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一种滚珠轴承制造技术

技术编号:7245724 阅读:162 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及一种滚动轴承,具体的是涉及一种应用于高速运转条件下的滚珠轴承。其轴承外圈与轴承内圈之间对应设置一条环形双排滚珠滚道,在环形双排滚珠滚道上设置有2列滚珠,滚珠之间放置有带有均匀排列的半月型凹位的减摩保持架;带有均匀排列的半月型凹位结构的减摩保持架,半月型凹位结构的中间位置开有工字型或者矩形结构的润滑孔,此种结构可以有效减少滚珠与滚道的摩擦,润滑材料选用聚四氟乙烯材料,利于提高了轴承的使用寿命,且聚四氟乙烯材料具有摩擦系数极小、自润滑能力强、耐磨耐高温等优点。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种滚动轴承,具体的是涉及一种应用于高速运转条件下的滚珠轴承
技术介绍
本专利技术涉及轴承制造领域,具体的是应用于高速运转条件下,一种结构简单的滚珠轴承。在轴承工作过程中,轴承的内圈随着传动轴一起转动,轴承的内圈随之带动滚动体运转,当传动轴高速运转时,滚动体的速度也随之增大,摩擦力加大而易导致轴承的滚道受损,大大降低了轴承的使用寿命。
技术实现思路
鉴于已有技术存在的缺陷,本技术的目的是要提供一种摩擦系数小,耐磨性能好的滚珠轴承。为实现上述目的,本技术所采用的技术解决方案一种滚珠轴承,其特征在于轴承外圈与轴承内圈之间对应设置一条环形双排滚珠滚道,在环形双排滚珠滚道上设置有2列滚珠,滚珠之间放置有带有均勻排列的半月型凹位的减摩保持架。所述滚珠为采用氮化硅陶瓷制成的球型结构。所述减摩保持架为带有均勻排列的半月型凹位结构的保持架,半月型凹位结构的中间位置开有特定形状的润滑孔,润滑材料选用聚四氟乙烯材料。所述特定形状的润滑孔可以为工字型或者矩形结构,最好为工字型。采用上述方案后,与现有轴承相比本技术具有以下有益效果本技术的减摩保持架为带有均勻排列的半月型凹位结构的保持架,半月型凹位结构的中间位置开有工字型或者矩形结构的润滑孔,此种结构可以有效减少滚珠与滚道的摩擦,润滑材料选用聚四氟乙烯材料,利于提高了轴承的使用寿命,且聚四氟乙烯材料具有摩擦系数极小、自润滑能力强、耐磨耐高温等优点。附图说明图1是本技术纵向断面结构示意图。图中1、轴承外圈,2、轴承内圈,3、减摩保持架,4、滚珠,5、半月型凹位。具体实施方式一种滚珠轴承其结构为轴承外圈1与轴承内圈2之间对应设置一条环形双排滚珠滚道,在环形双排滚珠滚道上设置有2列滚珠4,滚珠4之间放置有带有均勻排列的半月型凹位5的减摩保持架3。所述滚珠4为采用氮化硅陶瓷制成的球型结构。所述减摩保持架3为带有均勻排列的半月型凹位5结构的保持架,半月型凹位5 结构的中间位置开有特定形状的润滑孔,润滑材料选用聚四氟乙烯材料。 所述特定形状的润滑孔可以为工字型或者矩形结构,最好为工字型,此种结构可以有效减少滚珠与滚道的摩擦。权利要求1.一种滚珠轴承,其特征在于轴承外圈(1)与轴承内圈(2)之间对应设置一条环形双排滚珠滚道,在环形双排滚珠滚道上设置有2列滚珠(4),滚珠(4)之间放置有带有均勻排列的半月型凹位(5)的减摩保持架(3)。2.根据权利要求1所述的一种滚珠轴承,其特征在于所述滚珠(4)为采用氮化硅陶瓷制成的球型结构。3.根据权利要求1所述的一种滚珠轴承,其特征在于所述减摩保持架(3)为带有均勻排列的半月型凹位(5)结构的保持架,半月型凹位(5)结构的中间位置开有特定形状的润滑孔,润滑材料选用聚四氟乙烯材料。4.根据权利要求3所述的一种滚珠轴承,其特征在于所述特定形状的润滑孔可以为工字型或者矩形结构,最好为工字型。专利摘要本技术涉及一种滚动轴承,具体的是涉及一种应用于高速运转条件下的滚珠轴承。其轴承外圈与轴承内圈之间对应设置一条环形双排滚珠滚道,在环形双排滚珠滚道上设置有2列滚珠,滚珠之间放置有带有均匀排列的半月型凹位的减摩保持架;带有均匀排列的半月型凹位结构的减摩保持架,半月型凹位结构的中间位置开有工字型或者矩形结构的润滑孔,此种结构可以有效减少滚珠与滚道的摩擦,润滑材料选用聚四氟乙烯材料,利于提高了轴承的使用寿命,且聚四氟乙烯材料具有摩擦系数极小、自润滑能力强、耐磨耐高温等优点。文档编号F16C33/40GK202182107SQ201120258368公开日2012年4月4日 申请日期2011年7月21日 优先权日2011年7月21日专利技术者不公告专利技术人 申请人:栾清杨本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人
申请(专利权)人:栾清杨
类型:实用新型
国别省市:

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