一种CTCP版的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种CTCP版的制备方法，它包括以下步骤：选择基片，对基片进行碱洗；然后用硫酸溶液对基片进行中和；对基片表面进行粗糙化处理；用水进行冲洗，除去基片表面的电解灰，在一定温度下通过碱溶液进行化学蚀刻，化学蚀刻后进行降温，再用酸溶液进行第一次清洗，最后再用清水进行第二次清洗；对清洗后的基片进行阳极氧化处理；将在酸性溶液中浸渍封孔处理，然后进行烘干；对烘干后的基片进行涂布，形成感光层；对形成感光层的基片，进行四道烘干处理，形成预制感光板；将预制感光板进行曝光成像，最后在成像后的预制感光板上涂有显影剂得到CTCP版。本发明专利技术不但不需要菲林片，而且拥有多层次的砂目，氧化密细致且密度好，耐印率较高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种CTCP版的制备方法。
技术介绍
目前市场上生产的普通阳图PS版，均需要和菲林配套使用，不仅使得成本较高， 而且耐印率较低。
技术实现思路
本专利技术提供了一种CTCP版的制备方法，它不但不需要菲林片，而且拥有多层次的砂目，氧化密细致且密度好，耐印率较高。本专利技术采用了以下技术方案一种CTCP版的制备方法，它包括以下步骤步骤一， 首先选择基片，在一定温度下通过NaOH溶液对基片进行碱洗，然后再用清水进行清洗；步骤二，在正常温度下对清洗后的基片用硫酸溶液进行中和，然后再用清水进行清洗；步骤三，对清洗后的基片表面进行粗糙化处理；步骤四，将粗糙化后的基片用水进行冲洗，除去基片表面的电解灰，在一定温度下通过碱溶液进行化学蚀刻，化学蚀刻后进行降温，再用酸溶液进行第一次清洗，最后再用清水进行第二次清洗；步骤五，对清洗后的基片进行阳极氧化处理；步骤六，将经过氧化处理后的基片在酸性溶液中浸渍封孔处理，然后进行烘干；步骤七，对烘干后的基片进行涂布，形成感光层；步骤八，对形成感光层的基片，进行四道烘干处理，形成预制感光板；步骤九，将预制感光板进行曝光成像，最后在成像后的预制感光板上涂有显影剂得到CTCP版。所述的基片为铝板或者铝合金板；步骤一中的碱洗过程为用浓度为6-15%，温度为45°C的NaOH溶液对基片正反面进行冲洗，冲洗时间为30秒；步骤二中的中和过程为 在常温下，用浓度为18-20%的硫酸溶液对基片正反面进行冲洗，冲洗时间为30秒；步骤三中的粗糙化处理过程为将基片放入盐酸、磷酸溶液中，浓度为盐酸1.2% -1.5%，磷酸 0.6%,溶液温度为，交流电流为800A-900A，时间为1-120秒，进行三相电解，形成多层砂目；步骤四中化学蚀刻的温度为70°C，碱溶液包括的NaOH和6wt%铝离子， 化学蚀刻后温度降至30°C，酸溶液为含有的硫酸和0. 5wt%的铝离子；步骤五中的阳极氧化处理的过程为将基片放入电解质中通过直流电进行电解反应从而在基片的表面形成阳极氧化膜；电解质为硫酸、磷酸、铬酸、氨基磺酸、醋酸或者它们的混合物，电解温度为10-40°C，电流密度0. 5-60A/dm2,电压为l_50v，电解反应时间为10-120秒；步骤六中封孔工艺为酸性溶液为磷酸二氢钠、氟化锆钾溶液，比例为磷酸二氢钠氟化锆钾水= 10 1 1000，电导率为2800-3000 μ m，PH值为4-5，加热到50°C-60°c，将基片在酸性溶液中浸渍20-30秒，然后用40-50°C的热水进行清洗；步骤七中的涂布液为普通PS版的快速感光胶；步骤八中四道烘干，分别为105°C、80°C、8(TC、8(rC远红外加热管，时间均为90 秒。本专利技术具有以下有益效果本专利技术提供了一种CTCP版的制备方法，它不但不需要菲林片，而且拥有多层次的砂目，氧化密细致且密度好，耐印率较高。 具体实施例方式本专利技术提供了一种CTCP版的制备方法，它包括以下步骤步骤一，首先选择基片， 所述的基片为铝板或者铝合金板；在一定温度下通过NaOH溶液对基片进行碱洗，碱洗过程为用浓度为6-15%，温度为45°C的NaOH溶液对基片正反面进行冲洗，冲洗时间为30 秒；然后再用清水进行清洗。步骤二，在正常温度下对清洗后的基片用硫酸溶液进行中和， 中和过程为在常温下，用浓度为18-20%的硫酸溶液对基片正反面进行冲洗，冲洗时间为 30秒；然后再用清水进行清洗。步骤三，对清洗后的基片表面进行粗糙化处理，粗糙化处理过程为将基片放入盐酸、磷酸溶液中，浓度为盐酸1. 2% -1. 5%，磷酸0. 6 %，溶液温度为26-32°C，交流电流为800A-900A，时间为1_120秒，进行三相电解，形成多层砂目。步骤四，将粗糙化后的基片用水进行冲洗，除去基片表面的电解灰，在一定温度下通过碱溶液进行化学蚀刻，化学蚀刻的温度为70°C，碱溶液包括的NaOH和6wt%铝离子，化学蚀刻后温度降至30°C，再用酸溶液进行第一次清洗，酸溶液为含有Iwt %的硫酸和0. 5wt% 的铝离子，最后再用清水进行第二次清洗。步骤五，对清洗后的基片进行阳极氧化处理，阳极氧化处理的过程为将基片放入电解质中通过直流电进行电解反应从而在基片的表面形成阳极氧化膜；电解质为硫酸、磷酸、铬酸、氨基磺酸、醋酸或者它们的混合物，电解温度为 10-40°C，电流密度0. 5-60A/dm2,电压为l_50v，电解反应时间为10-120秒。步骤六，将经过氧化处理后的基片在酸性溶液中浸渍封孔处理，封孔工艺为酸性溶液为磷酸二氢钠、氟化锆钾溶液，比例为磷酸二氢钠氟化锆钾水=10 1 1000，电导率为2800-3000 μ m， PH值为4-5，加热到50°C -60°C，将基片在酸性溶液中浸渍20-30秒，然后用40_50°C的热水进行清洗；然后进行烘干。步骤七，用普通PS版的快速感光胶对烘干后的基片进行涂布，形成感光层。步骤八，对形成感光层的基片，进行四道烘干处理，形成预制感光板；四道烘干， 分别为105°C、80°C、80°C、8(rC远红外加热管，时间均为90秒。步骤九，将预制感光板进行曝光成像，最后在成像后的预制感光板上涂有显影剂得到CTCP版。权利要求1.一种CTCP版的制备方法，其特征是它包括以下步骤步骤一，首先选择基片，在一定温度下通过NaOH溶液对基片进行碱洗，然后再用清水进行清洗；步骤二，在正常温度下对清洗后的基片用硫酸溶液进行中和，然后再用清水进行清洗；步骤三，对清洗后的基片表面进行粗糙化处理；步骤四，将粗糙化后的基片用水进行冲洗，除去基片表面的电解灰，在一定温度下通过碱溶液进行化学蚀刻，化学蚀刻后进行降温，再用酸溶液进行第一次清洗，最后再用清水进行第二次清洗；步骤五，对清洗后的基片进行阳极氧化处理；步骤六，将经过氧化处理后的基片在酸性溶液中浸渍封孔处理，然后进行烘干； 步骤七，对烘干后的基片进行涂布，形成感光层； 步骤八，对形成感光层的基片，进行四道烘干处理，形成预制感光板； 步骤九，将预制感光板进行曝光成像，最后在成像后的预制感光板上涂有显影剂得到 CTCP 版。2.根据权利要求1所述的一种CTCP版的制备方法，其特征是所述的基片为铝板或者铝合金板。3.根据权利要求1所述的一种CTCP版的制备方法，其特征是步骤一中的碱洗过程为 用浓度为6-15%，温度为45°C的NaOH溶液对基片正反面进行冲洗，冲洗时间为30秒。4.根据权利要求1所述的一种CTCP版的制备方法，其特征是步骤二中的中和过程为 在常温下，用浓度为18-20%的硫酸溶液对基片正反面进行冲洗，冲洗时间为30秒。5.根据权利要求1所述的一种CTCP版的制备方法，其特征是步骤三中的粗糙化处理过程为将基片放入盐酸、磷酸溶液中，浓度为盐酸1. 2% -1. 5%，磷酸0. 6%，溶液温度为 ^-32°C，交流电流为800A-900A，时间为1_120秒，进行三相电解，形成多层砂目。6.根据权利要求1所述的一种CTCP版的制备方法，其特征是步骤四中化学蚀刻的温度为70°C，碱溶液包括^wt %的NaOH和6wt %铝离子，化学蚀刻后温度降至30°C，酸溶液为含有Iwt %的硫酸和0. 5wt%的铝离子。7.根据权利要求1所述的一种CT本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种ＣＴＣＰ版的制备方法，其特征是它包括以下步骤：步骤一，首先选择基片，在一定温度下通过ＮａＯＨ溶液对基片进行碱洗，然后再用清水进行清洗；步骤二，在正常温度下对清洗后的基片用硫酸溶液进行中和，然后再用清水进行清洗；步骤三，对清洗后的基片表面进行粗糙化处理；步骤四，将粗糙化后的基片用水进行冲洗，除去基片表面的电解灰，在一定温度下通过碱溶液进行化学蚀刻，化学蚀刻后进行降温，再用酸溶液进行第一次清洗，最后再用清水进行第二次清洗；步骤五，对清洗后的基片进行阳极氧化处理；步骤六，将经过氧化处理后的基片在酸性溶液中浸渍封孔处理，然后进行烘干；步骤七，对烘干后的基片进行涂布，形成感光层；步骤八，对形成感光层的基片，进行四道烘干处理，形成预制感光板；步骤九，将预制感光板进行曝光成像，最后在成像后的预制感光板上涂有显影剂得到ＣＴＣＰ版。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘华礼，
申请(专利权)人：刘华礼，
类型：发明
国别省市：32