阴图制版可成像元件制造技术

阴图制版可成像元件可用于制备平版印刷印版。这些元件包含水溶性对比染料，所述染料的λｍａｘ在４５０至７５０ｎｍ范围内且在用于曝光的波长下的吸光率比所述元件中对辐射敏感的化合物的吸光率低１０％。所述对比染料以足够的Ｈ－聚集存在，使得低于所述对比染料的整个吸收光谱的４０％由非Ｈ－聚集形式的对比染料贡献。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术提供阴图制版可成像元件，如包含水溶性对比染料的阴图制版平版印刷印版前体。它还涉及使用这些可成像元件的方法。
技术介绍
对辐射敏感的组合物通常用于制备包括平版印刷印版前体在内的可成像材料。这类组合物通常包含对辐射敏感的组分、引发剂体系和粘合剂，各自都是研究的焦点以在物理特性、成像性能和成像特征方面提供各种改进。此类组合物通常作为可成像层提供。印版前体领域中的最新进展涉及对辐射敏感的组合物的使用，所述对辐射敏感的组合物可通过激光器或激光二极管成像，更具体而言，可在机成像和/或显影。由于激光器可通过计算机直接控制，激光曝光不需要常规卤化银制版软片作为中间信息载体(或“蒙片”)。可用于可商购到的图文记录机的高性能激光器或激光二极管通常发射波长为至少 700nm的辐射，因此要求所述对辐射敏感的组合物在电磁谱的近红外或红外区域敏感。然而，设计了其它有用的对辐射敏感的组合物，以使用紫外或可见辐射成像。存在两种可能的方式使用对辐射敏感的组合物制备印版。对阴图制版印版而言， 在显影过程中，对辐射敏感的组合物中的曝光区域被硬化而未曝光区域被洗掉。对阳图制版印版而言，曝光区域溶解于显影剂中而未曝光区域变成图像。可将对比染料加入可成像元件中，以提高曝光和非曝光区域之间的差异、在曝光区域具有深的对比、对烤干板而言在曝光和无图像区域之间具有至少一些对比、在联机制造过程中具有一定的对比以保持高质量和产量，及在曝光和非曝光区域之间获得对比以更容易地检测曝光材料的故障。因此，所述对比染料应具有大的消光系数以获得强对比、是惰性的且不参与光吸收引起的材料转化，高负荷下容易分散于PH < 10的碱性冲洗溶液中，所述高负荷促进这些材料进行样品冲洗。包含感光性聚合物的可成像元件已成为对比染料的可能用途。具体而言，由于以上提及的一些原因，在紫光或近红外区域的数码成像大多需要加入对比染料。不均勻体系可包括对比颜料或均勻体系可包括可溶性对比染料。可溶性对比染料的使用使得更可能使用pH < 10的碱性pH显影剂冲洗成像元件，因此，其开创了简单冲洗的可能性。这可能导致对紫光和近红外成像元件使用单一冲洗溶液。尽管有一些缺点，颜料作为感光性聚合物的对比材料已变得非常引人注目。使用颜料作为对比材料已描述于，例如日本公开专利2002-189295和EP 1，070, 990 (Sorori等人)及1，520，695 (Goto)中。用水或有机溶剂可溶性染料代替颜料的许多努力已经失败。 用水溶性对比染料代替颜料是有利的，这是因为颜料在冲洗溶液中会凝聚，在显影机中产生不需要的残渣和高负荷(需要时常清洗)和较短的负荷周期。WO 2008/046775 (Callant等人)描述了水溶性对比染料在平版印刷印版中的应用，其利用颗粒的聚集来提供图像。这类印版的速度不合宜地低。利用聚集形成图像的印版仅需要热辐射，如近红外激光。专利技术概述本专利技术提供阴图制版可成像元件，它包括其上具有可成像层的衬底，所述可成像层包含可自由基聚合的组分，引发剂组合物，其在曝光于成像辐射后能产生足够引发所述可自由基聚合的组分聚合的自由基，吸收辐射的化合物，聚合物粘合剂，和水溶性对比染料，所述染料的λΜχ在450至750nm的范围内且在用于曝光的波长下的吸光率比所述对辐射敏感的化合物的吸光率低10%，所述对比染料以足够的H-聚集存在，使得低于所述对比染料的整个吸收光谱的40%由非H-聚集形式的所述对比染料贡献。本专利技术还提供制备成像的元件的方法，其包括A)将本专利技术阴图制版可成像元件成影像地曝光，以形成曝光区域和非曝光区域，B)经过或不经过预热步骤，使成影像的曝光元件显影，以主要除去仅所述非曝光区域。我们已经发现在阴图制版可成像元件中使用水溶性对比染料的方法，所述水溶性对比染料对电磁谱的“紫光”和红外区域特别敏感。这些水溶性染料在可见区域吸收且在 405和830nm表现出几乎无吸收。所述可成像元件具有足够的速度(即使使用低强度的激光成像源(紫光二极管曝光))且具有提高的粘附性，如与包含对比颜料的类似可成像元件相比，微结构元件的外观更好所示。此外，所得图像具有提高的分辨率，如在较高网屏值中阴影的更好开放阴景i (as demonstrated by the better opening of shadows in the higher screen values)所示，在较高网屏值下在pH < 10的碱性冲洗溶液中在冲洗过程中微结构元件在衬底上展示所需的粘附性，在所述冲洗过程中对比染料没有发生沉淀。此外，当所述可成像元件具有作为隔氧层的顶涂层时，对比染料也可结合于该顶涂层中，以用作过滤器以改善室内光安全性(黄光)。可用于本专利技术的水溶性对比染料通常水溶性大于15g/升并在它们结合于对辐射敏感的可成像层中后产生H-聚集。这意味着对比染料的H-聚集是主要的，从而与聚集的染料分子的总吸收相比，非H-聚集的染料分子的吸收较低。例如，希望相对于对比染料(非 H-聚集和H-聚集的染料)的全部总吸收，非H-聚集的染料分子的吸收低于40%。通过考虑附图说明图1，能确定如何少量聚集染料的实例(An example of how the fractional amount of aggregated dye can be determined by consideration of FIG. 1)。H-聚集染料分子的形成得益于染料在可成像层中的独特溶解度，也就是说，对比染料容易溶于用于可成像层的疏水性有机涂层中。我们出乎意料地发现通过将水溶性对比染料结合于疏水性可成像层中，产生良好运行和展示高的光密度的高度感光的可成像层。因此，我们已经得到具有深度对比的平版印刷印版。H-聚集体的形成优先受到以下因素的促进花青染料的使用、能增强疏水性涂层中超分子组合体的形成的金属离子/盐的添加和增强超分子组合体(H-聚集的染料)的形成的冠醚或半冠醚(例如聚乙二醇)的加入。我们发现本专利技术可成像元件能容易地成像并在一浴中使用简单冲洗方法(在显影前后不需要水清洗步骤)和具有较弱碱度的溶液冲洗。即使在更高负荷下冲洗溶液仍更干净且不需经常清洁或补充。然而，因为本专利技术也能扩展到标准方法，所以仅优选简单冲洗。所述顶涂层可任选具有作为过滤材料的对比染料。所以对比染料不容易在亲水性上涂层中聚集，我们已经发现提高的黄光和白光稳定性。附图简述图1为水溶性对比染料2在a)顶涂层(95% Celvol和5 % 2)和b)底涂层 02.41%聚合物？1、3.9%2、1%1^731^『PM2、42%的30重量％ (溶剂甲基乙酮)溶液 (具有由六亚甲基二异氰酸酯+甲基丙烯酸(2-羟基乙基)酯+2-(2-羟基乙基)-哌啶的反应制备的低聚物)、7. ;35%BPE-500、13. 7% Si,3. 3% 2，2_ 二 (2-氯苯基)-4，5，4'， 5'-四苯基-2' H-联咪唑、6. 巯基三唑和0. %表面活性剂)中的UV-VIS 光谱图示。专利技术详述除非上下文另外指出，在本文中使用时，术语“阴图制版可成像元件”和“平版印刷印版前体”意味着提及本专利技术实施方案。此外，除非上下文另外指出，本文中描述的各组分如“可自由基聚合的组分”、“吸收辐射的化本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．阴图制版可成像元件，包括其上具有可成像层的衬底，所述可成像层包含：可自由基聚合的组分，引发剂组合物，其在曝光于成像辐射后能产生足以引发所述可自由基聚合的组分聚合的自由基，吸收辐射的化合物，聚合物粘合剂，和水溶性对比染料，所述染料的λｍａｘ在４５０至７５０ｎｍ范围内且在用于曝光的波长下的吸光率比所述对辐射敏感的化合物的吸光率低１０％，所述对比染料以足够的Ｈ－聚集存在，使得低于所述对比染料的整个吸收光谱的４０％由非Ｈ－聚集形式的所述对比染料贡献。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：B·施特勒梅尔，
申请(专利权)人：伊斯曼柯达公司，
类型：发明
国别省市：US