透明覆膜层形成用树脂组合物和层积体制造技术

本发明专利技术的目的在于提供透明覆膜形成用涂布组合物以及利用该组合物的层积体，所述透明覆膜形成用涂布组合物用于在不使用润滑剂等的情况下形成具有耐擦伤性和耐磨耗性、可挠性优异、硬度充分的透明覆膜。本发明专利技术涉及透明覆膜层形成用树脂组合物及其制造方法、以及层积体，所述透明覆膜层形成用树脂组合物的特征在于，其含有（Ａ）具有反应性官能团的有机硅化合物以及（Ｂ）多硫醇化合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及透明覆膜层形成用树脂组合物、层积体以及透明覆膜的制造方法。
技术介绍
近年来，作为市场需求增大的便携信息终端所用的输入装置，采用的是触摸屏。该触摸屏为通过直接用手指、触控笔等接触显示屏画面来输入数据的装置。在上述触摸屏中， 目前约有9成采用的是被称为电阻膜方式的触摸屏。电阻膜方式的触摸屏一般具有这样的结构将触摸侧塑料基板和显示屏侧透明基板隔着绝缘间隔物对向配置，以使各透明导电性薄膜相对向，所述触摸侧塑料基板在透明塑料基材的单侧面层积有锡掺杂氧化铟(ITO) 膜等透明导电性薄膜，并且所述显示屏侧透明基板在玻璃等透明基材的单侧面层积有ITO 膜等透明导电性薄膜。另外，利用触控笔或手指对触摸侧塑料基板的触摸输入面(指的是与透明导电性薄膜相反侧的面。)进行按压，使触摸侧塑料基板的透明导电性薄膜与显示屏侧透明基板的透明导电性薄膜接触，来进行输入。但是，在这样的电阻膜方式触摸屏中，由于反复进行输入操作，即由于触摸侧塑料基板的透明导电性薄膜与显示屏侧透明基板的透明导电性薄膜的反复接触，产生如下问题触摸侧表面会发生损伤、触摸侧塑料基板(基材膜)的透明导电性薄膜会发生磨耗、产生裂纹、或者进一步地会从基材发生剥离等。因此，为了解决这样的问题，通常在触摸侧表面以及透明塑料基材和透明导电性薄膜之间设有由合成树脂构成的硬膜层。以往，作为这样的硬膜层，多使用丙烯酸系或甲基丙烯酸系树脂等(例如专利文献1、专利文献2等)，但对于由丙烯酸系或甲基丙烯酸系树脂形成的硬膜层来说，尽管在硬度方面出色，但有可挠性差这样的问题。因此，在对触摸屏表面进行成型时，由于可挠性不足，因此在金属模具表面的可转移性方面具有问题、具有产生龟裂的问题、或者进一步地硬膜层可能还会自基材发生脱落，而具有在成型性方面有限这样的问题。另外，还针对由对丙烯酸系树脂进行改性的聚氨酯丙烯酸酯系树脂构成的硬膜层进行了研究(例如专利文献3)，该硬膜层具有可挠性，而另一方面硬度低，在耐擦伤性和耐磨耗性方面很差，在这一点上还有在实用上进行改善的余地。另一方面，还进行了通过在含有树脂的清漆中加入添加剂而对硬膜层进行改性的尝试。例如，还进行了这样的研究通过添加填充材料、在表面形成凹凸形状而提高光滑特性；或者添加硅油来赋予光滑性(例如专利文献4)。进一步地，还进行了这样的研究通过使用添加了脂肪酰胺或蜡等润滑剂的清漆来形成涂膜，从而提高光滑性、赋予耐磨耗性。但是，对于填充材料来说，根据其所具有的折射率或粒径，透明性会受损，并且其添加量也是有限的。另外，在填充材料为润滑剂的情况下，表面的光滑性会提高，从而具有这样的问题 在将板状的产品材料堆积起来进行运输时会造成装载的货物垮下，或者，在进行装配时，在利用接合剂对表面进行接合时，导致粘接阻碍。另外，在向最终产品贴附标签等时会发生脱落，具有最终使用者无法向表面粘贴装饰用的标签或注意事项等注释的不便。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开2004-182765号公报专利文献2 日本特开2005-2M470号公报专利文献3 日本特开2001-147777号公报专利文献4 日本特开2003-11292号公报
技术实现思路
如上所述，作为能够用于硬膜层、特别是触摸屏用硬膜层的原料，希望开发出在可挠性、硬度、耐擦伤性和耐磨耗性方面完全令人满意的材料。在这样的状况下，本专利技术的目的在于提供透明覆膜层形成用树脂组合物以及利用该组合物的层积体，所述透明覆膜形成用涂布组合物用于在对于塑料基材等表面材料不使用润滑剂等情况下形成具有耐擦伤性和耐磨耗性、可挠性优异、硬度充分的透明覆膜。本专利技术人进行了深入研究，结果发现，通过使用具有特定组成的组合物、具体地说使用含有有机硅化合物和多硫醇化合物的组合物，可获得在可挠性与硬度的平衡方面优异的透明覆膜，从而完成了本专利技术。即，本专利技术的第一方式涉及一种透明覆膜层形成用树脂组合物，该透明覆膜层形成用树脂组合物的特征在于，其含有下述成分(A)和(B)(A)具有反应性官能团的有机硅化合物(B)多硫醇化合物。上述组合物优选在500mJ/cm2以上且2，000mj/cm2以下的累积照射量的紫外线照射下具有固化性。在优选的实施方式之一中，本专利技术的透明覆膜层形成用树脂组合物进一步含有 (C)光产酸剂。在含有(C)成分光产酸剂的情况下，上述组合物优选在lOOmJ/cm2以上且不足500mJ/cm2的累积照射量的紫外线照射下具有固化性。在上述组合物中，优选上述有机硅化合物(A)至少在其一部分含有在1个分子内具有1个以上碳-碳不饱和键的化合物。上述有机硅化合物优选为乙烯基三乙酰氧基硅烷。本专利技术的第二方式涉及具有塑料基材和由上述透明覆膜层形成用树脂组合物形成的透明覆膜层的层积体，其中，上述透明覆膜层设于上述基材的至少一方表面侧；上述透明覆膜层的铅笔硬度为2H以上、且在心轴试验中不产生龟裂的心轴的最小直径为5mm以下。本专利技术的第三方式涉及透明覆膜的制造方法，其包括将含有(A)具有反应性官能团的有机硅化合物以及(B)多硫醇化合物的树脂组合物涂布在基材上的工序、以及对该组合物进行固化得到透明覆膜的工序，其中，在上述得到透明覆膜的工序中，包括对上述组合物进行紫外线照射的操作。在优选的实施方式中，照射至上述组合物的紫外线的累积照射量为500mJ/cm2以上且2，000mj/cm2以下。在另外的优选方式中，上述树脂组合物进一步含有(C)光产酸剂，照射至上述组合物的紫外线的累积照射量为lOOmJ/cm2以上且不足500mJ/cm2。由本专利技术的透明覆膜层形成用树脂组合物形成的透明覆膜在可挠性以及硬度、擦伤性和耐磨耗性方面优异。因此，该透明覆膜为适于用作硬膜层的材料。 具体实施例方式本专利技术的透明覆膜层形成用树脂组合物为含有下述成分的组合物(A)具有反应性官能团的有机硅化合物、以及(B)多硫醇化合物。首先对(A)成分的具有反应性官能团的有机硅化合物进行说明。有机硅化合物为作为透明覆膜的硬段发挥功能的物质。作为具有反应性官能团的有机硅化合物并无特别限制，但优选为通过水解、缩合反应而形成非晶态氧化硅的物质。在本申请说明书中，有机硅化合物所具有的“反应性官能团，，具体是指巯基反应性基团、即与巯基(-SH)进行加成反应的官能团。对这样的反应性官能团没有特别限定，但作为优选的实例，可以举出具有乙烯基、烯丙基和链烯基等碳-碳不饱和键的基团、以及环氧基、苯乙烯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基和异氰酸酯基等。其中特别优选具有碳-碳不饱和键的基团。上述有机硅化合物(A)可以为一种，也可以为两种以上的混合物，上述有机硅化合物(A)优选在其至少一部分含有在1分子内具有1个以上上述那样的碳-碳不饱和键的化合物。对具有反应性官能团的有机硅化合物㈧没有特别限定，但可以举出例如下式所示的有机硅化合物及其水解物。R1aR2bSi(OR3)4-(^b)R1aR2bSiX4^atw(此处，R1为无取代的、或者被选自由乙烯基、环氧基、苯乙烯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、异氰酸酯基组成的组中的反应性官能团所取代的碳原子数为1 6的烷基，R2 为碳原子数为1 3的烷基、碳原子数为2 10的链烯基、碳原子数为2 10的环烷基、 碳原子数为1 10的卤化烷基、碳原子数为6 10的芳基，R3为碳原本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种透明覆膜层形成用树脂组合物，该透明覆膜层形成用树脂组合物的特征在于，其含有下述成分（Ａ）和（Ｂ）：（Ａ）具有反应性官能团的有机硅化合物；（Ｂ）多硫醇化合物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：长川敬一，
申请(专利权)人：堺化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP