【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术提供阴图制版可成像元件，如包含水溶性对比染料的阴图制版平版印刷印版前体。它还涉及使用这些可成像元件的方法。
技术介绍
对辐射敏感的组合物通常用于制备包括平版印刷印版前体在内的可成像材料。这类组合物通常包含对辐射敏感的组分、引发剂体系和粘合剂，各自都是研究的焦点以在物理特性、成像性能和成像特征方面提供各种改进。此类组合物通常作为可成像层提供。印版前体领域中的最新进展涉及对辐射敏感的组合物的使用，所述对辐射敏感的组合物可通过激光器或激光二极管成像，更具体而言，可在机成像和/或显影。由于激光器可通过计算机直接控制，激光曝光不需要常规卤化银制版软片作为中间信息载体(或“蒙片”)。可用于可商购到的图文记录机的高性能激光器或激光二极管通常发射波长为至少 700nm的辐射，因此要求所述对辐射敏感的组合物在电磁谱的近红外或红外区域敏感。然而，设计了其它有用的对辐射敏感的组合物，以使用紫外或可见辐射成像。存在两种可能的方式使用对辐射敏感的组合物制备印版。对阴图制版印版而言， 在显影过程中，对辐射敏感的组合物中的曝光区域被硬化而未曝光区域被洗掉。对阳图制版印版而言，曝光区...
【技术保护点】
１．阴图制版可成像元件，包括其上具有可成像层的衬底，所述可成像层包含：可自由基聚合的组分，引发剂组合物，其在曝光于成像辐射后能产生足以引发所述可自由基聚合的组分聚合的自由基，吸收辐射的化合物，聚合物粘合剂，和水溶性对比染料，所述染料的λｍａｘ在４５０至７５０ｎｍ范围内且在用于曝光的波长下的吸光率比所述对辐射敏感的化合物的吸光率低１０％，所述对比染料以足够的Ｈ－聚集存在，使得低于所述对比染料的整个吸收光谱的４０％由非Ｈ－聚集形式的所述对比染料贡献。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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