本实用新型专利技术涉及激光刻蚀OLED显示器阴极薄膜材料的装置，高频率短脉冲激光器的输出端布置有电动光闸和电动扩束镜，电动扩束镜输出端布置有1/2波片，1/2波片输出端布置有偏振分光镜，偏振分光镜输出端布置有第一半透半反镜和第一45度反射镜片，第一半透半反镜输出端布置有第一聚焦镜和第二45度反射镜片，第二45度反射镜片输出端布置有第二聚焦镜，第一45度反射镜片输出端布置有第二半透半反镜，第二半透半反镜输出端布置有第三聚焦镜和第三45度反射镜片，第三45度反射镜片输出端布置有第四聚焦镜，聚焦镜输出端正对于二轴吸附平台。OLED显示器阴极材料在高频率的短脉冲激光器的作用下气化而达到蚀除的目的，四路光束实现阴极区域线条刻蚀。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种运用激光刻蚀OLED显示器阴极薄膜材料的微加工设备。
技术介绍
近年来，有机发光二极管(organic light emitting diode, 0LED)已经成为非常热门的新兴平板显示器产业，主要是因为OLED显示器具有自发光、广视角(达170度以上)、 反应时间快(IPs量级)、发光效率高、工作电压低(3-10V)，面板厚度薄(小于2mm)、可制作大尺寸与可弯曲式(挠性)面板，制程简单，且具有低成本的潜力(预计比TFT— LCD便宜约20%) οOLED器件结构大致可分为基板、阳极、有机发光物质和阴极等四个主要区域。为了将电子或者空穴有效注入有机材料，如前所述，降低注入能垒是第一要务，由于大部分应用于电致发光的有机材料的LUMO能级在2. 5eV-3. 5eV，及HOMO能级也在5_6eV，因此阴极必须是一个高功函数的金属，才能得到最低的注入能垒。其中作为阴极区域，主要有透明导电氧化物(transparent conducting oxide，TC0)及金属两大类，自身具有良好的导电性、稳定的化学性及形态和高透明度。其中透明导电氧化物有ΙΤ0、ZnO, AZO等；导电透明金属主要有高功函数Ni、Au、及Pt。最常被当作阴极导电体的金属氧化物是氧化铟锡薄膜 (indium tin oxide，ΙΤ0)，制作主要是以溅镀或者化学气相沉积。基板上制作阴极薄膜之后，一般需要在薄膜上刻蚀设计好电极图形。传统的电极制作是通过化学湿刻方法来实现。这种方法从设计到蚀刻的过程中，设计到完成时间长，制程工序多，投入较多治具和日常耗材，需要较多人力，污染环境，耗能大，制作电极图形的线宽较大(大于0. 1mm)，使得整体OLED发光效率降低，所以此化学湿法刻蚀过程需要含多个工序的管控过程，加大良率及效率提升的难度，目前含有重金属废液废气处理也没有很合适的办法，制作好的电极图形线宽比较大，发光效率低，成品的品质低等固有缺点。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术存在的不足，提供一种激光刻蚀OLED显示器阴极薄膜材料的装置，实现对OLED显示器的阴极进行蚀刻，得到较细较稳定的线宽，且不损伤基底，从而克服传统化学湿刻方法存在的工序复杂繁琐、间距控制困难、选择性不强、 污染环境等缺点。本技术的目的通过以下技术方案来实现激光刻蚀OLED显示器阴极薄膜材料的装置，特点是高频率短脉冲激光器的输出端布置有电动光间，电动光间的输出端设置有电动扩束镜，电动扩束镜的输出端布置有1/2 波片，1/2波片的输出端布置有偏振分光镜，偏振分光镜的输出端布置有第一半透半反镜和第一 45度反射镜片，第一半透半反镜的输出端布置有第一聚焦镜和第二 45度反射镜片，第二 45度反射镜片的输出端布置有第二聚焦镜，第一 45度反射镜片的输出端布置有第二半透半反镜，第二半透半反镜的输出端布置有第三聚焦镜和第三45度反射镜片，第三45度反射镜片的输出端布置有第四聚焦镜，第一聚焦镜、第二聚焦镜、第三聚焦镜和第四聚焦镜的输出端正对于二轴吸附平台，所述二轴吸附平台的上方布置有CCD对位观察系统，所述二轴吸附平台上安装有一组夹紧气缸，所述二轴吸附平台的一侧布置有吹气系统，二轴吸附平台的另一侧安装有集尘系统，二轴吸附平台的上表面还分布有支撑球。进一步地，上述的激光刻蚀OLED显示器阴极薄膜材料的装置，所述第一半透半反镜、第二半透半反镜、第二 45度反射镜片、第三45度反射镜片、第一聚焦镜、第二聚焦镜、第三聚焦镜和第四聚焦镜置于光学箱中。本技术技术方案突出的实质性特点和显著的进步主要体现在本技术采用不同波长的高频率的脉冲激光器作为激光源，对OLED显示器阴极材料进行激光蚀刻，使OLED显示器阴极材料在高频率的短脉冲激光器的作用下气化而达到蚀除的目的，通过偏振分光镜和半透半反镜的配合，分出四路光束实现阴极区域线条刻蚀，产生的粉尘经过大流量积尘系统集尘，从而加工出无污染、线性稳定、功能完好的 OLED显示器产品。不仅提高制程良率，提升产品品质及使用寿命，而且刻蚀直线性好，激光刻蚀OLED显示器阴极材料线宽可以做细，发光效率变高，对于复杂的OLED显示器曲面电极图形都可实现高效率、高精度加工。以下结合附图对本技术技术方案作进一步说明附图说明图1 本技术的光路系统示意图。具体实施方式本技术提出一种应用激光刻蚀OLED显示器阴极的微加工方法及其系统，激光蚀刻可以避免化学湿法固有缺点，而且激光具有非接触、无污染环境、易控制等特性，使其成为OLED显示器阴极图形线宽控制的重要应用热点，并且逐渐会在工业中得到广泛的应用。运用激光器蚀刻OLED显示器阴极可以达到较稳定的线宽，使阴极的线宽最细可以达到20um，生产时可以方便的更换蚀刻图形，无废弃物产生，可大量节省研发成本及缩短产品开发周期。高精度控制系统和机构设计，能进行高效率蚀刻，快速、平稳、重覆性高，能确保加工之稳定度与精密度，大幅提升良率。如图1所示，激光刻蚀OLED显示器阴极薄膜材料的装置，高频率短脉冲激光器1 是波长为190nm llOOnm、脉宽在IOOps 100ns、频率在IOKHz 50MHz的激光器，高频率短脉冲激光器1的输出端布置有电动光闸2，电动光闸2的输出端设置有电动扩束镜3， 电动扩束镜3的输出端布置有1/2波片4，1/2波片4的输出端布置有偏振分光镜5，偏振分光镜5的输出端布置有第一半透半反镜6和第一 45度反射镜片16，第一半透半反镜6的输出端布置有第一聚焦镜13和第二 45度反射镜片17，第二 45度反射镜片17的输出端布置有第二聚焦镜19，第一 45度反射镜片16的输出端布置有第二半透半反镜7，第二半透半反镜7的输出端布置有第三聚焦镜20和第三45度反射镜片18，第三45度反射镜片18的输出端布置有第四聚焦镜21，第一聚焦镜13、第二聚焦镜19、第三聚焦镜20和第四聚焦镜21 的输出端正对于二轴吸附平台11，二轴吸附平台11的上方布置有CXD对位观察系统15，二轴吸附平台11上安装有一组夹紧气缸9，二轴吸附平台11的一侧布置有吹气系统，二轴吸附平台11的另一侧安装有集尘系统12，二轴吸附平台11的上表面还分布有支撑球10。其中，第一半透半反镜6、第二半透半反镜7、第二 45度反射镜片17、第三45度反射镜片18、 第一聚焦镜13、第二聚焦镜19、第三聚焦镜20和第四聚焦镜21置于光学箱14中。上述装置用于刻蚀OLED显示器阴极薄膜材料时，高频率短脉冲激光器1发出的激光由电动光闸2控制开关光，激光光束经电动光闸2后由电动扩束镜3对光束进行同轴扩束，改善光束传播的发散角，使光路准直，经电动扩束镜3扩束准直后光束到达1/2波片4， 由偏振分光镜5调节出两路功率相同的光束，一路光束输入至第一半透半反镜6，另一路光束输入至第一 45度反射镜片16，第一半透半反镜6输出两路光束，一路光束经第一聚焦镜 13聚焦于OLED显示器的阴极材料8上，另一路依次经第二 45度反射镜片17和第二聚焦镜 19聚焦于OLED显示器的阴极材料8上，第一 45度反射镜片16输出光束至第二半透半反镜 7，第二半透半反镜7输出两路光束，一路光束经第三聚焦镜20聚焦于OLED显示器的阴极本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵裕兴，狄建科，张伟，
申请(专利权)人：苏州德龙激光有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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