在集束型构架中在不将平台的纵向空间相下方延伸的状态下使运送能力提高。在平台（ＰＦ）内，第一运送机器人（１６Ｌ）包括：运送主体（４８Ｌ），能够在左侧导轨（４６Ｌ）上滑动移动；运送底座（５０Ｌ），能够在偏移方向（Ｘ方向）上滑动移动；以及滑动型运送臂（５２Ｌ），能够在水平面内旋转移动，并且能够在与旋转圆的半径平行的方向上直线移动，并能够支持一张半导体晶片（Ｗ）。第二运送机器人（１６Ｒ）除各个部的运动或移动的方向与第一运送机器人为（１６Ｌ）左右对称以外，具有与其相同的结构以及功能。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及集束型构架(cluster tool)方式的真空处理装置以及真空运送装置。
技术介绍
作为具有真空运送室的真空处理装置的一种方式，公知集束型构架方式。集束型构架方式是为了实现加工的稳定化、连续化或复合化，而将在负压下执行预定的处理的多个加工腔室配置在真空的平台的周围的方式，也被称为多腔室方式，一般在半导体制造装置中采用(例如参考专利文献1)。一般来说，在集束型构架中，一个被处理物会被依次运送以使其移经多个加工腔室，从而使得该被处理物连续地接受相同种类或不同种类的真空处理。在半导体设备制造中，CVD(化学气相沉积)、溅射、干刻、干洗等是在集束型构架内被执行的代表性的真空处理。在上述的多个加工腔室中跨越的被处理物的移动(运送)通过平台而被执行，因此平台的室内被保持在常压、负压状态。为了将未处理的被处理物从大气空间运入至上述的平台，并且将结束了一系列的真空处理的被处理物从平台运出至大气空间，在平台上还经由门阀而连接大气/真空连接装置的装载固定腔室。在平台的室内设置真空运送装置， 所述真空运送装置用于在负压下在各加工腔室或装载固定腔室之间交接衬底。这种真空运送装置具有用于向各加工腔室或装载固定腔室运入被处理物以及从各加工腔室或装载固定腔室运出被处理物的可伸缩运送臂，从而根据加工目的地来使运送臂旋转。在集束型构架方式的真空处理装置中，一种趋势是采用如下方法减小乃至维持在从进行被处理物盒的投入、取出的加载口这侧观察时的装置整体的宽度尺寸，并将平台向纵深方向延长，由此沿着该长边增设加工腔室并增加装置整体的腔室搭载数量的布局有利地对应于半导体晶片的大型化(例如参考专利文献2)。如果如上述那样加工腔室的搭载数量增多，则真空运送装置的负担变大，真空运送装置侧的运送能力将会不及处理装置侧的整体处理能力。关于这点，在平台内设置一台真空运送机器人的以往的集束型构架中采用了如下方法关于与平台连结的多个加工模块，将在各自的腔室内一个被处理物滞留的滞留时间与在其滞留前后由于该被处理物而模块的功能拥堵的附带忙碌(busy)时间相加而得的模块循环时间实质上设定为相同的长度，通过与各被处理物被处理一圈的顺序相同的顺序， 具有两个运送臂的真空运送机器人在所述多个加工模块中巡回移动，并通过对于各个加工模块的存取将处理完的被处理物用一个运送臂运出(拾取)并用另一个运送臂运入(放入)后续的其他被处理物以替代所述处理完的被处理物(例如参考专利文献3)。然而，上述的巡回移动式拾放方法虽然在各加工模块的处理时间比运送时间足够长时可轻松地执行运送机器人的运送动作而有效发挥作用，但在处理时间短时，运送机器人的应对会变得困难而运送效率或生产率下降。另一方面，如果紧接在运出(拾取)处理完的被处理物之后由对应加工腔室执行的后处理(例如净化、清洁等)消耗时间长，则运送5机器人为了对手持的未处理的被处理物进行放置(place)动作而待在该加工模块前直至其后处理结束，由于该长的等待时间，系统整体的生产率大幅下降。另外，如上所述，加工模块(加工腔室)的搭载数量具有增加的倾向，将平台内的衬底运送动作用一台真空运送机器人来全部处理将很快达到极限。专利技术人为了打破在集束型构架中使用一台真空运送机器人的平台的运送能力的极限，通过专利文献4提出一种真空处理装置，其中，在平台内通过两个移动台驱动机构使位于狭窄的通用运送空间内的两个移动台乃至臂机构在上下方向和水平方向上移动使得所述移动台乃至臂机构在水平状态下互不干涉地在上下方向上交换彼此的位置。专利文献1 日本专利文献特开平8-46013号公报；专利文献2 日本专利文献特开2007-12720号公报专利文献3 日本专利文献特开2006-190894号公报；专利文献4 日本专利文献特开2004-265947号公报。
技术实现思路
上述专利文献4所公开的以往的真空处理装置是在平台内实质上使两台运送机器人同时运转的方式，虽然由此提高了运送效率和生产率，但其尚存在若干未改善的问题。第一，各移动台驱动机构由于采用下方具有基部并能够在垂直(铅直)面上伸缩旋转的纵向多关节机器人的形式，因此在铅直方向上需要大的空间。并且，在该移动台驱动机构的上方使两组移动台乃至臂机构以可交换位置的方式在上下方向上移动。这里，臂机构的上方顶部的位置设定为对应于加工腔室的被处理物运入运出口的高度。因此，移动台驱动机构(特别是底座部)在比加工腔室低的位置空间内运转。但是，最近的加工模块在真空排气系统中常使用大体积的APC(Automatic Power Control，自动压力控制)阀，该APC阀需要在加工腔室下向平台侧突出的占有空间。由此， 由于加工模块的原因，平台比加工腔室低的下方空间必须空出，从而不能用于运送机构。 即，难以采用设置在平台上采取如上述的纵向多关节机器人的形式的移动台驱动机构的结构。第二，当在平台内相互交换或置换两个移动台的高度位置时，由于其他的移动台通过支承在各移动台上的被处理物之上，因此有可能在被处理物上附着粉尘。第三，当使移动台下降移动时，由于加速度提高，因此对于被处理物的保持力减弱，被处理物有可能滑动(偏移位置)。另外，移动台驱动机构(纵向多关节机器人)不仅如上述那样需要大的动作空间， 其本身也是大规模的部件，使得成本上难以实施。本专利技术是鉴于上述问题作成的，提供一种在集束型构架中不将平台的纵向空间相下方延伸，通过机构和动作简单且高效的真空运送机器人使运送能力大幅提高的真空处理装置以及真空运送装置。在本专利技术的真空处理装置中，包括真空运送室，所述真空运送室的室内被保持为负压状态；一个或多个真空处理室，与所述真空运送室的周围邻接地设置，并在负压下的室内对被处理物进行预定的处理；一个或多个装载固定室，与所述真空运送室的周围邻接地设置，所述装载固定室的室内选择性地被切换为大气状态或负压状态，并将在大气空间和所述真空运送室之间运送的被处理物暂时地留置；以及第一以及第二真空运送机器人，为了在所述装载固定室和某一所述真空处理室之间，或者在不同的所述真空处理室之间运送被处理物，而被设置在所述真空运送室内，所述第一以及第二真空运送机器人被构成为能够在从所述装载固定室侧观察而得的所述真空运送室的左侧运送区域和右侧运送区域中分别向纵深方向延伸的第一以及第二运送路径上分别在所述真空运送室内移动，所述第一真空运送机器人能够对于与所述左侧运送区域邻接的全部的所述真空处理室、与所述右侧运送区域邻接的至少一个所述真空处理室、以及至少一个所述装载固定室进行用于运入或运出被处理物的存取，所述第二真空运送机器人能够对于与所述右侧运送区域邻接的全部的所述真空处理室、与所述左侧运送区域邻接的至少一个所述真空处理室、以及至少一个所述装载固定室进行用于运入或运出被处理物的存取。另外，本专利技术的真空处理装置中的真空运送装置，其中，所述真空处理装置包括 一个或多个真空处理室，在室内被保持为负压状态的真空运送室的周围与所述真空运送室邻接地设置，并在负压下的所述真空处理室的室内对被处理物进行预定的处理；以及一个或多个装载固定室，与所述运送室邻接地设置，所述装载固定室的室内选择性地被切换为大气状态或负压状态，并将在大气空间和所述真空运送室之间运送的被处理物暂时地留置，所述真空运送本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种真空处理装置中，包括：真空运送室，所述真空运送室的室内被保持为负压状态；一个或多个真空处理室，与所述真空运送室的周围邻接地设置，并在负压下的所述真空处理室的室内对被处理物进行预定的处理；一个或多个装载固定室，与所述真空运送室的周围邻接地设置，所述装载固定室的室内选择性地被切换为大气状态或负压状态，并将在大气空间和所述真空运送室之间运送的被处理物暂时地留置；以及第一以及第二真空运送机器人，为了在所述装载固定室和某一个所述真空处理室之间，或者在不同的所述真空处理室之间运送被处理物，而被设置在所述真空运送室内，所述第一以及第二真空运送机器人被构成为能够在从所述装载固定室侧观察而得的所述真空运送室的左侧运送区域和右侧运送区域中分别向纵深方向延伸的第一以及第二运送路径上分别在所述真空运送室内移动，所述第一真空运送机器人能够对于与所述左侧运送区域邻接的全部的所述真空处理室、与所述右侧运送区域邻接的至少一个所述真空处理室、以及至少一个所述装载固定室进行用于运入或运出被处理物的存取，所述第二真空运送机器人能够对于与所述右侧运送区域邻接的全部的所述真空处理室、与所述左侧运送区域邻接的至少一个所述真空处理室、以及至少一个所述装载固定室进行用于运入或运出被处理物的存取。...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：广木勤，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。