【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种,特别涉及一种将电路板制备过程中的碱性蚀刻废液进行酸碱中和后再处理利用的。
技术介绍
在印刷电路板(printed circuit board, PCB)制备过程中,产生的废液通常有 高浓度的蚀刻废液、微蚀刻废液(含硫酸/双氧水、过硫酸钠或过硫酸铵)、显像剥膜废液 (含碳酸钠、氢氧化钠)、化学铜废液(含硫酸铜、甲醛螯合剂)、剥锡铅废液(含氟化铵、硝酸、双氧水)、剥挂架废液(含硝酸),以及低浓度的酸洗废液(含硫酸),水洗废液(含脱脂剂)等。而印刷电路板使用的蚀刻液主要分为碱性蚀刻液(NH3-NH4Cl)及酸性蚀刻液 (HCI-CuCI2)。其中碱性蚀刻液因具有蚀刻速率快、侧蚀性低、溶铜能力高、蚀刻速率容易控制维护方便及成本低等特点,故碱性蚀刻液在印制电路板的生产中得到了非常广泛的应用,特别是用于具有精细线路的印制电路板。碱性蚀刻液分为母液及子液,母液在进行溶铜时,母液的含铜浓度因会不断升高, 故须将部分母液自槽液移除,并补充不含铜的子液,以控制槽液的母液含铜浓度在适当范围,在一现有技术中,母液的含铜浓度大约是控制在150g/L左右。在另一现有技术 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
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