改进的分离装置制造方法及图纸

技术编号:714410 阅读:126 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种从基液中分离杂质的分离装置,它包括一个顶部结构,该结构至少有一部分悬伸到分离装置中的液体内。在一个实施例中,顶部结构14大体为倒圆锥形,流经分离装置的已去除杂质的液体通过一个流体调节件25,并且向上流出分离装置到达由倒锥形顶部结构构成的贮槽,该调节件可对液体中的环流产生阻滞。顶部结构还包括从其下部空间排放气体的装置30a,由此可保证全部的顶部结构能与液体接触,以有利于在分离装置的顶部区域减少液体中的环流。(*该技术在2013年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及分离装置,特别是那些从基液中去除杂质的分离器。在本说明书中,“基液”意指待要清除杂质的液体,“轻杂质”一词意指任何一种其比重比基液小的固体、半固体、半液体或液体,而“重杂质”一词则是指任何一种比重比基液大的固体、半固体、半液体或液体。现有技术中所公知的从基液中分离杂质的分离器,一般包括一个筒形容器,其轴线大体是垂直的,其顶部由平顶封闭,以圆锥状底部封闭其下部,以使其中心部分较其边缘部分低。该容器包括一个含杂质基液的进口,一个位于容器下部的重杂质出口,和/或一个位于容器上部的轻杂质出口,以及一个位于上部的已去除杂质的基液出口。从基液中分离重和/或轻杂质是通过在容器内产生环流实现的,一般是把含杂质的基液沿切线方向引入容器,这样在基液内环流产生层流,由此,在重力作用下可有助于轻杂质通过基液上升和/或重杂质通过基液沉降。如已说过的,在现有技术中所公知的上述这种类型的分离器已在例如公开号为2205512和2158741的英国专利中得以详细的描述。在所有的上述这种类型的分离器中,注入该盛装容器内的含杂质基液沿切线方向进入会引起进入容器的基液靠近容器的圆筒壁流动。由圆筒侧壁造成的“阻尼”会在环液中产生层流,于是重杂质容易沉降到容器的下部,同时轻杂质则容易通过该基液而升起。作用于该圆筒底部和循环液间的位于容器下部的摩擦在基液中产生层流,这使得该循环流会慢下来,在所述下部区域的液流流动速度要比进口处的液流慢得多,致使重杂质在该液体中不能升起,并由于容器为圆锥状底部,该重杂质被带到重杂质出口。由于层流,随着含杂质液体不断地进入容器,循环液的流动速度在向容器的中心区域方向逐渐减小,在该容器内的中央区域的上部已除去杂质的液体向上经由已去除杂质的液体出口排出。为使液体中由流体夹带的任何重杂质通过该容器上部区域中相对少动的液体而沉降,有效减缓该容器上部区域液体内的环流是重要的,为了有利于减缓环流,容器上部可设置所谓的“流体调节”件,容器顶部与液体间的摩擦在完成所要求的减缓过程中也起了很大作用。遗憾的是,在上述的已知类型的分离器中都包括了一个不能有规律起作用的平顶,这会使杂质从已除去杂质的液体出口被带出。还有,当该去除杂质后的液体出口由一个竖直向上的出口管构成时,则经常会需要泵压进口液体,以获得可迫使已去除杂质后的液体通过该出口管所要求的进口处压力,这对在该分离器内的所要求的液流会产生不利影响并较大地增加生产成本。本专利技术的目的是提供上述的这种类型的分离装置,该装置较现有技术中的分离器更有效、且性能更稳定。按本专利技术提供的一种分离装置,包括一个大体为筒状的壁部,一个封闭所述筒壁部下部的底部结构及一个封闭该筒壁部上部的顶部结构,一个基液进口,一个已去除杂质的基液出口,及一个杂质出口,其中所述顶部结构的至少一个区域伸进所述分离装置,且低于该顶部结构周边部分所在的平面。更好的则是所述顶部结构至少其中间部分伸入容器且低于其周边平面。一个优选实施例的顶部结构由一个径向向内且向下延伸的壁件组成。在一个实施例中,该壁件以一个倒圆锥形构成所述顶部。所述已去除杂质的液体出口最好由一个通过该顶部结构的轴向孔组成。所述用于杂质的出口最好是包括一个用于重杂质的且位于该分离装置下部的出口,还包括一个贮槽及由其延伸出的一根出口导管。在另一个实施例中,用于杂质的所述出口包括了一个用于轻杂质的出口,其位于该分离装置的上部,最好是在分离装置的最上部。一个优选实施例中的分离装置包括一个重杂质出口和一个轻杂质出口。该顶部结构最好包括一个环绕所述已去除杂质的液体出口并悬伸进分离装置内的圆筒壁。所述圆筒壁最好围着一个流体调节件,以防止在圆筒壁内产生环流。在最佳实施例中,所述顶部结构还包括一个从该顶部结构悬伸进该分离装置内环流调节件,它是圆筒壁状,且处在围绕已去除杂质的液体出口的圆筒壁径向向外。在一个实施例中,通过已去除杂质的液体出口的已去除杂质的液体蓄积在由顶部结构的外表面所限定的凹槽内,并且所说的蓄积液排到一个已去除杂质的液体排出导管。在优选实施例中,与顶部结构相通的每一个空间都具有从所说空间排放气体的装置。本专利技术现将参照附图和实施例作进一步描述,其中附图说明图1为按本专利技术的一个分离装置的沿其图2中Ⅱ-Ⅱ剖线的垂直剖视图;图2为图1所示分离装置的平面图。图示例子中,一个圆筒形分离容器11的中心轴线基本是垂直的,且所述容器11大致由一个圆筒壁12组成,壁12的下部由一个向下向内延伸的壁13封闭,壁13构成容器11的倒圆锥底部,且以一个顶14封闭其顶部。底部12包括一个贮槽15,其与容器11同轴线,一排放管16与贮槽15连通,通过阀17可关闭管16。该贮槽15和管16构成容器11的重杂质出口。顶14有一个孔14a,该孔是容器11的已去除杂质的液体出口。一个导管18与容器的上部区域连通,并构成容器的轻杂质出口。通过一个导管19向容器11供给含杂质的基液,基液自由地排放到一个箱20内。箱20有一个过滤器20a。过滤器横向延伸于箱的上部,但离箱20的上周边隔有一段距离。箱20经由导管21并通过切向排放件22排液进入容器11。向容器11切向地送入含杂质基液的方法在现有技术中是公知的,无庸赘述,在此需简单提及的是,沿切线方向进入容器11的含杂质液体,在容器11内产生环流,其大体与容器11的轴线同心,而箱20内的含杂质基液的液位则决定了驱使含杂质液体通过该分离容器11的液位差。另外,上述分离装置的操作方法与现有技术中分离器的操作方法相似,其中当容器11内充满基液时,另外的基液通过导管21和切向排放件22流入该容器11,该进入容器11的含有杂质的基液则产生大致与容器11的轴线同轴的环流。环流与容器11的内表面间的摩擦力造成环流内的层流,而所述环流和层流有利于在重力作用下使轻重杂质通过该液流排出。所述重杂质由邻近底部13的环流携带至贮槽15,而当该液体内所含重杂质比例高时,可连续开启阀门17使重杂质不断地从贮槽15经由导管16排出。在其他的结构中,阀17可以定期关闭,让重杂质积蓄在贮槽15内以定期排放。这种环流和层流对于轻杂质从基液中向上部排放也很有利,而且轻杂质可以连续或周期性地从容器11中通过导管18排出。由于环流与容器11内表面间,及环流和层流间的摩擦,环流速度沿着向容器11的中心轴方向减小,还因为由箱20内液位差造成的压力,在容器11的中央区域内液体大体以螺旋方式上升,并且已去除杂质后的液体在容器11内通过由孔14a限定的已除去杂质的体液出口排出。如前所述分离装置的操作方法在本
内是公知的。本专利技术的分离装置与现有技术中的分离器的不同之处在于容器11的上部结构,特别是顶14及通过所述上部结构在液体内所产生的流型变化。在图示的实施例中,顶14大体包括一个向内向下延伸的壁23,该壁23构成容器11的一个倒置的圆锥顶部14;和轴向穿过该壁23的孔14a。这样,该倒圆锥顶部构成了用作通过孔14a上升的已去除杂质后的液体的一个贮槽。圆筒壁24从孔14a的周边向下悬伸,并与容器11同轴。该筒壁24包括一个由四块板26、27、28和29组成的十字叉架25,这四块板绕筒壁24的轴线圆周方向等距离间隔设置,其主面与容器11的轴线基本平行。壁23还支承着一个伸进容器1本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种分离装置,包括一个大体为筒状的壁部、一个封闭所说筒状壁部下部的底部结构及一个封闭所说筒状壁部上部的顶结构、一个基液进口、一个已去除杂质的基液出口和一个杂质出口,其特征在于,所说顶结构的至少一个区域伸进所说的分离装置,所说区域低于所说顶结构的周边部分所在的平面。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:奥尔本蒂蒙斯
申请(专利权)人:清水有限公司
类型:发明
国别省市:GB[英国]

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