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咪唑啉酮除草剂之安全使用制造技术

技术编号:74910 阅读:223 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术披露的内容涉及使用某些二氯乙酸的酰胺以及其他化合物作为安全剂和(或)解毒化合物,以减轻由于单独的咪唑啉酮型除草剂或其与其他共用除草剂如α-卤代乙酰胺的混合物对于作物植物的植物毒性。(*该技术在2010年保护过期,可自由使用*)

Safe use of imidazoline herbicides

The present invention disclosure relates to the use of certain two amides of chloroacetic acid and other compounds as security agents and (or) detoxification compounds, to reduce the imidazolinone herbicide because alone or with other common herbicides such as alpha haloacetamide mixture for toxicity to plant crop plants.

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及采用解毒化合物或安全化合物使除草剂化合物安全使用,具体的除草剂包括咪唑啉酮化合物,其中可包括或不包括共用的除草剂化合物,例如N-(α-卤代乙酰)苯胺。许多种除草剂在以防除杂草生长所需的用量施用时,会伤害作物。因此,在某些作物存在时,有许多种除草剂不能用于防除杂草。但是,不去控制杂草生长,结果使收成下降,并使作物品质下降,因为杂草要同作物争夺光线、水以及土壤养分。借助于作物保护剂,人们称之为“拮抗剂”、“解毒剂”或“安全剂”,可以在不使对杂草的防除作用显著下降的情况下减轻除草剂对作物的伤害。对于作物特别是谷类作物的防除杂草,是杂草科技界使用最久和开发最深的方面之一。对于准备实用于谷类的除草剂,除应符合其他一些条件之外,该除草剂必须提供较高的对谷物中草类的阔叶杂草的防除水平。例如,该除草剂应具有较高的单位活性,从而可以采取较低施药剂量。为使除草剂暴露于环境的程度尽量减低,希望施用剂量低。与此同时,该除草剂必须具选择性的除草效应,使之不伤害作物。将适当的解毒剂与除草剂组合使用,可以增进此选择性。但是,如何鉴定出一种能使除草剂对作物更安全的解毒剂,是非常繁复的工作。一种或一类化合本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种组合物,该组合物含有:(a)具除草有效量的一种或多种按式Ⅰ的化合物:Ⅰ***其中,R代表下列的基团之一:IA***IB***或IC***在式I和IA中,虚线代表饱和或不饱和,在式I中:R↓[1]是 H、C↓[1]-C↓[4]烷基或卤烷基;R↓[2]是H、C↓[1]-C↓[6]烷基、C↓[3]-C↓[6]环烷基或环烷基甲基、苯基、卤代苯基、苄基,或R↓[1]与R↓[2]合起来形成一个C↓[3]-C↓[6]环烷基,该环烷基可由C↓[1 ]-C↓[3]烷基取代;R↓[3]是H、OCD↓[1]、SOD↓[2]、或S...

【技术特征摘要】
US 1989-12-29 459,3931.一种组合物,该组合物含有(a)具除草有效量的一种或多种按式Ⅰ的化合物其中,R代表下列的基团之一在式Ⅰ和IA中,虚线代表饱和或不饱和,在式Ⅰ中R1是H、C1-C4烷基或卤烷基;R2是H、C1-C6烷基、C3-C6环烷基或环烷基甲基、苯基、卤代苯基、苄基,或R1与R2合起来形成一个C3-C6环烷基,该环烷基可由C1-C3烷基取代;R3是H、OCD1、SOD2、或SO2D3,其中D1、D2、D3是H、C1-C10烷基,卤甲基或可由卤素、NO2或C1-C4烷基或烷氧基取代的苯基,所述R3是连接至该异构物的环上没有双键的那个环上氮原子上;W是氧或硫;在式IA中,A是COOD4、CONHD5、COND6D7、CHO、CH2OH、COCH3、COC6H5、CN、CH3、CH=NHO、CH2COOH、CH2COOD8、CONHOH、CHD9OH,D4是H、二低级烷基亚氨基、C1-C12烷基并任选由C1-C3烷氧基、卤素、OH、C3-C6环烷基或环烷基甲基所取代;苄基、苄氧基、C1-C4烷基或烷氧基、硝基或羧基;呋喃基、四氢呋喃基、二烷基膦酰基、缩水甘油基、COC1-4烷氧基、CN、苯基、苄基、NH(C1-C4烷基)3、C3-C12链烯基或炔基并且两者任选由C1-C3烷氧基、苯基、卤素或COC1-4烷氧基所取代;C3-C6环烷基或环烷基甲基并且两者任选由C1-C3烷基所取代;或是选自碱金属和碱土金属、Mn、Cu、Fe、Zn、Co、Pb、Ag、Ni、铵和有机铵的一种阳离子;D5是H、OH、NH2、N(CH3)2、NHCOCH3、C6H5NH2、C3-C5链烯基或炔基或任选由OH或卤素取代的C1-C4烷基;D6、D7、D8是H、OH或C1-C4烷基;B是N或-CH-;m是0至3;并且R4是H、卤素、C1-C6烷基、烷氧基、烷硫基、卤烷基或羟烷基;NO2、CN、苯基或苯氧基并且两者任选由C1-C4烷基、烷氧基或烷氧烷基或卤素所取代;SD9或OD10,其中D9是H、苯基或由卤素、C1-C3烷基或烷氧基、NO2取代的苯基;吡啶基或由C1-C3烷基取代的吡啶基;C2-C8烷基、烷氧基或多烷氧基;C3-C8环烷基或含O、S或N原子的杂环基并且两者可任选由C1-C4烷基、烷氧基或卤素所取代;C5-C8环烯基,并且D10是H、C3-C8环烷基或含O、S或N原子的杂环基并且两者可任选按D8方式取代或由C5-C8环烯基所取代;当B是N时,两个R4基团可合并而形成具有下式之一的基团IA(1) -(CH=CH)m-,其中m为2或3;IA(2) -(CH2)n-,其中n为2至4;IA(3)在式IA(3)和IA(4)中,a是H、C1-C4烷基、烷氧烷基或卤烷基,C5-C6环烷基、环烷基甲基、苯基、苄基、酰基、吡啶基、烷磺酰或芳磺酰基,b是H、C1-C4烷基、烷氧基、卤素、硝基、NH2、CN、苯基或苄基,或者a与b由C1-C4烷基、卤烷基、烷氧基、卤素、NO2或NH2所取代;必要条件是当R4是式IA(3)的基团时,则它所连接的环上只有两个不饱和键;IA(5)其中e和f是0至2,并且e+f=2;c和d是卤素、C1-C4烷基、烷氧基、卤烷基、羟烷基、烷硫基、烷磺酰基、酰基或烷氧羰基;C3-C6环烷基、环烷基甲基或卤代环烷基甲基;C2-C6链烯基、卤代链烯基、炔基或卤代炔基;苯基、苄基或吡啶基,并且当e或f为零并且另一个是2时,c和d可以形成一个环;IA(6)其中g为0至6;各个E单元之一为O、S、SO、SO2、ND11、-CO-或=CH-,另一些E单元为C原子,条件是当有一个E是=C-时,在(E)4环中只有一个双键,并且当E单元不是-C=时,在该环中可以有或没有一个双键;D11是H或C1-C3烷基,并且G是与式IA相同的未结合的、单独的R4单元,或者是四氢吡喃基、OH、CF3、苯基、苄基或吡啶基,或由C1-C4烷基、烷氧基、烷硫基、CF3、NO2或卤素取代的苯基、苄基或吡啶基;IA(7)其中h=0或1;J和L是H、C1-C6烷基或环烷基并且两者可以由C1-C3烷基、烷氧基、卤素所取代;当式IA中的B是-CH-时,R4是H、卤素、NO2、C1-C3烷基、卤烷基、烷氧基、C1-C6烷氧烷基,或两个R4单元形成如下的基团;IA(8)其中J和L按式IA(7)的定义;在式IB中,R5是C1-C5烷氧基、NH2、其中D12和D13是H或C1-C4烷基,并且M是一种碱金属或碱土金属,并且在式IC中,R6和R7是H或C1-C4烷基,并且X是OH、OD14、N(C1-C3烷基)2、N(CH2CH2OCH3)2、或NHD15或下列基团之一其中D14是C1-C8烷基或卤烷基、C3-C12链烯基或炔基、C2-C12烷氧烷基或卤代烷氧烷基、苯基、苯氧基、苯基C1-8烷基、苯氧C1-8烷基、一种来自铵、有机铵、碱金属、碱土金属、Mn、Cu、Fe、Zn、Co、Pb、Ag、Al或Ni的成盐阳离子;D15是H、OH、C3-C6环烷基、C1-C12烷基、卤烷基、羟烷基、氰烷基、氨基甲酰烷基、C3-C12链烯基、卤代链烯基、炔基、卤代炔基、C6-C12芳基或芳基C1-6烷基或烷氧基、C1-3烷氧羰基C1-6烷基、呋喃基或四氢呋喃基;以及(b)具解毒有效量的(i)如下式的化合物其中R10可选自以下基团卤烷基;卤链烯基;烷基;链烯基;环烷基;环烷基烷基;卤素;氢;烷氧羰基;N-链烯基氨基甲酰烷基;N-链烯基氨基甲酰基;N-烷基-N-炔基氨基甲酰基;N-烷基-N-炔基氨基甲酰烷基;N-链烯氨基甲酰烷氧基烷基;N-烷基-N-炔基氨基甲酰烷氧基烷基;炔氧基;卤代烷氧基;硫氰酸根合烷基;链烯基氨基烷基;烷羰烷基;氰烷基;氰酸根合烷基;链烯基氨基磺酰烷基;烷硫烷基;卤代烷羰基氧烷基;烷氧羰烷基;卤代链烯基羰氧烷基;羟基卤代烷氧烷基;羟烷羰烷氧烷基;羟烷基;烷氧磺酰烷基;呋喃基;噻吩基;烷基二硫代链烯基;噻吩烷基;苯基及取代的苯基,其取代基可选自卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、氨基甲酰基、硝基、羧酸及其盐、卤代烷基氨基甲酰基;苯烷基;苯基卤代烷基;苯基链烯基;取代的苯基链烯基其中的取代基可选自卤素、烷基、烷氧基、卤代苯氧基、苯烷氧基;苯烷羧烷基;苯基环烷基;卤代苯基链烯氧基;卤代硫代苯烷基;卤代苯氧烷基;二环烷基;链烯基氨基甲酰吡啶基;炔基氨基甲酰吡啶基;二链烯基氨基甲酰二环烯基;炔基氨基甲酰二环烯基;R11和R12可以相同或不同,并可选自链烯基;卤代链烯基;氢;烷基;卤烷基;炔基;氰烷基;羟烷基;羟基卤代烷基;卤烷羧烷基;烷羧烷基;烷氧羧烷基;硫烷羧烷基;烷氧羰烷基;烷基氨基甲酰氧烷基;氨基;甲酰基;卤烷基-N-烷基酰氨基;卤烷酰氨基;卤烷酰氨烷基;卤烷基-N-烷基酰氨烷基;卤烷酰氨链烯基;烷基亚氨基;环烷基;烷基环烷基;烷氧烷基;烷磺酰氧烷基;巯烷基;烷氨烷基;烷氧羰链烯基;卤代烷羰基;烷羰基;链烯基氨基甲酰氧烷基;环烷基氨基甲酰氧烷基;烷氧羰基;卤代烷氧羰基;卤代苯基氨基甲酰氧烷基;环烯基;苯基;取代的苯基,该取代基可选自烷基、卤素、卤烷基、烷氧基、卤代烷酰氨基、邻苯二亚甲氨基、羟基、烷基氨基甲酰氧基、链烯基氨基甲酰氧基、烷酰氨基、卤代烷酰氨基或烷羰链烯基;苯磺酰基;取代的苯烷基,其取代基可选自卤素或烷基;二氧亚烷基;卤代苯氧基烷酰氨烷基;烷硫二唑基;哌啶基;哌啶烷基;二氧戊环基烷基;噻唑基;烷基噻唑基;苯并噻唑基;卤代苯并噻唑基;呋喃基;烷基取代的呋喃基;呋喃烷基;吡啶基;烷基吡啶基;烷基噁唑基;四氢呋喃烷基;3-氰基噻吩基;烷基取代的噻吩基;4,5-多亚烷基-噻吩基;α-卤烷基乙酰氨基苯烷基;α-卤代烷基乙酰氨基硝基苯烷基;α-卤烷基乙酰氨基卤代苯烷基;氰基链烯基;当R11和R12合在一起可以成为以下的结构哌啶基,烷基哌啶基;吡啶基;二氢或四氢吡啶基;烷基四氢吡啶基;吗啉基;烷基吗啉基;氮杂二环壬基;二氮杂环烷基;苯并烷基吡咯烷基;噁唑烷基;全氢化噁唑烷基;烷基噁唑烷基;呋喃基噁唑烷基;噻吩基噁唑烷基;吡啶基噁唑烷基;嘧啶基噁唑烷基;苯并噁唑烷基;C3-C7螺环烷基噁唑烷基;烷氨基链烯基;亚烷基亚氨基;吡咯烷基;哌啶酮基;全氢化吖庚因基;全氢化吖辛因基;吡唑基;二氢吡唑基;哌嗪基;全氢化-1,4-二吖庚因基;喹啉基;异喹啉基;二氢-、四氢-和全氢化喹啉基或异喹啉基;吲哚基及二氢-和全氢化吲哚基;并且所述合并的R11和R12由上述那些单独的R11和R12所取代;或者(ⅱ)下列各化合物之一α-[(氰基甲氧基)亚氨基]苯乙腈,α-[(1,3-二氧吡喃-2-基甲氧基)亚氨基]苯乙腈,5-噻唑羧酸,2-氯-4-三氟甲基,苄基酯,苯甲胺,N-[4-(二氯亚甲基)-1,3-二硫戊环-2-亚基]-α-甲基,盐酸盐,二苯基甲氧基乙酸,甲酯,1,8-萘二甲酸酐,4,6-二氯-2-苯基嘧啶,2-氯-N-[1-(2,4,6-三甲基苯基)乙烯基]乙酰胺,1,1-二氯丙酮的乙二醇乙缩醛;条件是当式Ⅰ的化合物是imazaquin时,该解毒化合物不是1,8-萘二酸酐、oxabetrinil、flurazole或N,N-二烯丙基二氯乙酰胺;当式Ⅰ化合物是imazethapyr时,该解毒化合物不是1,8-萘二酸酐。2.按权利要求1的组合物,其中的R是式ⅠA的基团。3.按权利要求2的组合物,其中的R1和R2是C1-C4烷基或卤烷基,R3是H,W是O。4.按权利要求3的组合物,其中的A是COOD4,其中D4是H、C1-C12烷基或铵阳离子。5.按权利要求4的组合物,其中的B是N原子。6.按权利要求5的组合物,其中的R4是H、C1-C6烷基,或者二个R4单元可合并形成其中m为2或3、n为2至4的-(CH=CH)m-或-(CH2)n-。7.按权利要求6的组合物,其中用的是imazaquin。8.按权利要求6的组合物,其中用的是imazethapyr。9.按权利要求6的组合物,其中用的是imazapyr。10.按权利要求6的组合物,其中用的是AC-263222。11.按权利要求4的组合物,其中的B是-CH-基团。12.按权利要求11的组合物,其中用的是AC-222293。13.按权利要求1的组合物,其中的R是式ⅠB的基团。14.按权利要求1的组合物,其中的R是式ⅠC的基团。15.按权利要求1至14中任一项的组合物,其中在组分(b)式Ⅱ解毒剂中R10是C1-C3卤代烷基;R11和R12各自是C2-C4链烯基或卤代链烯基,或2,3-二氧戊环-2-基甲基,以及当R11和R12合并后形成含O、S和(或)N原子的C5-C10饱和或不饱和杂环,并且它们可由C1-C5烷基、卤烷基、烷氧基,或烷氧烷基或卤代酰基所取代。16.按权利要求15的组合物,其中的R是二氯甲基。17.按权利要求16的组合物,其中所述(b)组分的化合物是N,N-二烯丙基二氯乙酰胺。18.按权利要求16的组合物,其中所述(b)组分的化合物是N-(2-丙烯基)-N-(1,3-二氧戊环基甲基)二氯乙酰胺。19.按权利要求16的组合物,其中所述(b)组分的化合物是具下式的1,3-噁唑烷基二氯乙酰胺其中R13是氢、C1-C4烷基、羟烷基、卤代烷基或烷氧基、C2-C6烷氧烷基、苯基、或者具C5-C10环上原子并且含O、S和(或)N原子的饱和或不饱和杂环基;R14和R15各自是氢、C1-C4烷基或卤烷基、苯基或杂环R4单元,或可与同之相连接的碳原子一起形成C3-C7螺环烷基。20.按权利要求19的组合物,其中R13是所述杂环单元之一,R14和R15各自是甲基、三氟甲基,或与同之相连的碳原子一起形成C5或C6螺环烷基。21.按权利要求19的组合物,其中所述式Ⅲ化合物是噁唑烷,3-(二氯乙酰)-2,2,5-三甲基-。22.按权利要求19的组合物,其中所述式Ⅲ化合物是噁唑烷,3-(二氯乙酰)-2,2-螺环己基-。23.按权利要求19的组合物,其中所述式Ⅲ化合物是噁唑烷,3-(二氯乙酰)-2,2,2-二甲基-5-苯基-。24.按权利要求20的组合物,其中所述式Ⅲ化合物是噁唑烷,3-(二氯乙酰)-2,2-二甲基-5-(2-呋喃基)-。25.按权利要求20的组合物,其中所述式Ⅲ化合物是噁唑烷,3-(二氯乙酰)-2,2-二甲基-5-(2-噻吩基)-。26.按权利要求20的组合物,其中所述式Ⅲ化合物是吡啶,3-〔3-(二氯乙酰)-2,2-二甲基-5-噁唑烷基〕-。27.按权利要求16的组合物,其中所述式Ⅱ化合物是4-(二氯乙酰)-3,4-二氢-3-甲基-2H-1,4-苯并噁嗪。28.按权利要求16的组合物,其中所述式Ⅱ化合物是乙酮,2,2-二氯-1-(1,2,3,4-四氢-1-甲基-2-异喹啉基)-。29.按权利要求16的组合物,其中所述式Ⅱ化合物是顺/反哌嗪,1,4-双(二氯乙酰)-2,5-二甲基-。30.按权利要求16的组合物,其中所述式Ⅱ化合物是N-(二氯乙酰)-1,2,3,4-四氢喹哪啶。31.按权利要求16的组合物,其中所述式Ⅱ化合物是1,5-二氮杂环壬烷,1,5-双(二氯乙酰)-。32.按权利要求16的组合物,其中所述式Ⅱ化合物是1-氮杂螺〔4.4〕壬烷,1-(二氯乙酰)-。33.一种组合物,其中含有具除草有效量的imazaquin;imazethapyr;imazapyr;AC-263222或AC-222293,以及解毒有效量的N,N-二烯丙基二氯乙酰胺;噁唑烷,3-(二氯乙酰)-2,2,5-三甲基-;噁唑烷,3-(二氯乙酰)-2,2-二甲基-5-(呋喃基)-;噁唑烷,3-(二氯乙酰)-2,2-螺环己基-;4-(二氯乙酰)-3,4-二氢-3-甲基-2H-1,4-苯并噁嗪;cyometrinil或oxabetrinil;条件是当式Ⅰ化合物是imazaquin时,该解毒化合物不是oxabetrinil或N,N-二烯丙基二氯乙酰胺。34.按权利要求1的组合物,与所述式Ⅰ化合物一起进一步含有作为共用除草剂的一种或多种附加的除草剂化合物。35.按权利要求34的组合物,其中所述共用除草剂是具下式的N-乙酰苯胺;其中R8是H、C1-C6烷基、卤烷基、烷氧基或烷氧烷基、链烯基、卤代链烯基、不超过C6的炔基或卤代炔基、具有O、S和(或)N原子的C5-C10杂环基或杂环基甲基并且可由卤素、C1-C4烷基、羰烷基或羰烷氧基烷基、硝基、氨基、氰基所取代;R9是H、卤素、硝基、氨基、C1-C6烷基、烷氧基或烷氧烷基,并且i是0至5。36.按权利要求35的组合物,其中R8是不大于C6的烷氧烷基或吡唑基烷基,R9是C1-C6烷基或烷氧基。37.按权利要求36的组合物,其中所述的N-乙酰苯胺是乙基乙草安、杂草锁、丁草锁、甲氧毒草安或metazochlor。38.按权利要求37的组合物,其中所含的式Ⅰ化合物是具除草有效量的imazaquin、imazethapyr、imazapyr、AC-263222或AC-222293。39.按权利要求38的组合物,其中包含的式Ⅱ化合物是解毒有效量的N,N-二烯丙基二氯乙酰胺,N-(2-丙烯基)-N-(1,3-二氧戊环-2-基甲基)二氯乙酰胺,或具下式的1,3-噁唑烷基二氯乙酰胺其中R13是氢、C1-C4烷基、羟烷基、卤代烷基或烷氧基、C2-C6烷氧烷基、苯基、或者具C5-C10环上原子并且含O、S和(或)N原子的饱和或不饱和杂环基;R14和R15各自是氢、C1-C4烷基或卤烷基、苯基或杂环R4单元,或与同之相连接的碳原子一起形成C3-C7螺环烷基。40.按权利要求39的组合物,其中所述式Ⅲ化合物是噁唑烷,3-(二氯乙酰)-2,5,5-三甲基-。41.按权利要求39的组合物,其中所述式Ⅲ化合物是噁唑烷,3-(二氯乙酰)-2,2-螺环己基-。42.按权利要求39的组合物,其中所述式Ⅲ化合物是噁唑烷,3-(二氯乙酰)-2,2-二甲基-5-苯基-。43.按权利要求39的组合物,其中所述式Ⅲ化合物是噁唑烷,3-(二氯乙酰)-2,2-二甲基-5-(2-呋喃基)-。44.按权利要求39的组合物,其中所述式Ⅲ化合物是噁唑烷,3-(二氯乙酰)-2,2-二甲基-5-(2-噻吩基)-。45.按权利要求39的组合物,其中所述式Ⅲ化合物是吡啶,3-〔3-(二氯乙酰)-2,2-二甲基-5-噁唑烷基〕-。46.按权利要求39的组合物,其中所含式...

【专利技术属性】
技术研发人员:布雷特H巴斯勒罗纳德J布林克尔
申请(专利权)人:孟山都公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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