制备发光显示装置的方法，该方法包括：在基材上形成透光性树脂材料膜，在所述基材上可将反射金属和半透明部件设置于对应于红色、绿色和蓝色的多个像素区的至少一个中；将部分的所述透光性树脂材料膜固化，来形成透光性树脂层，该被固化的部分位于包括所述至少一个像素区在内的区域中；以及将固化后的透光性树脂层显影，来形成光程长度调整层。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及制备包含光程长度调整层的发光显示装置的方法，该方法具有简单的制备步骤；涉及通过简单制备步骤制得的发光显示装置；还涉及发光显示器。
技术介绍
近年中，替代阴极射线管(CRT)，薄且轻的平板显示器已日益广泛地用于各种领域。这是因为，随着信息设备及以互联网为中心的服务系统的基础设施的发展，个人信息终端如个人电脑和可进入网络的移动电话已加速普及。此类平板显示器也已用作家用TV替代普遍使用的传统CRT。特别地，有机电致发光元件(有机EL元件)是近年来大受关注的装置。有机EL 元件响应于电信号而发光，并且包含作为发光化合物的有机化合物。有机EL元件本质上具有优异的显示性质如大视角、高对比度和高速响应。此外，它们可实现薄，轻，高清晰度的从小尺寸至大尺寸的显示装置。因此，作为替代CRT或LCD的元件，它们已受到关注。已提出使用有机电致发光元件的各种全色显示装置。在一种获得全色影像的方法中，使用三原色；即，红(R)、绿(G)和蓝(B)，滤色器与白色有机EL—起使用。在此类全色显示装置中，已尝试制备顶部发射型全色显示装置和底部发射型全色显示装置。顶部发射型全色显示装置包含半透明阴极作为上电极，并且通过在反光膜与半透明阴极之间获得的多级干涉效应仅提取有机EL元件之外的特定波长的光实现高度的颜色再现性。底部发射型全色显示装置包含在半透明或透明下部电极之下的电介质多层镜。例如，在通过依次层合由反光材料制成的第一电极、包含有机发光层的有机层、半透明反光层和由透明材料制成的第二电极从而使有机层变成共振部件制成的有机EL元件中，已知形成以下方程式中的L(光程距)变成最低正值的有机EL元件(2L)/A +Φ/(2 π ) = m其中L表示光程距(光程长度)，λ表示意欲提取的光谱的峰波长(或者意欲提取的光的波长)，m是整数，Φ表示相移。在组合使用此类白色有机EL和滤色器的全色显示装置中，通过改变由无机材料 (如铟锡氧化物(ITO))制成的阳极的厚度，调整各像素的光程长度L以提取各颜色的光 (参见，例如，专利文献1和2)。但是，当无机材料如ITO用于光程长度调整层中时，发光显示装置的制备方法变得复杂，致使生产成本增高并且生产率下降。例如，接着描述包含光程长度调整层的发光显示装置的常规制备方法。首先，反射金属2位于基材1上以对应于红色、绿色和蓝色像素(参见图12)。接着，通过例如溅射或气相沉积，于所述反射金属2已置于其上的基材上形成ITO 膜10 (参见图13)。接着，将包含可固化的树脂的阻挡组合物涂布于此ITO膜10上形成阻挡层20 (参见图14)。在其中反射金属2、ITO膜10和阻挡层20位于基材1上的状态时，用掩模4覆盖阻挡层20，使其部分地暴露于光，并且使在一个像素中的阻挡层20选择性地暴露于光L以固化树脂(参见图15)。使被暴露的阻挡层20显影以除去被暴露的部分之外的其它部分(参见图16)。在此状态，使用残余的阻挡层20作为掩模进行蚀刻以除去除了在此残余的阻挡层20下的ITO膜10之外的ITO膜10 (参见图17)。接着，除去在此残余的ITO膜10上的阻挡层20变成其中反射金属2和ITO膜10 位于一个像素中的状态(参见图18)。接着，为了形成不同的光程长度，再次通过例如溅射或气相沉积形成ITO膜10 (参见图19)。从而，在一个像素区中，ITO膜10叠加于前面步骤中在反射金属2上已形成的 ITO膜10上，由此形成在一个像素区中与另一个像素区中的ITO膜10之间的光程长度差。接着，再次将包含可固化的树脂的阻挡组合物涂布于ITO膜10上形成阻挡层 20(参见图20)。在其中反射金属2、ITO膜10和阻挡层20位于基材1上的状态中，用掩模4覆盖阻挡层，使其部分地暴露于光，并且将其中ITO膜10已彼此叠加的一个像素区及与其相邻的像素区暴露于光以固化树脂(参见图21)。使被暴露的阻挡层20显影，除去被暴露的部分之外的其它部分(参见图22)。在此状态，使用残余的阻挡层20作为掩模进行蚀刻，除去除了在残余的阻挡层20 下的ITO膜10之外的ITO膜10 (参见图23)。接着，除去在残余的ITO膜10上的阻挡层20，在基材1上形成其中已形成反射金属2和叠加的ITO膜10的像素区，和其中已形成反射金属2和ITO膜10的像素区(参见图 24)。接着，为了进一步形成不同的光程长度，再通过例如溅射或气相沉积形成ITO膜 10 (参见图25)。从而，在其中已形成反射金属2和ITO膜10的两个像素区中，ITO膜10叠加于前面步骤中已形成的ITO膜10上，由此通过ITO膜10厚度形成光程长度差。接着，再次将包含可固化的树脂的阻挡组合物涂布于ITO膜10上形成阻挡层 20(参见图26)。在其中反射金属2、ITO膜10和阻挡层20位于基材1上的状态，用掩模4覆盖阻挡层，使其部分地暴露于光，并且使各像素上的阻挡层20暴露于光以固化树脂(参见图27)。使被暴露的阻挡层20显影，除去除了被暴露的部分之外的其它部分(参见图观)。在此状态，使用残余的阻挡层20作为掩模进行蚀刻，除去除了在残余的阻挡层20 下的ITO膜10之外的ITO膜10 (参见图四)。接着，除去在残余的ITO膜10上的阻挡层20，在基材1上在各像素区中在各反射金属2上形成各自由ITO膜10制成并具有不同厚度的光程长度调整层(参见图30)。接着，在其中形成各自由ITO膜10制成并具有不同厚度的光程长度调整层的状态，在各光程长度调整层上以此顺序形成有机发光层7和半透明部件8，由此制备发光显示装置400。 在发光显示装置400中，从有机发光层7发射的光，作为相应于不同厚度ITO膜10 的光程长度屯、d2和d3的具有蓝色、绿色和红色波长的光，从半透明部件8被提取。S卩，从有机发光层7发射的光在半透明部件8与反射金属2之间共振(即，通过长度为(^、屯和d3的光程)。从而，相应于光程长度的具有蓝色、绿色和红色波长的光增强，并且可从发光显示装置400作为蓝色、绿色和红色光被提取。如上所述，具有光程长度调整层的发光显示装置通过三原色蓝色、绿色和红色实现高清晰度的全色显示。但是，当无机材料(例如ΙΤ0)用于形成所述光程长度调整层时， 形成光程长度差要求形成阻挡层、使用阻挡层作为掩模进行蚀刻，以及除去阻挡层。此外， 在形成各光程长度差时，每次都必须进行这些处理，造成制备方法繁琐。引用列表专利文献PTL 1 日本专利申请公布(JP-A)No. 2007-503093PTL 2 JP-A No. 2006-269329
技术实现思路
技术问题本专利技术解决现存的问题并旨在达到以下目的。特别地，本专利技术旨在提供，制备包含光程长度调整层的发光显示装置的方法，该方法具有简单的制备步骤；通过简单制备步骤制得的发光显示装置；和发光显示器。技术方案解决上述问题的手段如下。<1>制备发光显示装置的方法，所述方法包括在基材上形成透光性树脂材料膜，在所述基材上可将反射金属和半透明部件设置于对应于红色、绿色和蓝色的多个像素区中的至少一个中，将部分的所述透光性树脂材料膜固化，以形成透光性树脂层，该被固化的部分位于包括所述至少一个像素区在内的区域中，和将固化后的透光性树脂层显影，来形成光程长度调整层。<2>以上本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．制备发光显示装置的方法，所述方法包括：在基材上形成透光性树脂材料膜，在所述基材上可将反射金属和半透明部件设置于对应于红色、绿色和蓝色的多个像素区的至少一个中，将部分的所述透光性树脂材料膜固化，以形成透光性树脂层，该被固化的部分位于包括所述至少一个像素区在内的区域中，和将固化后的透光性树脂层显影，以形成光程长度调整层。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：飨场聪，高桥俊朗，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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