涂料组合物制造技术

技术编号:7157205 阅读:264 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了抗反射涂料组合物,其包含具有染料或发色团结构部分和交联性官能团的聚合物、任选的交联性组分和一种或多种具有式W-(L-(G))p的光活性化合物,其中W是PAG或Q,其中PAG是光酸产生剂,Q是猝灭剂;每个L是直接键或连接基;每个G独立地是G1或G2;G1是OH;G2是OCH=CH2;p是1-12。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及可用作多层体系中的涂层的水性可显影涂料组合物和其中使用的新型化合物。
技术介绍
在数种工业(例如,清漆、印刷油墨、油漆和平版印刷市场)中,将多层体系与多种基材相关地使用。在有些情况下,这些体系含有酸可固化树脂。酸可固化树脂组合物含有至少一种能够酸催化缩聚的组分。这些材料为本领域技术人员所熟悉的;它们在工业上以大数量采用如对于许多应用而言合适的对它们的材料性能的改进而生产。在有些情况下, 材料交联而形成涂层。酸可固化树脂组合物可以含有例如,醇酸树脂、蜜胺树脂、脲树脂、胍胺树脂、酚醛树脂、聚酯树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、聚乙烯基树脂、乙烯基醚、乙烯基酯、 苯乙烯/取代的苯乙烯树脂、聚酰亚胺树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂和它们的混合物。混合物的实例包括,但不限于,蜜胺/(甲基)丙烯酸类树脂、蜜胺/聚酯树脂、蜜胺/醇酸树脂、 乙烯基醚/(甲基)丙烯酸类树脂、乙烯基醚/取代的苯乙烯树脂等。其中使用多层体系的一个实例是缩微光刻或光刻工业。光致抗蚀剂组合物用于缩微光刻方法,这些方法例如在计算机芯片和集成电路的制造中用于制造小型化电子元件。通常,在这些方法中,首先将光致抗蚀剂组合物的薄涂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.抗反射涂料组合物,其包含具有染料或发色团结构部分和交联性官能团的聚合物、任选的交联性组分和一种或多种具有以下式的光活性化合物W-(L-(G))p其中W是PAG或Q,其中PAG是光酸产生剂,Q是猝灭剂;每个L是直接键或连接基;每个G独立地是G1或G2;G1是OH;G2是OCH=CH2;p是1-12。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:F·M·霍利亨
申请(专利权)人:AZ电子材料美国公司
类型:发明
国别省市:US

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