对准系统、对准系统的控制方法、程序以及测定装置制造方法及图纸

提供一种能够在短时间内简单且高精度地测定被检查透镜的透射波阵面的测定装置、用于其的对准系统、对准系统的控制方法和程序。对准系统（４０）被用于具有干涉仪（２０）且测定被检查透镜（１０）的透射波阵面的测定装置（１），将被检查透镜（１０）的聚光点（ＣＰ）与反射型球面标准原器（２７）的球心进行对位，所述对准系统具有使载置被检查透镜（１０）的载置台（２５）移动的移动部（５０）和计算机（６０），并且具有根据所设定的移动方向和移动量来控制移动部（５０）的移动控制模块（７０），在方向判断模块（６４）判断为实际上明暗区域（１６）的中心（１７）向离开检测区域（２９ａ）的中心（２９ｂ）的方向移动的情况下，移动控制模块（７０）将所设定的移动方向重新设定为相反方向，并且控制移动部（５０）以使载置台（２５）向重新设定的移动方向移动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对准系统(alignment system)、对准系统的控制方法、程序以及测定装置。
技术介绍
专利文献1在其图10中公开了一种对被检查透镜的透射波阵面进行测定的斐索 (Fizeau)型干涉仪，记载了在测定之前为了得到干涉条纹而需要进行其图7 图9所示的调整和反射型球面标准原器(prototype)的位置调整。另外，专利文献2公开了一种斐索干涉仪，在该斐索干涉仪中，在由操作者在三轴方向上手动地将被检查透镜粗调到能够看到干涉条纹的程度之后，计算机根据干涉条纹的分析结果，在三轴方向上自动地对被检查透镜进行微调。被检查透镜在微调动作中，以比粗调动作更高的精度进行定位，以消除参照面与被检查透镜的位置偏差。另外，在对比文件3中也公开了在一旦得到干涉条纹后调节其位置(例如最浓的干涉条纹的位置)的两阶段自动对焦方法。专利文献1 日本特开2005-201703号公报专利文献2 日本特开2005-265586号公报专利文献3 日本特开平09-120006号公报
技术实现思路
但是，专利文献1的图7 图9所示的调整和反射型球面标准原器的位置调整繁杂，除了这些调整外，实际上还需要进行与被检查透本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种对准系统，被使用于对被检查透镜的透射波阵面进行测定的测定装置，该测定装置具有干涉仪，该干涉仪利用摄像设备检测由测定光和来自参照面的参照光形成的干涉条纹，其中所述测定光是来自光源的光通过所述被检查透镜后由反射型球面标准原器反射、并再次通过所述被检查透镜而生成的光，所述对准系统将所述被检查透镜的聚光点与所述反射型球面标准原器的球心进行对位，其特征在于，所述对准系统具有：移动部，使载置所述被检查透镜的载置台移动；和计算机，控制所述移动部对所述载置台进行的移动，其中，所述计算机具有：明暗区域识别模块，在所述摄像设备的摄像面的检测所述干涉条纹的检测区域内，识别具有阈值以上的亮度且比所述被检查透镜...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木秀和，
申请(专利权)人：佳能市场营销日本株式会社，
类型：发明
国别省市：JP