当前位置: 首页 > 专利查询>刘华礼专利>正文

一种CTCP版的制备方法技术

技术编号:7062003 阅读:274 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种CTCP版的制备方法,它包括以下步骤:选择基片,对基片进行碱洗;然后用硫酸溶液对基片进行中和;对基片表面进行粗糙化处理;用水进行冲洗,除去基片表面的电解灰,在一定温度下通过碱溶液进行化学蚀刻,化学蚀刻后进行降温,再用酸溶液进行第一次清洗,最后再用清水进行第二次清洗;对清洗后的基片进行阳极氧化处理;将在酸性溶液中浸渍封孔处理,然后进行烘干;对烘干后的基片进行涂布,形成感光层;对形成感光层的基片,进行四道烘干处理,形成预制感光板;将预制感光板进行曝光成像,最后在成像后的预制感光板上涂有显影剂得到CTCP版。本发明专利技术不但不需要菲林片,而且拥有多层次的砂目,氧化密细致且密度好,耐印率较高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种CTCP版的制备方法
技术介绍
目前市场上生产的普通阳图PS版,均需要和菲林配套使用,不仅使得成本较高, 而且耐印率较低。
技术实现思路
本专利技术提供了一种CTCP版的制备方法,它不但不需要菲林片,而且拥有多层次的砂目,氧化密细致且密度好,耐印率较高。本专利技术采用了以下技术方案一种CTCP版的制备方法,它包括以下步骤步骤一, 首先选择基片,在一定温度下通过NaOH溶液对基片进行碱洗,然后再用清水进行清洗;步骤二,在正常温度下对清洗后的基片用硫酸溶液进行中和,然后再用清水进行清洗;步骤三,对清洗后的基片表面进行粗糙化处理;步骤四,将粗糙化后的基片用水进行冲洗,除去基片表面的电解灰,在一定温度下通过碱溶液进行化学蚀刻,化学蚀刻后进行降温,再用酸溶液进行第一次清洗,最后再用清水进行第二次清洗;步骤五,对清洗后的基片进行阳极氧化处理;步骤六,将经过氧化处理后的基片在酸性溶液中浸渍封孔处理,然后进行烘干;步骤七,对烘干后的基片进行涂布,形成感光层;步骤八,对形成感光层的基片,进行四道烘干处理,形成预制感光板;步骤九,将预制感光板进行曝光成像,最后在成像后的预制感光板上涂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种CTCP版的制备方法,其特征是它包括以下步骤:步骤一,首先选择基片,在一定温度下通过NaOH溶液对基片进行碱洗,然后再用清水进行清洗;步骤二,在正常温度下对清洗后的基片用硫酸溶液进行中和,然后再用清水进行清洗;步骤三,对清洗后的基片表面进行粗糙化处理;步骤四,将粗糙化后的基片用水进行冲洗,除去基片表面的电解灰,在一定温度下通过碱溶液进行化学蚀刻,化学蚀刻后进行降温,再用酸溶液进行第一次清洗,最后再用清水进行第二次清洗;步骤五,对清洗后的基片进行阳极氧化处理;步骤六,将经过氧化处理后的基片在酸性溶液中浸渍封孔处理,然后进行烘干;步骤七,对烘干后的基片进行涂布,形成感光层;步骤八,对形成感...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘华礼
申请(专利权)人:刘华礼
类型:发明
国别省市:32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1