箔式无感薄膜电容器制造技术

技术编号:7299580 阅读:196 留言:0更新日期:2012-04-26 23:59
本实用新型专利技术公开了一种箔式无感薄膜电容器,包括两条引线、本体和电容器芯子,所述的电容器芯子包括两层铝箔和两层薄膜,所述的一层薄膜、一层铝箔、另一层薄膜、另一层铝箔依序层叠,所述的两层铝箔左右错位各露出薄膜的一端,其具有成本低廉、生产简单、损耗小、可靠性高、容量稳定性好、绝缘电阻高、高频率性好、能承受较大峰值电流的优点。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电子元件领域,尤其涉及一种箔式无感薄膜电容器
技术介绍
电容器是构成电子电路的主要的电子部品,使用各种材料和不同结构的电容器正在开发和使用中。薄膜电容器以其优越的性能占有很大的市场。其中有感式电容器采用铝箔+介质薄膜,引脚线先焊在铝箔上后,再采取有感式卷绕,引脚线在卷芯内部,与卷芯轴线平行,然后涂装、电检、加工,工艺简单成本低,但是质量差,而且频率性差,损耗相对高。 一种干式油浸全膜箔式无感电容器,虽然它也是无感结构,但它与铝箔突出部位连接的部品是中心有浸渍孔的极板,然后极板再与引脚线连接,而且极板还要安装在绝缘管内,还要密封连接,还要加螺母进一步密封,工艺复杂,部品复杂,可能还有泄露油的现象。国内高档薄膜电容器一直以来为日本松下、日精电机、飞利浦、意大利阿科、西门子等公司所垄断。国内现有技术品质性能差,工艺复杂、成本高、生产周期长、不环保,市场竞争力低。
技术实现思路
为解决现有技术不足,本技术提供一种成本低廉、生产简单、损耗小、可靠性高、容量稳定性好、绝缘电阻高、高频率性好、能承受较大峰值电流的箔式无感薄膜电容器, 用于高频、直流和脉冲电路。本技术采用如下技术方案箔式无感薄膜电容器,包括两条引线、本体和电容器芯子,其特征在于所述的电容器芯子包括两层铝箔和两层薄膜,所述的一层薄膜、一层铝箔、另一层薄膜、另一层铝箔依序层叠,所述的两层铝箔左右错位各露出薄膜的一端。所述的铝箔露出薄膜的露出量为1毫米。所述的两条引线间的间距为10毫米。所述的两引脚线分别焊接在铝箔露出的一端。所述的薄膜为聚丙烯薄膜。本技术采用的是有感电容器结构中铝箔+介质薄膜卷绕的方式,做出的产品却是无感电容,其绝缘、频率性、损耗等性能超过有感电容。本专利技术与现有技术相比,其优势效果为成本低廉、生产简单、损耗小、可靠性高、 容量稳定性好、绝缘电阻高、高频率性好、能承受较大峰值电流的箔式无感薄膜电容器,能够在高频、直流和脉冲电路的场合下应用。附图说明图1是本技术电容器的正视图。图2是本技术电容器的侧视图。图3是本技术电容器芯子的结构示意图。图中序号1、引线;2、本体;3、铝箔;4、薄膜。具体实施方式3以下结合附图和具体实施方式对本技术作进一步说明。如图1、图2、图3所示,箔式无感薄膜电容器,包括两条弓丨线1、本体2和电容器芯子,所述的电容器芯子包括两层铝箔3和两层薄膜4,所述的一层薄膜4、一层铝箔3、另一层薄膜4、另一层铝箔3依序层叠,所述的两层铝箔3左右错位各露出薄膜4的一端;所述的铝箔3露出薄膜4的露出量为1毫米;所述的两条引线1间的间距为10毫米;所述的两引脚线分别焊接在铝箔露出的一端;所述的薄膜为聚丙烯薄膜。本技术成本低廉、生产简单、损耗小、可靠性高、容量稳定性好、绝缘电阻高、 高频率性好、能承受较大峰值电流的箔式无感薄膜电容器。能够在高频、直流和脉冲电路的场合下应用,且引线间距只有10mm,可以满足薄膜电容器发展趋势的要求。以上详细说明了本技术的实施方式,但这只是为了便于理解而举的实例,不应被视为是对本技术范围的限制。同样,任何所属
的技术人员均可根据本技术的技术方案及其较佳实施例的描述,做出各种可能的等同改变或替换,但所有这些改变或替换都应属于本技术权利要求的保护范围。本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.箔式无感薄膜电容器,包括两条引线(1)、本体(2)和电容器芯子,其特征在于所述的电容器芯子包括两层铝箔C3)和两层薄膜G),所述的一层薄膜G)、一层铝箔(3)、另一层薄膜G)、另一层铝箔C3)依序层叠,所述的两层铝箔C3)...

【专利技术属性】
技术研发人员:唐正权
申请(专利权)人:兴化市金盛电子有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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