它是用以置放散热基材的架构；转轴，它与前述的托盘相连接，是用以带动托盘转动的旋转结构；布局器，它设置在前述的托盘上方，设置有盛放散热介质的熔槽，以及用以导出散热介质的布局器出口；位移架，它和前述的布局器相连接，是用以使布局器在托盘上方发生位移的结构；开关结构，它设置在布局器出口处，是用以控制散热介质是否导出的控制结构；控制组件，它与转轴、布局器和位移架相连接，是用以控制转轴的转动情况，以及控制布局器在位移架上的位移状况和布局器开关的开闭。如图1所示，这是点阵排列型散热结构的实现装置100的示意图，其中托盘110是用以置放散热基材150的结构；转轴120与托盘110相连接，是用以带动托盘转动的旋转结构；布局器130为设置在托盘上方的结构，用以导出散热介质，在散热基材上进行点布局的结构；位移架140和布局器130相连接，是用以使布局器在托盘上方发生位移的结构；控制组件160，与转轴、布局器和位移架相连接，用以控制转轴的转动情况，以及控制布局器在位移架上的位移状况和布局器开关的开闭。对于托盘110，其设置的目的是为了将散热基材150固定在其上，并且托盘110与转轴120连接，通过转轴的转动，托盘110带动150旋转。对于托盘的构型，可以是圆形、椭圆形、方形等形状的平板结构，以及其它能够使散热基材150稳固在其上的结构形状。对于转轴120，是通过其自身的旋转来带动托盘110的旋转，因此转轴的转速和托盘的转速是一样的，通过控制转轴的转速即能够控制托盘上的散热基材150的转速。对于散热基材150，是点阵排列型散热结构的基本材料，本专利技术的装置就是为了在散热基材150上分散布局凸起的点阵结构，从而增加散热基材150的散热效率。如图1所示，散热基材150上各种凸起的点结构151，即是本专利技术中点阵排列型散热结构的典型实施例。本专利技术中散热基材150，优选为高导热石墨膜或石墨烯膜。利用碳成分所制作的高散热石墨膜，具有很高的散热能力，可以达到1500 1750W/m · K。而目前作为研究热点的石墨烯材料，则具有更加强大的散热能力，其热导率约为5000W/m · K ；同时，石墨的熔点也非常高，达到3500°C以上。当然，对于其它的高散热材料，也适用于本专利技术的散热基材。对于布局器130，它是在散热基材150上进行点布局的结构。在布局器130上设置有开关结构131和熔槽132，熔槽132是用以盛放散热介质133的结构，开关结构131设置在布局器出口处，是用以控制散热介质是否导出的控制结构。所述的散热介质133，优选为为铝、铜、银、金、导热陶瓷、导热碳纤维等至少其一的导热材料。散热介质在熔槽132中要通过加热熔化成为液态，然后在开关结构133的控制下，滴向散热基材，此时散热基材是旋转的，当散热基材旋转一周时，需要通过位移架使布局器移动到散热基材的另一位置处，再继续进行布局液态散热介质。对于散热介质133在散热基材上的点布局的密集程度，可以通过散热基材的转速进行调节，转速越慢，点布局越" ι 朱。对于位移架140，与布局器130连接，并带动布局器发生位移。位移架140每间隔特定时间即位移一次，所间隔的时间为转轴旋转一周的时间，即散热基材旋转一周时，位移架带动布局器位移一次。对于控制组件160，它是多个控制功能的集合结构。首先控制组件160与转轴有连接，可以控制转轴本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：上海杰远环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：