一种透反型电致变色液晶显示器制造技术

本实用新型专利技术涉及液晶显示器技术领域，公开了一种透反型电致变色液晶显示器，包括：第一电极层、第二电极层和电致变色层，所述电致变色层位于所述第一电极层与第二电极层之间。本实用新型专利技术在反射模式和透射模式下都能获得好的显示效果，且生产成本低，分辨率和开口率得以提高。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及液晶显示器
，特别涉及一种透反型电致变色液晶显示O
技术介绍
液晶的显示模式可以大致区分为垂直电场模式和水平电场模式。水平电场模式有IPS(共面转换=In-Plane-Switching)模式和FFS(边缘场交换=Fringe Field Switching)模式等。现有的垂直电场模式的液晶显示器结构如图1所示，由下自上包括背光源60、第一偏光片71、第一基板(TFT阵列基板)70、第一电极层72、第一取向层73、液晶层90、第二取向层83、第二电极层82、第二基板(即彩膜基板)80、第二偏光片81，另外还包括隔垫物 100。而透反型液晶显示器则是把现有的子像素区域分为两部分(见图2、图幻透射区和反射区，透射区和反射区的液晶盒厚度有相同盒厚和不同盒厚两种。图2表示反射区和透射区的液晶盒厚度一致(均为λ/2)的显示模式，图3表示反射区的液晶盒厚度(λ/4) 是透射区的液晶盒厚度(λ/幻一半的显示模式。其中，λ为波长。图2中包括上偏光片 101 ；上玻璃基板102 ；液晶103 ；上λ /4板104 ；下玻璃基板105 ；下λ /4板106 ；和下偏光片107 ；图3中包括上偏光片201 ；上λ /2板202 ；上玻璃基板203 ；液晶204 ；下玻璃基板 205 ；下λ /2板206 ；和下偏光片207。透反型液晶显示器的这种结构的缺点是在透射模式下降低了开口率，同时也降低了显示性能；在反射模式下，液晶层实现的是对穿过上偏光片和彩膜基板后进入液晶盒的环境光线的调制，能够获得的对比度有限，图像清晰度不够。而且不能够实现在这两种模式下都获得好的显示效果，制作工艺复杂。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本技术要解决的技术问题其一是如何在反射模式和透射模式下都获得好的显示效果；其二是如何降低生产成本，且不降低分辨率和开口率。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本技术提供了一种透反型电致变色液晶显示器，包括第一电极层、第二电极层和电致变色层，所述电致变色层位于所述第一电极层与第二电极层之间。其中，所述第二电极层、电致变色层与第一电极层位于三个不同的膜层。其中，所述第二电极层、电致变色层与第一电极层位于同一膜层。其中，所述显示器还包括液晶层，且所述第二电极层、电致变色层和第一电极层位于液晶层的相同侧。其中，所述显示器还包括第一基板，所述第二电极层位于所述第一基板与所述电致变色层之间。其中，所述电致变色层包括至少一个像素区域，所述像素区域包括分别显示青色、 洋红色、黄色的三个水平排列的子区域，其中每个子区域对应于一个子像素。其中，所述显示器还包括第二基板，其相对于液晶层，位于所述第一电极层的相对侧。其中，所述第一基板为薄膜晶体管阵列基板。其中，所述第二基板为白玻璃基板。其中，所述显示器还包括背光源，其相对于液晶层，位于所述第一基板的相对侧。(三)有益效果第一、本技术采用阵列基板和彩膜基板倒转的显示器结构，在反射和透射两种模式下都获得优秀的显示效果。在反射模式下，由电致变色材料直接反射环境光线实现显示；在透射模式下，可获得与现有透射型液晶显示器同等显示效果。第二、本技术的结构中用电致变色层代替彩膜，降低了生产成本，将电致变色层置于两电极层之间或者置于与第一电极层与第二电极层相同的膜层，且本技术中整个子像素区域既是透射区也是反射区，不降低分辨率和开口率。附图说明图1为现有的垂直电场模式的液晶显示器结构示意图；图2表示反射区和透射区的液晶盒厚度一致的显示器结构示意图；图3表示反射区的液晶盒厚度是透射区的液晶盒厚度一半的显示模式的显示器结构示意图；图4为本技术实施例一的液晶显示器结构示意图；图5为本技术实施例二的液晶显示器结构示意图。图1中，60 背光源；70 第一基板(即TFT阵列基板)；71 第一偏光片；72 第一电极；73 第一取向层；80 第二基板(即彩膜基板)；81 第二偏光片；82 第二电极层；83 第二取向层；90 液晶层；100 隔垫物；图2中，101 上偏光片；102 上玻璃基板；103 液晶；104 上λ/4板；105 下玻璃基板；106 下λ/4板；107 下偏光片；图3中，201 上偏光片；202 上λ/2板；203 上玻璃基板；204 液晶；205 下玻璃基板；206 下λ /2板；207 下偏光片；图4 图5中，10 第一基板；11 第二电极层；12 电致变色层；13 第一电极层； 14 第一偏光片；15 第一取向层；20 第二基板；21 第二偏光片；22 第二取向层；30 液晶层；40 隔垫物；50 背光源。具体实施方式以下结合附图和实施例，对本技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本技术，但不用来限制本技术的范围。实施例一4首先参照图4对本技术的实施例一的基板构成进行说明。采用倒转结构的透反型彩色液晶显示器包括第一基板10、第二基板20、第一电极层13、第二电极层11、电致变色层12、液晶层30、第一取向层15、第二取向层22、第一偏光片14、第二偏光片21、隔垫物40以及背光源50。第二基板20为白玻璃基板，靠近背光一侧。第一基板10平行于第二基板20，为TFT阵列基板。第二电极层11、第一电极层13与第一基板10均位于液晶层30的同一侧，且第二电极层11与第一基板10接触。电致变色层12作为彩膜层(CF)，配置于第二电极层11和第一电极层13之间，电致变色层12、第二电极层11和第一电极层13位于三个不同的膜层。液晶层30位于第一取向层15和第二取向层22之间。一个像素分为三个子像素，电致变色层12包括至少一个像素区域，所述像素区域包括分别显示青色、洋红色、黄色三个水平排列的子区域(若获得更丰富的色彩，可增加基色元素，如黑色等，所增加的基色的数目根据所需设计效果而定)，其中每个子区域对应于一个子像素，例如可以分别显示青色、洋红色、黄色(以喷墨打印机基色为参考)的三个水平排列的子区域，各子像素为水平排列结构。本实施例的显示原理如下在反射模式中，由不同的电致变色层反射出青、洋红、 黄三种光混合成多种颜色进行彩色显示，其亮度控制通过调整电致变色层的反射率和透射率实现。在透射模式中，背光经液晶层调制后从不同的电致变色层透射出青、洋红、黄三种颜色的光，混合成多种颜色进行彩色显示。本实施例的制作过程如下1、准备玻璃基板。利用水洗、酸洗、超声波清洗、风刀等工艺清洗玻璃基板，以达到生产要求；2、在玻璃基板上溅射氧化铟锡透明导电膜，并利用光刻工艺形成公共电极及引线；利用化学气相沉积法生长绝缘层；3、禾Ij用丝网印刷技术或打印技术制作青色、洋红色、黄色三种电致变色材料；禾Ij用化学气相沉积法生长绝缘层；4、利用光取向技术制作偏光层；利用化学气相沉积法生长绝缘层；5、利用溅射工艺生长栅金属层，并利用光刻工艺形成栅电极及电极引线图形、各标记；6、利用化学气相沉积法连续生长栅绝缘层、半导体有源层、欧姆接触层，然后通过光刻形成半导体有源层硅岛；7、溅射数据线金属并形成数据引线和源漏电极图形；8、利用沟道区的源漏电极作为掩膜，刻蚀掉沟道区的欧姆接触层，然后沉积绝缘层，光刻形成漏电极与金属电极之间进行互连以及外引线互连区的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周晓东，柳在健，姚继开，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：