【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及形成有微细图案的转印体、其制造方法。
技术介绍
具有微细图案的树脂成型体可用作光学元件(微透镜阵列、光波导、光开关、菲涅耳环板、二元光学元件、闪耀光学元件、光子晶体等)、抗反射滤光片、生物芯片、微反应器芯片、记录介质、显示器材料、催化剂载体等。近年来，在要求设备达到小型化等的同时，也要求其图案进一步微细化。作为这种表面上具有微细结构的树脂成型体的制造方法，已提出了将具有微细图案的模具上的图案转印到树脂上从而制造形成有微细图案的转印体的方法、即所谓的纳米压印法的方案(例如，专利文献1、专利文献2)。另外，在半导体制造工序中，作为替代照相平版印刷法的方法，已提出了通过在硅基板上涂布抗蚀剂，并压合形成有微细图案的模具，从而将微细图案转印到抗蚀剂上的纳米压印法(例如，专利文献3、专利文献4)。但是，在上述任一纳米压印法中，均存在如下问题在使模具脱离的工序中，模具不能平滑脱离，转印体上的微细图案的形状精度下降。因此，为了使模具平滑地脱离，已尝试了在模具表面涂布脱模剂的方法。在这种情况下，存在由于脱模剂层的膜厚不均而导致模具的图案精度下降的问题，另外还存在如...
【技术保护点】
１．一种转印体，其为转印有模具表面的微细图案的转印体，其特征在于，由含有通式（１）表示的重复结构单元且氟原子含有率为４０～７５质量％的含氟环状烯烃聚合物组成，式（１）中，Ｒ１～Ｒ４中的至少１个为氟、含氟的碳原子数１～１０的烷基、含氟的碳原子数１～１０的烷氧基、或含氟的碳原子数２～１０的烷氧基烷基；Ｒ１～Ｒ４是不含氟的基团时，Ｒ１～Ｒ４选自氢、碳原子数１～１０的烷基、碳原子数１～１０的烷氧基、或碳原子数２～１０的烷氧基烷基；Ｒ１～Ｒ４可以相同也可以不同；Ｒ１～Ｒ４可以相互结合而形成环结构。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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